技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

パワーエレクトロニクス + 電源 + インバータ + コンバータ + 電子部品 + 半導体のセミナー・研修・出版物

電子部品の特性とノウハウ (1)

2026年7月9日(木) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

SiC半導体における表面形態制御とメカニズム

2026年7月9日(木) 12時30分 ~ 2026年7月16日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiCを中心として表面の構造・形態制御とそのメカニズム、ステップバンチング制御と結晶成長、ステップアンバンチング現象の発見などについて紹介いたします。

モータ騒音・振動の基礎と低減対策法 (応用編)

2026年7月9日(木) 10時00分 ~ 16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、モータ振動・計測・評価、モータ電磁騒音、永久磁石モータ騒音、ファン騒音、システム装置騒音など、モータ騒音・振動と低減対策について、講師の長年の経験と研究に基づき、事例を交えて、分かりやすく解説いたします。

パワーデバイスの結晶欠陥評価技術とその動向

2026年7月8日(水) 13時00分 ~ 16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、ワイドギャップ半導体の結晶評価技術の開発に焦点を当て、評価技術の原理と事例を基礎から解説いたします。

SiC半導体における表面形態制御とメカニズム

2026年7月8日(水) 12時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiCを中心として表面の構造・形態制御とそのメカニズム、ステップバンチング制御と結晶成長、ステップアンバンチング現象の発見などについて紹介いたします。

先端半導体デバイスにおける多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化技術 (2日間)

2026年7月7日(火) 13時00分 ~ 17時00分
2026年7月29日(水) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

先端メモリ・ロジックデバイスのためのCu及びPost-Cu多層配線技術の基礎から最新動向

2026年7月7日(火) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

半導体製造における後工程・実装・設計の基礎

2026年7月3日(金) 13時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎とプロセス制御技術

2026年7月3日(金) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から解説し、エッチング工程のばらつき、異常を防ぐ考え方と制御方法について詳解いたします。

半導体パッケージ技術の基礎講座

2026年7月2日(木) 13時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パッケージ技術の進化と要素技術を、基本的な方式や製造方法から最新の方式までをわかりやすく解説いたします。

電子回路の公差設計入門

2026年6月30日(火) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

モータ技術の基礎と実務入門 (設計・選定・評価・保全)

2026年6月30日(火) 10時00分 ~ 16時30分
東京都 開催 オンライン 開催

本セミナーでは、モータ技術について取り上げ、モータの設計・選定・評価・保全を一貫して解説いたします。
熱・絶縁、騒音・振動 (NVH) 、トルク特性、信頼性の各要素を横断的に整理し、現場で使える判断力と対策力を習得いただけます。
さらに状態監視やAIによる予兆診断の基礎も解説し、トラブル未然防止と品質向上に直結する視点を提供し、モータの基礎から実務までを体系的に学んでいただけます。

積層セラミックコンデンサ (MLCC) の設計、材料技術、開発動向と課題

2026年6月29日(月) 13時00分 ~ 2026年7月10日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、MLCC開発で求められる技術、設計の考え方を概説いたします。
主にNi内部電極MLCCで薄層素子を形成するBaTiO3 (BT) 粉末の合成およびBT誘電体セラミックスの設計指針として、格子欠陥の生成、ドナーやアクセプター元素などによる異種元素置換による格子欠陥制御など、熱力学的考察を交えて材料組成開発に係わる組成設計を説明いたします。

半導体パッケージの反り対策に向けた材料開発と測定技術

2026年6月29日(月) 13時00分 ~ 17時10分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体パッケージング技術について取り上げ、反り、吸湿、不純物、ボイドなどのトラブルの原因と対策、基板の大型化に伴う高密度化・高集積化へ向けた課題と対応について詳解いたします。

透明導電材料・膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向

2026年6月29日(月) 13時00分 ~ 2026年7月9日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、透明導電材料の基礎、塗布型透明導電膜の特徴からタッチパネル、EMC対策部材、太陽電池への適応まで最新情報を元に具体的に紹介いたします。

パワーデバイス半導体SiC結晶と欠陥評価技術

2026年6月29日(月) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiC結晶やその欠陥の種類、デバイス特性への影響についてレビューした後、結晶欠陥の評価手法に関して解説いたします。

電子機器ノイズ対策のポイント

2026年6月29日(月) 10時30分 ~ 2026年7月6日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子装置のグラウンド、シールドの基礎から解説し、その設計と実際を詳しく解説いたします。

電子機器・部品の未然防止と故障解析

2026年6月29日(月) 10時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性・故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を用いて説明いたします。

光容量分光法によるワイドギャップ半導体の欠陥準位評価

2026年6月26日(金) 13時00分 ~ 2026年7月10日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、バンドギャップが大きくなるほど評価困難になる欠陥準位評価法の1つである光容量分光法の特徴や測定方法について、従来の評価技術と比較しながら測定原理から応用例までわかりやすく解説いたします。

電子機器ノイズ対策のポイント

2026年6月26日(金) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子装置のグラウンド、シールドの基礎から解説し、その設計と実際を詳しく解説いたします。

電気自動車、ハイブリッド車と車載部品の高電圧絶縁品質評価法、関連のIEC国際規格と樹脂材料の高性能化に向けた特性評価

2026年6月26日(金) 10時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、絶縁材料の劣化要因とメカニズムや評価法、自動車産業の電動化に向けた絶縁材料の耐電圧化、耐熱化、高熱伝導性についての技術ノウハウについて詳解いたします。

オフライン電源の設計 (3)

2026年6月25日(木) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

光容量分光法によるワイドギャップ半導体の欠陥準位評価

2026年6月25日(木) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、バンドギャップが大きくなるほど評価困難になる欠陥準位評価法の1つである光容量分光法の特徴や測定方法について、従来の評価技術と比較しながら測定原理から応用例までわかりやすく解説いたします。

半導体封止材の基礎と最新開発動向

2026年6月25日(木) 13時00分 ~ 15時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体封止材の役割を起点とし、固形封止材 (EMC) における原材料構成や役割、液状封止材 (CUF) の要求特性やEMCとの比較について解説いたします。
また、パワー半導体向け封止材を対象として、設計方針、材料技術、評価技術だけでなく、成型方式の進化や、AIサーバー等に使用される先端PKG向け封止材の設計・改良指針についても解説いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (前編)

2026年6月25日(木) 10時30分 ~ 2026年7月8日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (2日間)

2026年6月25日(木) 10時30分 ~ 2026年7月8日(水) 16時30分
2026年6月25日(木) 10時30分 ~ 2026年7月8日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

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