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精密洗浄のセミナー・研修・出版物

半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ

2022年8月26日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

開発段階に応じた品質規格設定とValidation (特に分析法バリデーション) 実施範囲

2022年8月8日(月) 10時30分2022年8月18日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、各開発段階 (非臨床試験~NDA) における、規格やValidation、製剤を (CQAとの関連を含め) どう考えるか、どこまでデータが必要か、どうあるべきかについて、IQ Consortiumの議論を基に、その取り組み、そして講師の考えを紹介いたします。

半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

2022年7月29日(金) 13時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

開発段階に応じた品質規格設定とValidation (特に分析法バリデーション) 実施範囲

2022年7月26日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、各開発段階 (非臨床試験~NDA) における、規格やValidation、製剤を (CQAとの関連を含め) どう考えるか、どこまでデータが必要か、どうあるべきかについて、IQ Consortiumの議論を基に、その取り組み、そして講師の考えを紹介いたします。

効果的な洗浄バリデーションのポイントと失敗事例及び対応策

2022年6月26日(日) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションについて基礎から解説し、各種規制文書が求める洗浄バリデーション実施上の留意点、洗浄バリデーション時に検討すべき事項と対応事例、残留限度値設定の考え方と具体的な計算方法、査察対応のポイントと具体的な指摘事項、ヒューマンエラーの防止、高活性物質取り扱いエリアにおける洗浄バリデーションの留意点について詳解いたします。

半導体デバイスの物理的洗浄技術と静電気障害への対策

2022年6月16日(木) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2022年6月9日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2022年5月31日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

2022年5月25日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

医療機器 洗浄バリデーションセミナー

2022年5月20日(金) 13時30分16時30分
オンライン 開催

半導体デバイス製造工程における物理的洗浄技術の基礎とそのプロセス

2022年4月28日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の基礎、流体力学、電磁気学、AIから解説し、物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
また、半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセスの中でもスプレー、超音波、ブラシを利用した物理的洗浄方法とその際に生じる静電気障害への対策についても解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2022年4月28日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

2022年4月15日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2022年3月25日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

界面活性剤の上手な使い方

2022年3月23日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、界面活性剤について基礎から解説いたします。
豊富な実験データを用いた概念的な理解を重視し、専門外の技術者にもわかりやすく解説いたします。

機能水洗浄のメカニズムと進め方、機能水の選定、不純物分析

2022年2月24日(木) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体、ディスプレイ、5G機器などの精密洗浄への要求特性とそのクリーン度の実際、使用する薬剤や設備、環境安全性、洗浄度評価の手法と進め方などについて詳解いたします。

半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

2022年2月16日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

半導体洗浄のメカニズムと微小パーティクルの除去、清浄度評価

2022年2月10日(木) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

洗浄バリデーション実務の必修ポイント習得講座

2022年1月27日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションについて基礎から解説し、「毒性データに基づく健康ベース暴露限界値 (HBEL) の算出は容易でない」など実務担当者の洗浄バリデーションに関する多くの悩みを、講師の経験に基づいて解説いたします。

医薬品工場クリーンルームの設計/バリデーション/運用および維持管理の最適化

2022年1月21日(金) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームにおいて重要な空調設備システムの構築手法や設備システムに必要な要素技術について、最近の動向や事例を交え留意点を紹介いたします。
また、最適な設計に深く関係するURSの作成ポイントについて、作成事例を交えて紹介いたします。

半導体洗浄の工学的基礎と要点、トラブル対策の視点

2021年12月22日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

医療機器における洗浄バリデーション要点セミナー

2021年12月20日(月) 13時00分16時00分
オンライン 開催

洗浄バリデーションの基礎とQ&Aから見る注意点

2021年11月29日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リスクに基づいた洗浄バリデーションに焦点を当て、GMP下で行われる洗浄・洗浄バリデーションのための基本的なプロセス、評価のための残留限度値設定上の課題とその対応策、ホールドタイム設定、残留物評価のための分析方法とその検討課題、そして査察と指摘を受けた時の対応などについて、これまで実施してセミナーにおける参加者からの質問を基に解説を行います。
また、残留限度値設定のための考え方と具体的な計算方法についてもわかりやすく解説いたします。

洗浄の基本とポイントおよび超音波洗浄の実践ノウハウ

2021年11月29日(月) 10時00分15時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄に関するコンサルティング活動や超音波技術の研究に長年従事されてきた講師が、洗浄・超音波の基礎・本質から、実践的な洗浄ノウハウ、メガヘルツの超音波発振制御技術を利用した精密洗浄方法までを実例とともに詳しく解説いたします。

半導体シリコンエピタキシャル成長の反応・装置・プロセスの理解と工夫

2021年11月24日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体シリコンエピタキシャル成長の主要な原料であるクロロシランを使う系を対象とし、成長過程の根幹である化学反応とガス流れを中心に解説いたします。

半導体製造における洗浄技術の基礎と各種方式・装置の特性

2021年11月9日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

開発段階に応じた品質規格設定とValidation (特に分析法バリデーション) 実施範囲

2021年9月28日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、各開発段階 (非臨床試験~NDA) における、規格やValidation、製剤を (CQAとの関連を含め) どう考えるか、どこまでデータが必要か、どうあるべきかについて、IQ Consortiumの議論を基に、その取り組み、そして講師の考えを紹介いたします。

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

2021年9月28日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

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