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精密洗浄のセミナー・研修・出版物

医療機器 洗浄バリデーションセミナー

2024年5月22日(水) 13時30分16時30分
オンライン 開催

超音波洗浄の基礎・メカニズムから効果的な活用方法

2024年5月2日(木) 13時00分2024年5月6日(月) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、超音波洗浄機の仕組みや洗浄メカニズム等の基礎から解説し、効果的に超音波洗浄を行うためのポイント、超音波洗浄機を運用する上での管理方法について、超音波洗浄機の活用事例を交えて詳解いたします。

超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法

2024年4月26日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、超音波洗浄機の仕組みや洗浄メカニズム等の基礎から解説し、効果的に超音波洗浄を行うためのポイント、超音波洗浄機を運用する上での管理方法について、超音波洗浄機の活用事例を交えて詳解いたします。

超音波洗浄の基礎・メカニズムから効果的な活用方法

2024年4月24日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、超音波洗浄機の仕組みや洗浄メカニズム等の基礎から解説し、効果的に超音波洗浄を行うためのポイント、超音波洗浄機を運用する上での管理方法について、超音波洗浄機の活用事例を交えて詳解いたします。

半導体製造における半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

2024年4月18日(木) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体洗浄の装置・薬液の種類といった基礎的な内容から、次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術について解説いたします。

半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで

2024年4月15日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

洗浄バリデーションの基礎とQ&Aから見る注意点

2024年4月3日(水) 10時30分2024年4月5日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リスクに基づいた洗浄バリデーションに焦点を当て、GMP下で行われる洗浄・洗浄バリデーションのための基本的なプロセス、評価のための残留限度値設定上の課題とその対応策、ホールドタイム設定、残留物評価のための分析方法とその検討課題、そして査察と指摘を受けた時の対応などについて、これまで実施してセミナーにおける参加者からの質問を基に解説を行います。
また、残留限度値設定のための考え方と具体的な計算方法についてもわかりやすく解説いたします。

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

2024年3月28日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

ニトロソアミン問題をふまえた洗浄バリデーションと設備共用の可否判断

2024年3月27日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションの基本となる、交叉汚染防止のための洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や漏洩防止対策について解説いたします。

洗浄バリデーションの基礎とQ&Aから見る注意点

2024年3月25日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リスクに基づいた洗浄バリデーションに焦点を当て、GMP下で行われる洗浄・洗浄バリデーションのための基本的なプロセス、評価のための残留限度値設定上の課題とその対応策、ホールドタイム設定、残留物評価のための分析方法とその検討課題、そして査察と指摘を受けた時の対応などについて、これまで実施してセミナーにおける参加者からの質問を基に解説を行います。
また、残留限度値設定のための考え方と具体的な計算方法についてもわかりやすく解説いたします。

医薬品製造における洗浄バリデーション (DHT,CHT,WCL設定) と残留確認分析法の設定

2024年3月21日(木) 10時30分2024年4月3日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、はじめに洗浄バリデーションの基本を説明した上で、交叉汚染防止としての洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や曝露防止について事例を交え考察いたします。また、毒性不明の新規化合物に対するアプローチや、試験室、実験室での封じ込め対策とその方法における封じ込めのための曝露対策の設備面での対応についても事例により解説いたします。

先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで

2024年3月18日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

先端半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術 (2コースセット)

2024年3月18日(月) 10時00分17時00分
2024年4月15日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

マルチパーパスプラント (多品目製造設備) の洗浄法と洗浄バリデーション

2024年3月12日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、多品目製造設備における洗浄・洗浄バリデーションにおいて検討すべき、具体的な課題について、演者の経験を基に解説いたします。

医薬品製造における洗浄バリデーション (DHT,CHT,WCL設定) と残留確認分析法の設定

2024年3月11日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、はじめに洗浄バリデーションの基本を説明した上で、交叉汚染防止としての洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や曝露防止について事例を交え考察いたします。また、毒性不明の新規化合物に対するアプローチや、試験室、実験室での封じ込め対策とその方法における封じ込めのための曝露対策の設備面での対応についても事例により解説いたします。

基礎から考える医薬品の品質と開発段階に応じた規格及びその設定法

2024年3月6日(水) 10時30分2024年3月8日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、品質・規格設定の考え方、開発段階に応じた取り組み、承認申請書への対応、そして上市後の変更管理などに焦点を当て、医薬品開発における品質について演者の経験を中心に紹介いたします。

半導体ウェット洗浄技術の基礎と最先端技術

2024年2月27日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。

基礎から考える医薬品の品質と開発段階に応じた規格及びその設定法

2024年2月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、品質・規格設定の考え方、開発段階に応じた取り組み、承認申請書への対応、そして上市後の変更管理などに焦点を当て、医薬品開発における品質について演者の経験を中心に紹介いたします。

半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ

2024年2月9日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

GMP適合性調査の進め方と指摘事項対応及び求められる品質保証

2024年2月7日(水) 10時30分2024年2月9日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMP適合性調査の対応、指摘を受けた際の対応、最終的には医薬品の品質はどうあるべきかについて、講師の経験を基に解説いたします。

半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題

2024年1月29日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説いたします。
また、次世代の汚染制御・洗浄乾燥技術についても解説いたします。

GMP適合性調査の進め方と指摘事項対応及び求められる品質保証

2024年1月25日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMP適合性調査の対応、指摘を受けた際の対応、最終的には医薬品の品質はどうあるべきかについて、講師の経験を基に解説いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2024年1月12日(金) 13時00分2024年1月25日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2023年12月22日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

2023年12月18日(月) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。

医薬品製造における洗浄バリデーション (DHT,CHT,WCL設定) と残留確認分析法の設定

2023年12月8日(金) 10時30分2023年12月21日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、はじめに洗浄バリデーションの基本を説明した上で、交叉汚染防止としての洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や曝露防止について事例を交え考察いたします。また、毒性不明の新規化合物に対するアプローチや、試験室、実験室での封じ込め対策とその方法における封じ込めのための曝露対策の設備面での対応についても事例により解説いたします。

超入門 半導体デバイスとその作り方

2023年12月5日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスとその製造方法 (前工程) 、最新のデバイス動向や市場動向について、基礎からわかりやすく解説いたします。

医薬品製造における洗浄バリデーション (DHT,CHT,WCL設定) と残留確認分析法の設定

2023年11月29日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、はじめに洗浄バリデーションの基本を説明した上で、交叉汚染防止としての洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や曝露防止について事例を交え考察いたします。また、毒性不明の新規化合物に対するアプローチや、試験室、実験室での封じ込め対策とその方法における封じ込めのための曝露対策の設備面での対応についても事例により解説いたします。

超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法

2023年11月28日(火) 13時00分2023年12月11日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、超音波洗浄機の仕組みや洗浄メカニズム等の基礎から解説し、効果的に超音波洗浄を行うためのポイント、超音波洗浄機を運用する上での管理方法について、超音波洗浄機の活用事例を交えて詳解いたします。

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