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フォトリソグラフィのセミナー・研修・出版物

レジスト・微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2021年12月7日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。

EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎と応用

2021年11月18日(木) 13時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

リソグラフィプロセスにおけるめっき、レジストマスクの基礎とトラブル対策

2021年10月29日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、CuやNiなどの配線材料のめっき技術、およびリソグラフィ技術の基礎およびレジストマスクの高精度化、マスク変形やマスク剥離などのトラブル解決法について解説いたします。

レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2021年10月22日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。

レジスト・微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2021年10月5日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。

光ナノインプリント技術の研究最前線

2021年9月27日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、光ナノインプリントリソグラフィによるナノ造形・微細加工技術の先端研究例を東北大学・中川勝教授が解説いたします。
基板-レジスト間、レジスト-モールド間における理想的な界面を形成する材料技術、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料、極限ナノ造形を目指すレーザー加工孔版印刷+光ナノインプリント成形技術など独自の先端技術が語られます。

レジスト材料/プロセスの基礎知識と実務上の最適化技術

2021年9月3日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。

レジスト材料・プロセス・装置の総合知識

2021年8月23日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

レジスト材料/プロセスの基礎と実務上の最適化技術

2021年8月20日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。

レジスト・リソグラフィの基礎から先端技術について

2021年8月19日(木) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィの基礎知識および技術動向についてわかりやすく解説いたします。

レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2021年7月28日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。

レジスト材料/プロセスの基礎と実務上の最適化技術

2021年7月13日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。

レジスト材料/プロセスの最適化技術ノウハウとトラブル対策

2021年7月6日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料・プロセスについて基礎から解説し、実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2021年7月6日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。

レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2021年5月26日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2021年5月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

リソグラフィ/EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

2021年5月21日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

レジスト材料/プロセスの基礎知識と実務上の最適化技術

2021年4月14日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。

レジスト材料・リソグラフィ技術の基礎と開発及びプロセスの不良防止・トラブル対策への応用

2021年3月29日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2021年2月3日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

EUVリソグラフィ最新概論 EUVL 用材料・技術の進化と半導体製造の動向および展望

2020年12月21日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

5GやAI対応で益々の高速・大容量・低電力・軽量・小型可が求められる半導体にEUVLが活用され始めております。
iPhone12を筆頭にEUVLを用いた製品も市場に続々と登場しており、本セミナーでは、EUVLの基礎と、EUVL導入の効果について解説いたします。

レジスト材料・リソグラフィ技術の基礎と開発及びプロセスの不良防止・トラブル対策への応用

2020年12月17日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2020年11月9日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

リソグラフィの基礎、半導体製造におけるレジスト材料技術と今後の展望

2020年10月9日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

レジストの材料・プロセス・装置の総合知識

2020年8月31日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

レジストプロセスの最適化、材料の使い方ノウハウ、トラブル対策

2020年8月6日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料、レジストプロセスについて基礎から解説し、レジストに関わるトラブルの原因、発生メカニズムとその対策・未然防止策について詳解いたします。

レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策

2020年6月26日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料・プロセスについて基礎から解説し、実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2020年5月27日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2020年3月26日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

ボイドの発生メカニズムと未然防止、トラブル対策、評価技術

2020年3月18日(水) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ブリスター、膨れ、クラック、クレイズ、気泡、ポーラス、ビア、ピンホール等、ボイドの発生原因から対策まで解説いたします。
ボイド撲滅に向けた発生原因の検証、発生抑制のアプローチを詳解いたします。

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