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本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、再生医療等製品におけるバリデーションについて取り上げ、ガイドラインと具体事例を基に、設備機器の適格性評価、製造工程、プロセスシミュレーション、洗浄、滅菌、分析法などバリデーションの評価方法を解説いたします。

本セミナーでは、治験薬、中間体、洗浄剤、OTC製品、ノンハザード物質、高分子医薬品 (不活化タンパク質断片)、HBELに基づく洗浄管理基準の設定等、製品非接触部と間接製品接触部 (封じ込め機器内部など) における洗浄管理基準、ハザードレベルの違いに応じた運用管理と分子量の違いに応じた運用管理について解説いたします。

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

本セミナーでは、治験薬、中間体、洗浄剤、OTC製品、ノンハザード物質、高分子医薬品 (不活化タンパク質断片)、HBELに基づく洗浄管理基準の設定等、製品非接触部と間接製品接触部 (封じ込め機器内部など) における洗浄管理基準、ハザードレベルの違いに応じた運用管理と分子量の違いに応じた運用管理について解説いたします。

本セミナーでは微生物細胞の活動と微生物制御に関する様々な問題点を示しながら、微生物細胞集団であるバイオフィルム制御の難しさを解説いたします。
また、バイオフィルム内の細菌叢の検出法や細胞の生理状態の確認法についても解説いたします。
これらを通して、バイオフィルムの構造と形成過程の知見や、バイオフィルムの防止・洗浄技術についても解説いたします。

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

本セミナーでは、洗浄プロセスの開発からサンプリングと検出の適切性、CHTとDHTの設定、ならびに充分なデータがない場合のPDE設定のほか、混入許容限度、STV及び0.1% / 10ppm基準を用いた場合の残留許容値、バリデーションマスタープロトコル/マスターレポート/計画書/報告書/DI、多目的設備における交叉汚染防止などについて、ISPE Guide : 「Cleaning Validation Lifecycle Applications, Methods, and Controls」執筆タスクチーム日本代表の講師がわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、材料、加工、組み立てなどの製造工程を俯瞰し、洗浄工程の目的、被洗浄物の材料や汚れ、洗浄および乾燥方法、洗浄後の評価方法やスペックについて詳解いたします。

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

本セミナーでは、最新のバリデーション、そして品質保証の考え方、そして洗浄バリデーションにおいて検討すべき項目やその留意点、規制当局による査察時の指摘事項などを紹介するとともに、特にワーストケースの考え方・残留限度設定手順 (特に毒性データに基づく設定) ・ホールドタイムの設定方法・目視確認の有効性評価などの課題に対して理解を深めるとともに、適切な対応を図るための基礎的な知識を提供いたします。