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フォトレジストのセミナー・研修・出版物

フォトレジスト材料の基礎と課題・開発動向

2024年3月13日(水) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業について取り上げ、フォトレジスト材料の基礎から、現役フォトレジストサプライヤー目線の最新のEUVレジストの課題と開発状況について解説いたします。

レジストの除去、剥離技術と低環境負荷、低ダメージ、高効率化

2024年2月26日(月) 10時30分17時05分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、環境負荷を抑えつつ、素早く変質レジストを除去、剥離する技術と今後の展望を解説いたします。

フォトレジスト材料の基本的な構成構造、材料設計および高感度化

2024年1月22日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説いたします。

半導体用レジストの特性および材料設計とその評価

2023年12月8日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識

2023年11月30日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来

2023年10月16日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

半導体用レジストの特性および材料設計とその評価

2023年9月12日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2023年9月7日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。

半導体製造プロセス 入門講座

2023年9月4日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

半導体製造プロセス 入門講座

2023年8月23日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識

2023年8月16日(水) 13時00分2023年8月29日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識

2023年8月4日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

リソグラフィの基礎およびレジスト材料とその高性能化

2023年7月31日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2023年6月21日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

高感度化フォトレジスト材料の設計術

2023年5月19日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2023年5月16日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

半導体用レジストの材料設計とレジスト除去技術

2023年4月18日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、樹脂成分とレジスト特性の関係性、環境に優しい除去技術を詳説いたします。

レジスト材料/プロセスの基礎と実務上の最適化技術

2023年4月14日(金) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。

フォトレジスト材料の基本的な構成構造、材料設計および高感度化

2023年2月10日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説いたします。

レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

2022年12月19日(月) 10時30分2022年12月23日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。

EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向

2022年12月7日(水) 10時30分16時15分
オンライン 開催

5GやAI対応で益々の高速・大容量・低電力・軽量・小型可が求められる半導体にEUVLが活用され始めております。
第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリクルなど、新しい材料開発が進むEUVリソグラフィー全体の要素技術・課題・展望について、当技術の先駆者である木下氏が解説いたします。
第2部以降ではレジスト材料技術にフォーカスし、Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチや、メタル含有レジストの反応機構や課題などをご紹介いたします。

レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

2022年12月6日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来

2022年9月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

めっきプロセス用レジストマスクの最適化とトラブル対策

2022年9月2日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、CuやNiなどの配線材料のめっき技術、およびリソグラフィ技術の基礎およびレジストマスクの高精度化、マスク変形やマスク剥離などのトラブル解決法について解説いたします。

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2022年8月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。

レジストの技術・材料・プロセス・装置の総合知識

2022年7月29日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

レジスト材料/プロセスの基礎と実務上の最適化技術

2022年7月7日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2022年6月20日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

高感度化フォトレジスト材料の設計術

2022年5月31日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来

2022年5月25日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

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