技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。
本セミナーでは、静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性能評価方法について解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの基礎からクリーンルームの設計、設営、運用方法について事例を交えて解説いたします。
本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。
本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。
本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例と実演を交えてわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。
本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。
本セミナーでは、静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性能評価方法について解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの基礎からクリーンルームの設計、設営、運用方法について事例を交えて解説いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術について基礎から解説いたします。
また、発塵の原因、作業員管理・教育、清掃、クリーンルームの維持・管理・汚染対策について詳解いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの基礎知識、静電気対策、現場作業の留意点、超音波除塵の技術等に関して解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの基礎知識、静電気対策、現場作業の留意点、超音波除塵の技術等に関して解説いたします。
本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。
本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、汚染原因やクリーンルームの仕組み、やってはいけないこと、効果的な清掃・メンテナンス方法など、クリーンルームの維持管理にあたって理解しておきたい実践的な知識とノウハウを詳しく解説いたします。
本セミナーは、使う側の立場に立ったクリーンルームのあり方、その改造方法、クリーンルームの運用方法、及び一般環境下においてもゴミ・異物不良でお困りの現場の改善も視野に入れて、クリーンルームの基礎から運用までを生産現場の不良削減手法及びその事例をご説明いたします。
本セミナーは、使う側の立場に立ったクリーンルームのあり方、その改造方法、クリーンルームの運用方法、及び一般環境下においてもゴミ・異物不良でお困りの現場の改善も視野に入れて、クリーンルームの基礎から運用までを生産現場の不良削減手法及びその事例をご説明いたします。
本セミナーでは、塗工が専門の講師がRoll To Rollやスロットダイなど塗工における「理論的アプローチ」と「現場ノウハウ」を詳解いたします。
本セミナーでは、塗工が専門の講師がRoll To Rollやスロットダイなど塗工における「理論的アプローチ」と「現場ノウハウ」を詳解いたします。
本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。