技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

クリーンルームのセミナー・研修・出版物

半導体製造プロセス 入門講座

2024年9月20日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

環境モニタリングの測定時およびアラート・アクションレベル設定時の留意点

2024年9月3日(火) 10時30分2024年9月17日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、環境モニタリングについて基礎から解説し、環境モニタリングの限界、留意点等について具体例を交えて解説いたします。

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術および最先端技術

2024年8月23日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。

環境モニタリングの測定時およびアラート・アクションレベル設定時の留意点

2024年8月23日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、環境モニタリングについて基礎から解説し、環境モニタリングの限界、留意点等について具体例を交えて解説いたします。

半導体デバイスの物理的洗浄手法

2024年8月19日(月) 13時00分2024年8月30日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

混入異物の識別法・迅速な原因解明のポイント習得のための各種製品に混入する異物の特徴と分析技術を活用した処方

2024年8月7日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、異物混入対策について取り上げ、代表的な混入異物の傾向・形態的特徴、分析技術の基礎知識、異物分析結果の解釈、迅速な原因解明のためにすべきことについて、すぐに職場で活用できるよう実践的に分かりやすく解説いたします。

半導体デバイスの物理的洗浄手法

2024年7月23日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

クリーンルームの維持管理における必須知識と実践ノウハウ

2024年7月19日(金) 10時30分16時30分

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、汚染原因やクリーンルームの仕組み、やってはいけないこと、効果的な清掃・メンテナンス方法など、クリーンルームの維持管理にあたって理解しておきたい実践的な知識とノウハウを詳しく解説いたします。

クリーンルームの基礎と作業員・清潔度維持管理のポイント

2024年6月27日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。

フィルムの乾燥プロセス技術とトラブル対策

2024年6月26日(水) 10時30分2024年7月9日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

カビの発生予測、混入、発生防止と「カビ毒」の基礎知識

2024年6月20日(木) 10時30分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、カビ毒の特性、種類および検出法、カビ毒の国際的な基準値の決まり方、カビの発生原因の原因解明のための各種測定方法、カビ発生の原因と対策・未然防止策について詳解いたします。

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

2024年6月13日(木) 10時30分2024年6月26日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

フィルムの乾燥プロセス技術とトラブル対策

2024年6月12日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

2024年5月30日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2024年5月30日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

クリーンルームにおける作業員・設備の日常管理・教育担当者講座

2024年5月29日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、作業員の衣服や所持品、動作や衛生管理など各ケースの (発塵量比較) データを提示しながら、教育管理について科学的かつ平易に解説いたします。

フィルムへの塗工技術とプロセス最適化、トラブル対策

2024年5月29日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、塗工と乾燥の基礎から解説し、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
また、風ムラやベナールセルなど、塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

クリーンルームの基礎とクリーン化対策

2024年5月29日(水) 10時00分2024年5月31日(金) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

クリーンルームの基礎とクリーン化対策

2024年5月17日(金) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際

2024年4月24日(水) 10時30分2024年4月26日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

半導体製造プロセス 入門講座

2024年4月19日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術

2024年4月18日(木) 13時00分2024年5月2日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際

2024年4月17日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで

2024年4月15日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

異物問題への対処法

2024年4月11日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、各種製品・原材料中に混入する異物、その発生原因と防止策から、発生した場合の分析、原因解明まで網羅的に解説いたします。

具体的なクリーンルームの管理手法と現場からみた異物混入対策

2024年4月10日(水) 10時00分16時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの基礎、汚れ・維持・メンテナンスチェック項目、クリーンルームの清浄度測定方法、管理、清掃、事例を交えて実践的に解説いたします。

半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術

2024年4月5日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

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