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本セミナーでは、IEC 61340・RCJS規格が推奨する基本内容、静電気測定の基礎、イオナイザーによる静電気対策、イオナイザーの評価・管理、拡散性材料による静電気対策、拡散性材料の評価・管理、静電気放電検知、異物対策の基本について、豊富な経験に基づき、実践的内容を分かりやすく解説いたします。

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本セミナーでは、静電気の基礎から解説し、ESD対策に関する最近の動向や効果的な静電気問題の対策方法について詳解いたします。

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

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半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

本セミナーでは、IEC 61340・RCJS規格が推奨する対策、静電気測定の基本、イオナイザによる静電気対策、イオナイザの評価・管理の基本、拡散性材料による静電気対策の基本、拡散性材料の評価・管理の基本について、実演を交え分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、静電気の基礎から解説し、ESD対策に関する最近の動向や効果的な静電気問題の対策方法について詳解いたします。

本セミナーでは、静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性能評価方法について解説いたします。

本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。

本セミナーでは、半導体の基礎、流体力学、電磁気学、AIから解説し、物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
また、半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセスの中でもスプレー、超音波、ブラシを利用した物理的洗浄方法とその際に生じる静電気障害への対策についても解説いたします。

本セミナーでは、静電気の原理から事故を未然に防ぐために必須の実務上の重要管理ポイントまで、やさしく丁寧に解説いたします。

本セミナーでは、半導体の基礎、流体力学、電磁気学、AIから解説し、物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
また、半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセスの中でもスプレー、超音波、ブラシを利用した物理的洗浄方法とその際に生じる静電気障害への対策についても解説いたします。

本セミナーでは、静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性能評価方法について解説いたします。