技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、MLCC開発で求められる技術、設計の考え方を概説いたします。
主にNi内部電極MLCCで薄層素子を形成するBaTiO3 (BT) 粉末の合成およびBT誘電体セラミックスの設計指針として、格子欠陥の生成、ドナーやアクセプター元素などによる異種元素置換による格子欠陥制御など、熱力学的考察を交えて材料組成開発に係わる組成設計を説明いたします。
本セミナーでは、MLCC開発で求められる技術、設計の考え方を概説いたします。
主にNi内部電極MLCCで薄層素子を形成するBaTiO3 (BT) 粉末の合成およびBT誘電体セラミックスの設計指針として、格子欠陥の生成、ドナーやアクセプター元素などによる異種元素置換による格子欠陥制御など、熱力学的考察を交えて材料組成開発に係わる組成設計を説明いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
本セミナーでは、パワーデバイスについて取り上げ、固体物理レベルから回路動作、市場動向まで広く網羅して解説いたします。
半導体業界の中で独自の発展を続けるパワーデバイスに関する全体像を把握いただけます。
本セミナーでは、産業機器から家電製品、電気自動車など幅広い分野で必要となるインバータについて取り上げ、制御法の基本的な考え方から実用上の問題点、さらに最新の技術動向についても解説いたします。
本セミナーでは、モータ振動・計測・評価、モータ電磁騒音、永久磁石モータ騒音、ファン騒音、システム装置騒音など、モータ騒音・振動と低減対策について、講師の長年の経験と研究に基づき、事例を交えて、分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、リソグラフィ技術を取り上げ、微細加工の基礎、フォトリソグラフィ技術の原理、フォトリソグラフィ技術の材料、EUVリソグラフィ技術の応用事例について分かりやすく丁寧に解説いたします。
本セミナーでは、半導体パッケージの基礎から最近のパッケージの動向としてSiP, WLP, FOWLP, TSV技術などを例に解説いたします。
本セミナーでは、半導体後工程におけるチップレット集積の基礎から試験評価法まで解説いたします。
本セミナーでは、接触理論・アーク理論・摺動摩耗理論 、接点材料の変遷と勘所、 接点加工のプロセスと押さえどころ、接点の故障モード・発生機構、具体的な対策について、長年の経験と研究に基づき、実践的に詳しく解説いたします。
本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。
本セミナーでは、産業機器から家電製品、電気自動車など幅広い分野で必要となるインバータについて取り上げ、制御法の基本的な考え方から実用上の問題点、さらに最新の技術動向についても解説いたします。
本セミナーでは、パワーデバイスについて取り上げ、固体物理レベルから回路動作、市場動向まで広く網羅して解説いたします。
半導体業界の中で独自の発展を続けるパワーデバイスに関する全体像を把握いただけます。
本セミナーでは、過渡熱抵抗測定の測定・評価方法、構造関数の導出と活用方法、測定ノウハウ、シミュレーションへの応用、SiC MOSFETやGaN HEMT等の新しいデバイスの測定手法、陥りがちな問題とその回避方法など。基礎から、効果的に活用するための実践的なノウハウまでを解説いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。