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極端紫外線リソグラフィ (EUVL: Extreme Ultraviolet Lithography)のセミナー・研修・出版物

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2024年10月18日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、溶解阻害型や化学増幅型などレジストの基礎からメタルレジスト含むEUVレジストまで、各種微細加工・リソグラフィ技術やレジスト材料の基礎から、最新動向・展望までを幅広く解説いたします。

EUVリソグラフィーの基礎から最新技術開発の現状、課題と今後の半導体微細加工技術の展開

2024年9月18日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2024年8月21日(水) 10時30分2024年9月3日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2024年7月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理および半導体高密度化への展開

2024年7月29日(月) 12時30分2024年7月31日(水) 16時40分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説いたします。
また、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理までを解説いたします。

リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理および半導体高密度化への展開

2024年7月18日(木) 12時30分16時40分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説いたします。
また、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理までを解説いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2024年7月5日(金) 10時30分2024年7月9日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

EUVを中心としたリソグラフィ技術の最新動向とレジスト材料への要求特性

2024年7月2日(火) 10時30分2024年7月12日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2024年6月28日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

EUVを中心としたリソグラフィ技術の最新動向とレジスト材料への要求特性

2024年6月21日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

2024年6月12日(水) 10時30分2024年6月14日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。

レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

2024年5月30日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

2024年5月29日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

フォトレジスト材料の基礎と課題

2024年4月22日(月) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業について取り上げ、フォトレジスト材料の基礎から、現役フォトレジストサプライヤー目線の最新のEUVレジストの課題と開発状況について解説いたします。

フォトレジスト材料の基礎と課題・開発動向

2024年3月13日(水) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業について取り上げ、フォトレジスト材料の基礎から、現役フォトレジストサプライヤー目線の最新のEUVレジストの課題と開発状況について解説いたします。

EUVリソグラフィ技術、メタルレジスト材料の開発と課題

2024年1月24日(水) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

EUVメタルレジストの作製、反応機構と評価

2024年1月22日(月) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

2023年11月30日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来

2023年10月16日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2023年9月7日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。

リソグラフィの基礎およびレジスト材料とその高性能化

2023年7月31日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

2023年7月25日(火) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2023年6月21日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

リソグラフィ技術の開発動向とレジスト材料への要求特性、トラブル対策

2023年6月9日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2023年5月16日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

リソグラフィー/EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

2023年2月22日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

2022年12月19日(月) 10時30分2022年12月23日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。

EUVリソグラフィの発展・課題とレジスト材料・技術の研究・開発動向

2022年12月7日(水) 10時30分16時15分
オンライン 開催

5GやAI対応で益々の高速・大容量・低電力・軽量・小型可が求められる半導体にEUVLが活用され始めております。
第1部では、マスク吸収体材料、Stochastic Errorに対応レジスト、ペリクルなど、新しい材料開発が進むEUVリソグラフィー全体の要素技術・課題・展望について、当技術の先駆者である木下氏が解説いたします。
第2部以降ではレジスト材料技術にフォーカスし、Photon StochasticとChemical Stochastic低減のためのアプローチや、メタル含有レジストの反応機構や課題などをご紹介いたします。

レジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

2022年12月6日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。

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