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エッチングのセミナー・研修・出版物

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2025年1月20日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマエッチングにおけるパーティクル・プロセス異常の検出技術とプラズマ耐性部材

2024年12月19日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

半導体機能素子製造向けドライプロセス入門

2024年12月10日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と高精度化およびトラブル対策

2024年11月22日(金) 13時00分17時00分

本セミナーでは、ウェットエッチング加工の結晶異方性、表面粗さや具体的な形状作製、高機能化について詳解いたします。

電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用

2024年11月12日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

等方性ドライエッチングメカニズムと最先端技術

2024年10月9日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、エッチング技術の基礎・メカニズムから解説し、等方性エッチング技術のニーズとメカニズム、現在IntelやTSMC, Samsung, SK Hynixなど最新半導体デバイスを製造しているメーカが検討している先端エッチング技術までを解説いたします。

プラズマエッチングにおけるプロセス不良の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

2024年10月4日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマエッチングの基礎から解説し、チャンバー材料の腐食やパーティクルの発生を抑えるための技術を解説いたします。

半導体製造プロセス 入門講座

2024年9月20日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

2024年9月9日(月) 13時00分2024年9月11日(水) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

2024年8月28日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ

2024年8月23日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説いたします。
また、日頃の技術開発やトラブル相談に個別に応じます。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年7月31日(水) 10時30分2024年8月2日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と半導体材料のウェットエッチング加工技術

2024年7月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工特性に影響する要因とその制御方法やグリーン化への取り組みを詳解いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年7月22日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

SiCウェハ表面の構造・形態制御と超平坦化技術

2024年7月11日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiCを中心として表面の構造・形態制御とそのメカニズム、ステップバンチング制御と結晶成長、ステップアンバンチング現象の発見などについて紹介いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (後工程)

2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (前工程)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (2日間)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

プラズマエッチング装置・プロセスにおける不良発生の検知技術と部材のプラズマ耐性向上技術

2024年6月20日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

半導体表面におけるウェットプロセスの基礎と最新動向

2024年6月7日(金) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体表面におけるウェットプロセス、及び、関連する表面計測法について、基礎から先端研究事例までを解説・紹介いたします。

ドライエッチングのメカニズムと最先端技術

2024年5月29日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーではエッチング技術の基礎・メカニズムの説明からスタートし、現在IntelやTSMC, Samsung, SK Hynixなど最新半導体デバイスを製造しているメーカが使用している先端エッチング技術までを紹介いたします。
また、エッチング技術にも多くの課題があり、そのブレークスルー技術についても解説いたします。

プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス

2024年5月21日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明いたします。

真空技術の基本と機器の運用・問題解決のコツ

2024年5月14日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と原子層プロセスの最新動向

2024年4月23日(火) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

半導体製造プロセス 入門講座

2024年4月19日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

ドライエッチングのメカニズムと先端ロジックデバイスのエッチング技術

2024年3月8日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から解説し、エッチングにおける劣化トラブルと抑制技術、プロセス制御によるCD安定化について解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年2月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と半導体材料のウェットエッチング加工技術

2024年2月8日(木) 10時30分2024年2月22日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工特性に影響する要因とその制御方法やグリーン化への取り組みを詳解いたします。

ウェットエッチングの基礎と半導体材料のウェットエッチング加工技術

2024年1月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工特性に影響する要因とその制御方法やグリーン化への取り組みを詳解いたします。

最先端ドライエッチング技術

2024年1月26日(金) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングについて基礎から解説し、最先端ドライエッチング技術として、マルチパターニング、FinFETやGAAなどのロジックFEOLエッチング、1.4nm以降のロジック配線エッチング、さらには超低温 (クライオ) エッチングを含む、3D NANDのHARエッチングについて具体的なプロセスフローを用いて詳細に解説いたします。

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