技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

エッチングのセミナー・研修・出版物

クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応

2025年10月28日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、エッチング技術の基礎から解説し、クライオエッチング技術の基礎、クライオエッチングのハードウェア、クライオALEについて詳解いたします。

半導体材料と半導体デバイス製造プロセス

2025年10月21日(火) 10時00分2025年10月28日(火) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の性質、構造と種類、バイポーラトランジスタ、MOSFETの構造と動作原理、CMOS IC作製の流れ、半導体デバイス作製に用いられる個別プロセス技術について詳解いたします。

半導体材料と半導体デバイス製造プロセス

2025年10月16日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の性質、構造と種類、バイポーラトランジスタ、MOSFETの構造と動作原理、CMOS IC作製の流れ、半導体デバイス作製に用いられる個別プロセス技術について詳解いたします。

電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用

2025年10月9日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ

2025年10月3日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説いたします。
また、日頃の技術開発やトラブル相談に個別に応じます。

プラズマプロセスにおける活性粒子の計測、モニタリングとプロセスの最適化

2025年9月3日(水) 13時00分2025年9月13日(土) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プロセスプラズマの基礎から解説し、プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅 (反応) 過程、活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理・実践方法、活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について詳解いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2025年8月27日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマプロセスにおける活性粒子の計測、モニタリングとプロセスの最適化

2025年8月25日(月) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プロセスプラズマの基礎から解説し、プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅 (反応) 過程、活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理・実践方法、活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について詳解いたします。

半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年夏版)

2025年8月18日(月) 13時00分2025年8月29日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。

半導体材料のウェットエッチング加工の基礎と動向

2025年8月18日(月) 10時30分2025年8月28日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工特性に影響する要因とその制御方法やグリーン化への取り組みを詳解いたします。

半導体製造プロセス技術 入門講座

2025年8月12日(火) 10時30分2025年8月25日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

半導体材料のウェットエッチング加工の基礎と動向

2025年8月7日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工特性に影響する要因とその制御方法やグリーン化への取り組みを詳解いたします。

プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス

2025年8月7日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明いたします。

半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年夏版)

2025年7月30日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。

半導体製造プロセス技術 入門講座

2025年7月25日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

CVD・ALD法による薄膜形成技術のプロセス・反応解析と装置の設計

2025年7月14日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2025年7月10日(木) 10時30分2025年7月17日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2025年7月7日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマエッチングの基礎、ダメージ・不良の低減と異常の検出・評価技術

2025年6月23日(月) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスで利用されるプラズマエッチングの基礎から解説し、各種プラズマ装置の特長、プラズマプロセシングで重要なシース、プラズマパラメータ、ドライエッチング技術、微細加工が可能な反応性イオンエッチング (RIE) について詳解いたします。

光デバイス向けMEMS加工技術の解説と応用事例

2025年6月11日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、光デバイス適用に向けた加工プロセスの構築、微細加工技術について解説いたします。

CVD・ALD法による薄膜形成技術のプロセス・反応解析と装置の設計

2025年5月23日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

計算化学を用いたエッチングガスの一次解離過程と新規ガスの開発

2025年3月26日(水) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、混合ガスの選択、レシピ構成、新規ガスの開発、エッチングプロセス制御に向けて、計算化学で得られた知見を提供いたします。

ウェットエッチングの基礎と高精度化およびトラブル対策

2025年3月5日(水) 13時00分2025年3月7日(金) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工の結晶異方性、表面粗さや具体的な形状作製、高機能化について詳解いたします。

ウェットエッチングの基礎と高精度化およびトラブル対策

2025年2月26日(水) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工の結晶異方性、表面粗さや具体的な形状作製、高機能化について詳解いたします。

プラズマ技術の基礎とドライエッチングへの応用

2025年2月21日(金) 10時30分2025年2月25日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、産業界で利用される低温プラズマの基礎から解説し、各種プラズマ装置の特長、プラズマプロセシングで重要なシース、プラズマパラメータ、ドライエッチング技術、微細加工が可能な反応性イオンエッチング (RIE) について詳解いたします。

プラズマ技術の基礎とドライエッチングへの応用

2025年2月13日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、産業界で利用される低温プラズマの基礎から解説し、各種プラズマ装置の特長、プラズマプロセシングで重要なシース、プラズマパラメータ、ドライエッチング技術、微細加工が可能な反応性イオンエッチング (RIE) について詳解いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2025年1月20日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマエッチングにおけるパーティクル・プロセス異常の検出技術とプラズマ耐性部材

2024年12月19日(木) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、レガシーファブの量産ラインの前工程において装置稼働率や歩留まりの向上に必要となる製造技術について扱います。
前工程の中でも特に収益性に関わりが大きいプラズマプロセスであるプラズマエッチングプロセス及び装置に必要となる技術について、不良発生の抑止や予知保全、メンテナンス費用削減、装置機差の低減等に資する技術について解説いたします。

半導体機能素子製造向けドライプロセス入門

2024年12月10日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と高精度化およびトラブル対策

2024年11月22日(金) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチング加工の結晶異方性、表面粗さや具体的な形状作製、高機能化について詳解いたします。

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