技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

パワーエレクトロニクス + 電源 + インバータ + コンバータ + 電子部品 + 半導体のセミナー・研修・出版物

設計者CAE 構造解析編 (強度)

2026年6月23日(火) 13時00分17時00分
オンライン 開催

半導体パッケージの基礎から各製造工程の技術ポイントおよび今後の技術動向

2026年6月23日(火) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

先端冷却・放熱技術の研究開発動向

2026年6月23日(火) 11時00分15時45分
オンライン 開催

本セミナーでは、AIチップや高性能半導体デバイスの高発熱化に対応する、従来の空冷を超える先端冷却・放熱技術について取り上げ、「液体金属を用いた放熱フィルム技術」「三次元マイクロ流路による省エネ水冷技術」「ハニカム多孔構造による超高熱流束沸騰冷却技術」をテーマに、AIチップにおける熱課題や空冷・液冷技術の現状と課題を踏まえながら、各講師が技術概要や最新の研究開発動向について解説いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (前編)

2026年6月23日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (2日間)

2026年6月23日(火) 10時30分16時30分
2026年6月24日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

AI半導体デバイス・サーバーにおける熱対策と冷却技術の最新動向

2026年6月22日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

AIチップの高性能化・高集積化に伴い、半導体デバイスやサーバーでは発熱密度の増大が大きな課題となっており、熱マネジメントや冷却技術の重要性が高まっています。
本セミナーでは、AIチップにおける熱問題と冷却の目的から、冷却システムの構成と熱設計、半導体冷却に求められる冷却能力、TIMの最新動向、空冷・液冷技術、オンチップ冷却の最前線まで、AI半導体デバイス・サーバーの冷却技術の全体像と最新動向を解説いたします。

透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向

2026年6月19日(金) 13時00分2026年7月30日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、透明導電材料の基礎、塗布型透明導電膜の特徴からタッチパネル、EMC対策部材、太陽電池への適応まで最新情報を元に具体的に紹介いたします。

透明導電材料・膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向

2026年6月18日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、透明導電材料の基礎、塗布型透明導電膜の特徴からタッチパネル、EMC対策部材、太陽電池への適応まで最新情報を元に具体的に紹介いたします。

AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況

2026年6月17日(水) 11時00分2026年6月25日(木) 14時00分
オンライン 開催

積層セラミックコンデンサ (MLCC) の設計、材料技術、開発動向と課題

2026年6月12日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、MLCC開発で求められる技術、設計の考え方を概説いたします。
主にNi内部電極MLCCで薄層素子を形成するBaTiO3 (BT) 粉末の合成およびBT誘電体セラミックスの設計指針として、格子欠陥の生成、ドナーやアクセプター元素などによる異種元素置換による格子欠陥制御など、熱力学的考察を交えて材料組成開発に係わる組成設計を説明いたします。

半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術

2026年6月12日(金) 10時30分2026年6月22日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

オフライン電源の設計 (2)

2026年6月11日(木) 13時00分17時00分
オンライン 開催

世界半導体産業への羅針盤

2026年6月11日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

半導体 (IC) の製造工程と半導体用素部材の基本情報

2026年6月11日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

分散電源管理システムDERMSの全貌

2026年6月9日(火) 10時30分2026年6月16日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、DERMSの基礎から解説し、講師が長年開発してきたDERMSエミュレータ (仮想モデルシミュレータ) について、デモを交えてその効果を可視化して解説いたします。

次世代半導体パッケージおよび実装技術動向と市場展望

2026年6月8日(月) 13時00分2026年9月25日(金) 15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、チップレット等の新技術による中工程概念の出現や、異種チップの集積/ヘテロジニアスパッケージ等、重要性を増し進化していく半導体パッケージングの技術動向・市場動向について解説いたします。
また、急成長する生成AIの影響、半導体パッケージにおける日本の強み等について、インテルでパッケージ基板・後工程材料・装置等のサプライ・チェーンのマネジメントを行い、現在も市場動向調査やパッケージ材料開発を支援している講師が解説いたします。

AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況

2026年6月8日(月) 11時00分14時00分
オンライン 開催

半導体デバイスにおける低温・常温接合のポイントと今後の展望

2026年6月8日(月) 10時30分2026年6月22日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおいて重要性が高まっている低温・常温接合技術について、基礎原理、最新の研究開発動向、実際のデバイス応用事例まで解説いたします。

半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策

2026年6月5日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおける金属・分子汚染の影響とそのメカニズム、分析解析手法とモニタリングについて解説し、従来の洗浄技術から最新の洗浄手法、洗浄以外の汚染、そして次世代の汚染制御技術まで幅広く解説いたします。
RCA洗浄や薬液系/純水系洗浄のメカニズム、最新の乾燥技術、工場設計やウェーハ保管・移送方法などについても詳しく紹介いたします。

半導体デバイスにおける低温・常温接合のポイントと今後の展望

2026年6月5日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおいて重要性が高まっている低温・常温接合技術について、基礎原理、最新の研究開発動向、実際のデバイス応用事例まで解説いたします。

分散電源管理システムDERMSの全貌

2026年6月5日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、DERMSの基礎から解説し、講師が長年開発してきたDERMSエミュレータ (仮想モデルシミュレータ) について、デモを交えてその効果を可視化して解説いたします。

オフライン電源の設計 (3日間)

2026年6月4日(木) 13時00分17時00分
2026年6月11日(木) 13時00分17時00分
2026年6月25日(木) 13時00分17時00分
オンライン 開催

オフライン電源の設計 (1)

2026年6月4日(木) 13時00分17時00分
オンライン 開催

5G/6G・V2X・AI時代に求められる電波吸収体・電波シールドの設計と特性評価

2026年6月4日(木) 10時30分2026年6月17日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電波伝搬の基礎から5G/Beyond 5Gのデバイスと、遠方界・近傍界用電磁波シールド・電波吸収体の設計及び評価、メタマテリアル・多層メタマテリアルによる電磁波吸収と電磁波シールドの設計及び評価をミリ波からテラヘルツまでを解説いたします。

半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術

2026年6月3日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

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