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洗浄のセミナー・研修・出版物

3極要求相違点をふまえた洗浄バリデーション・設備バリデーション実施とPIC/S加盟による今後の影響

2013年10月9日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、日米欧3極のバリデーションの最新情報とその背景について解説いたします。

国内外のバリデーション基準を踏まえた バリデーションの進め方の留意点

2013年8月30日(金) 10時30分16時45分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、グローバルGMPに対応したバリデーションの進め方の留意点を解説します。

各工程別バリデーションマスター講座

2013年8月30日(金) 10時30分16時45分
2013年9月13日(金) 10時00分16時50分
2013年9月19日(木) 10時30分16時30分
2013年9月25日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、「各工程別バリデーションマスター講座」5テーマセットにしたコースです。
セット受講早期申し込み(8月16日(金)まで)で特別割引にてご受講いただけます。
全5コース受講 199,500円(税込) → 99,800円 (税込)

3極GMP・改正無菌操作法・最終滅菌法対応クリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2013年7月12日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、無菌操作法で改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

作業員が納得するクリーンルーム管理

2013年6月10日(月) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、クリーンルームの基礎から解説し、粗大粒子の対策方法について詳解いたします。

高活性物質対応コース

2013年5月31日(金) 10時30分16時45分
2013年6月25日(火) 10時30分17時00分
会場 開催

本セミナーは、高活性物質対応をを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 99,600円 → 割引受講料 69,800円

製薬用水の基礎と品質管理のポイント

2013年5月28日(火) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、三極の規制・指摘事項の相違点をふまえたソフト・ハード面の日常管理のポイントを解説いたします。

マルチパーパスプラントの設計と洗浄バリデーション

2013年4月24日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

教科書に載っていないクリーン化対策

2013年4月23日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、素粒子対策を中心に受講翌日から実践できるクリーン化対策を解説いたします。

PIC/S 加盟に伴う日常業務の変更個所 (5日間)

2013年4月19日(金) 13時00分16時30分
2013年4月26日(金) 10時30分16時30分
2013年5月21日(火) 13時00分16時30分
2013年5月27日(月) 11時00分16時30分
2013年7月23日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、PIC/S 加盟に伴う日常業務の変更個所の5テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 224,000円 → 割引受講料 119,800円

洗浄バリデーションの基礎から査察対応までのポイント

2013年4月16日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄プロセス、残留許容値の設定、サンプリング、分析方法の留意点、また海外からのGMP査察にどのように対応したらよいのかなどの要点を分かりやすく解説いたします。

PIC/Sが要求する洗浄バリデーション基準と日本との差異

2013年3月26日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、指摘事例等からみた洗浄バリデーション双方の要求事項の比較について解説いたします。

洗浄バリデーション実施と残留許容基準・残留量代表値の設定根拠

2012年12月7日(金) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーション実施上必要となる基礎知識を網羅的に解説いたします。

3極GMP・無菌操作法改正を踏まえたクリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2012年11月28日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、無菌操作法で改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

ロールtoロールのウェット/表面処理技術

2012年11月26日(月) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、最新の有機EL照明用洗浄装置・技術を含め、ロールtoロール方式による、めっき・レジスト塗布・現像・エッチング・洗浄技術などについて解説いたします。

各種汚れに適した洗浄方法、洗浄性評価と洗浄理論

2012年8月28日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズム、洗浄剤の長所・短所、汚れの質に応じた洗浄方法、洗浄結果の評価について分かりやすく解説いたします。

医薬品製造設備における“洗浄しずらい箇所”への洗浄のコツ

2012年8月23日(木) 10時30分16時45分
東京都 開催 会場 開催

洗浄バリデーション実施ノウハウ

2012年7月26日(木) 10時20分17時10分
東京都 開催 会場 開催
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