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LSI (Large Scale Integration / 集積回路)のセミナー・研修・出版物

蓄積された技術と故障物性に基づく高信頼性電子機器の開発・製造

2025年2月17日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性・故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を用いて説明いたします。

先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化

2025年2月5日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

次世代データセンタにおいて広帯域、低消費電力を実現する光インターコネクト技術の開発動向

2024年7月24日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、データセンタにおける技術動向、光インターコネクトの実装形態及び技術について解説し、シリコンフォトニクス、VCSEL、光トランシーバ、外部光源の技術動向について解説いたします。

光電コパッケージ技術の概要・課題・最新動向・今後の展望まで

2024年6月17日(月) 12時30分2024年6月19日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

光電コパッケージ技術の概要・課題・最新動向・今後の展望まで

2024年6月11日(火) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

電子機器の故障未然防止・故障解析入門講座

2024年6月7日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性・故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を用いて説明いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2024年5月30日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障メカニズムと未然防止・故障解析のポイント

2024年4月18日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を多く用いて、初級者にも理解しやすいように説明いたします。

半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで

2024年4月15日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで

2024年3月18日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

先端半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術 (2コースセット)

2024年3月18日(月) 10時00分17時00分
2024年4月15日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

次世代光インターコネクションを支える光電コパッケージ技術とポリマー光回路技術の現状・課題・展開

2023年10月20日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

光電コパッケージ・光エレクトロニクスの集積・接合・実装技術

2023年10月18日(水) 10時30分16時10分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

次世代データセンタにおいて広帯域、低消費電力を実現する光インターコネクト技術の開発動向

2023年7月19日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、データセンタにおける技術動向、光インターコネクトの実装形態及び技術について解説し、シリコンフォトニクス、VCSEL、光トランシーバ、外部光源の技術動向について解説いたします。

電子機器の故障未然防止・故障解析入門講座

2023年6月22日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性・故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を用いて説明いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2023年4月28日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

シリコンフォトニクスによる光デバイスの開発と光回路集積化

2023年4月27日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、経済性・超小型・高速伝送・低環境負荷などの利点から注目されているシリコンフォトニクスについて取り上げ、シリコンフォトニクスの基礎と動向、光トランシーバ・コパッケージ技術、ヘテロジニアス集積による進化など、シリコンフォトニクス技術の現状と今後の進展について解説いたします。
また、高速光集積回路の実現に向けたシリコンフォトニクスの最新動向、チップとファイバ間の光結合、光電コパッケージなど具体的な開発事例を挙げて詳解いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2023年3月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障メカニズムの理解と信頼性評価・故障解析のポイント

2023年2月22日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を多く用いて、初級者にも理解しやすいように説明いたします。

次世代光インターコネクションを支える光電コパッケージ技術とポリマー光回路技術の現状・課題・展開

2022年11月29日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

シリコンフォトニクスの基礎と現状、最新動向、今後の展望

2022年9月21日(水) 10時00分12時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、経済性・超小型・高速伝送・低環境負荷などの利点から注目されているシリコンフォトニクスについて取り上げ、シリコンフォトニクスの基礎と動向、光トランシーバ・コパッケージ技術、ヘテロジニアス集積による進化など、シリコンフォトニクス技術の現状と今後の進展について解説いたします。

次世代光インターコネクションを支える光電コパッケージ技術とポリマー光回路技術の現状・課題・展開

2022年5月30日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

CMP技術の基礎と応用

2022年5月16日(月) 10時30分12時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、LSIの製造工程で用いられるCMP技術の基礎と応用について解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2022年4月28日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障未然防止・故障解析入門講座

2022年3月29日(火) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2022年3月25日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障未然防止と故障解析入門

2022年2月15日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

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