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本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、電極スラリー作製について基礎から解説し、塗布膜乾燥工程における構造形成プロセスを解説いたします。

本セミナーでは、液膜の塗布・乾燥においてやっかいな「膜厚ムラ」の回避・抑制に向けて、液膜の流れや溶媒の蒸発特性等の塗布・乾燥の物理現象から、各種膜厚ムラの形成過程や起きている現象、対策方針、分析方法までを詳しく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、乾燥の基礎知識から解説し、塗布膜乾燥のメカニズム、塗布膜乾燥速度の定量的取り扱い、乾燥時間短縮のポイント、乾燥操作と製品品質の関連について詳解いたします。

本セミナーでは、初級者のための乾燥技術入門と評価実務について詳解いたします。

本セミナーでは、乾燥の基礎知識から解説し、塗布膜乾燥のメカニズム、塗布膜乾燥速度の定量的取り扱い、乾燥時間短縮のポイント、乾燥操作と製品品質の関連について詳解いたします。

本セミナーでは、塗布・乾燥の基礎や欠陥の原理・対応策など、現場で必要な知識をわかりやすく解説いたします。
また、手軽に行えるExcelシミュレーション技術についても紹介いたします。

本セミナーでは、連続プロセス・フロー合成プロセスのスケールアップに関する基礎知識から分かりやすく解説いたします。
工場建設コスト、エネルギーコスト、廃液処理コストを含めたコストの計算方法を詳細に解説いたします。

本セミナーでは乾燥の基礎から解説し、膜厚の均一化、シミュレーション技術、塗布膜のトラブルと対策について詳解いたします。

本セミナーでは、連続プロセス・フロー合成プロセスのスケールアップに関する基礎知識から分かりやすく解説いたします。
工場建設コスト、エネルギーコスト、廃液処理コストを含めたコストの計算方法を詳細に解説いたします。

本セミナーでは、液膜の塗布・乾燥プロセスについて取り上げ、スジやムラの形成過程の解説と回避・抑制、形成メカニズムについて実験的な観察と理論・数値シミュレーションの両面から解説いたします。

本セミナーは、マイクロ波の基礎から解説し、マイクロ波エネルギーの安定供給や照射による効果の確認を行うための方法について詳解いたします。