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本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

このセミナーでは、化学プロセスシミュレータCOCO/ChemSep を使い、それによるシミュレーションを解説して、分離工学全般を基礎からモデル解析までわかりやすく講義いたします。

本セミナーでは各社の特許事例を基に間欠塗工の変遷と各方式の特徴を整理して紹介します。また、間欠塗工に用いるスロット塗工とコンマ塗工や乾燥プロセスの理論を化学工学を専門としない技術者にも解るよう数式を排して解説いたします。
さらに、製造現場で技術者が直面する幾多ものトラブルを解決する手法も整理して解説いたします。

本セミナーでは、セラミックスの基礎から解説し、セラミック材の種類、添加剤成分との相性、用法・用量のポイント、次世代半導体・高精細化・三次元対応などへの展望と可能性について解説いたします。

本セミナーでは、精密洗浄の基礎から解説し、水の動きを一つの軸として半導体洗浄が直感でわかるようになるポイント、半導体洗浄にまつわる課題と対策・未然防止策を解説いたします。

本セミナーでは、化学工学理論 (熱伝導、濾過、撹拌、抽出、乾燥) 、スケールアップ製造条件・設備の設計、溶媒の選択法、溶媒回収プロセス、プラントの安全性保持技術、トラブル事例・対策について、豊富な経験に基づき、事例を踏まえ分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、乾燥プロセスの基礎から乾燥速度の向上、省エネルギー化、トラブルを解決するための方法までを分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、乾燥プロセスの基礎から乾燥速度の向上、省エネルギー化、トラブルを解決するための方法までを分かりやすく解説いたします。

本セミナーは、塗布液物性の基礎から解説し、代表的な8種の塗布欠陥の発生メカニズムと対策例から類似のトラブルへの対応について詳解いたします。

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。