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半導体のセミナー・研修・出版物

SiCパワー半導体開発とSiC単結晶ウェハ製造プロセスの最新動向

2024年7月1日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiCパワー半導体開発の最前線を紹介すると共に、SiC単結晶ウェハの開発状況・ビジネス展開について解説し、SiC単結晶ウェハ開発において今後取り組むべき技術課題を議論いたします。
SiCパワー半導体に関する基礎知識、開発・ビジネスの概況、SiCパワー半導体の礎となるSiC単結晶ウェハに関する基礎知識、開発・ビジネスの概況について修得いただけます。

CMP技術とその最適なプロセスを実現するための実践的総合知識

2024年6月28日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造における様々なCMP工程の特徴を紹介し、それに用いられる装置、スラリー、パッドの詳細を解説いたします。
さらに、CMPによる材料除去のメカニズムについて様々なモデルを紹介し、そこからパッドやスラリーのあるべき姿を考察いたします。

半導体デバイス製造に用いられる接合技術

2024年6月27日(木) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスに用いられる様々な接合技術とその評価技術について基礎から応用までを解説いたします。

半導体製造用ガスの技術動向と流量制御、汚染管理

2024年6月27日(木) 10時30分16時15分
オンライン 開催

半導体市場の最新動向を踏まえた今後の展望とビジネスチャンス

2024年6月26日(水) 13時30分15時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

半導体産業入門と開発、製造の実務 (後工程)

2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (2日間)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (前工程)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2024年6月24日(月) 10時00分2024年6月26日(水) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

半導体市場の現状と今後の展望2024

2024年6月21日(金) 13時00分16時00分
オンライン 開催

パワーデバイス半導体SiC結晶と欠陥評価技術

2024年6月20日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiC結晶やその欠陥の種類、デバイス特性への影響についてレビューした後、結晶欠陥の評価手法に関して解説いたします。

半導体先端パッケージ技術を理解するための基礎

2024年6月19日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスとその製造方法 (前工程) 、最新のデバイス動向や市場動向について、基礎からわかりやすく解説いたします。

半導体パッケージの伝熱経路、熱モデルと熱設計・シミュレーション技術

2024年6月19日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体パッケージの構造や伝熱経路、シミュレーション技術を解説いたします。
また、半導体の熱設計の考え方、3次元シミュレーションを用いる際の注意点や半導体のモデル化に関する動向について解説いたします。

半導体製造に向けた高純度ガスの精製、分析技術

2024年6月18日(火) 10時30分16時15分
オンライン 開催

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

2024年6月13日(木) 10時30分2024年6月26日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

半導体用レジストの材料設計とその評価

2024年6月12日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

半導体用レジストの基礎、材料設計、プロセス、評価方法

2024年6月11日(火) 10時30分2024年6月24日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

簡単な回路から始めるアナログ設計と実装の基礎

2024年6月11日(火) 10時00分16時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、基本的なアナログ回路の考え方、放熱設計等の基本的な実装設計、センシング回路の基本の設計手法、トラブル発生時等に役立つ「アナログ的な」考え方について、事例を交えわかりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2024年6月11日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向

2024年6月10日(月) 10時30分2024年6月21日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiCパワー半導体開発の最前線を紹介すると共に、SiC単結晶ウェハの開発状況・ビジネス展開について解説し、SiC単結晶ウェハ開発において今後取り組むべき技術課題を議論いたします。
SiCパワー半導体に関する基礎知識、開発・ビジネスの概況、SiCパワー半導体の礎となるSiC単結晶ウェハに関する基礎知識、開発・ビジネスの概況について修得いただけます。

半導体表面におけるウェットプロセスの基礎と最新動向

2024年6月7日(金) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体表面におけるウェットプロセス、及び、関連する表面計測法について、基礎から先端研究事例までを解説・紹介いたします。

パワーモジュールパッケージの高耐熱化・低熱抵抗化の技術動向

2024年6月6日(木) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、パワーモジュールパッケージについて取り上げ、パワーモジュールパッケージに求められる放熱性、絶縁性、信頼性確保に向け、実例を交えて開発動向を詳解いたします。

半導体封止材の最新技術動向と設計評価技術

2024年6月5日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体封止剤について取り上げ、エポキシ樹脂の変性技術、半導体パッケージの封止法、半導体封止材の設計と評価、5G対応で求められる材料特性について詳解いたします。

車載半導体の最新技術と今後の動向

2024年6月3日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、自動運転や電気自動車の性能を左右する車載半導体 (コンピュータ、センサ、パワー半導体) について、基礎原理から最新技術、今後の動向予測までを解説いたします。

研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工

2024年5月31日(金) 13時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、CMP等の研磨プロセスにおいて副資材であるパッド、スラリー、コンディショナに焦点をあてて解説いたします。

次世代半導体パッケージング・実装技術動向と市場展望

2024年5月30日(木) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、チップレット等の新技術による中工程概念の出現や、異種チップの集積/ヘテロジニアスパッケージ等、重要性を増し進化していく半導体パッケージングの技術動向・市場動向について解説いたします。
また、急成長する生成AIの影響、半導体パッケージにおける日本の強み等について、インテルでパッケージ基板・後工程材料・装置等のサプライ・チェーンのマネジメントを行い、現在も市場動向調査やパッケージ材料開発を支援している講師が解説いたします。

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

2024年5月30日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2024年5月30日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

ドライエッチングのメカニズムと最先端技術

2024年5月29日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーではエッチング技術の基礎・メカニズムの説明からスタートし、現在IntelやTSMC, Samsung, SK Hynixなど最新半導体デバイスを製造しているメーカが使用している先端エッチング技術までを紹介いたします。
また、エッチング技術にも多くの課題があり、そのブレークスルー技術についても解説いたします。

半導体パッケージ技術の基礎と課題解決およびFOWLP等の最新技術動向

2024年5月29日(水) 10時30分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体パッケージの基礎から最近のパッケージの動向としてSiP, WLP, FOWLP, TSV技術などを例に解説いたします。

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