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ドライエッチングのセミナー・研修・出版物
半導体ドライエッチングの基礎と最新技術
2023年3月10日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。
半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術
2023年1月27日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。
原子層エッチングの原理、反応プロセスとその応用技術
2022年12月8日(木) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、原子層エッチングについて取り上げ、原子層エッチングの基礎から、これまでの研究動向、各手法の特徴、各種材料の加工事例まで分かりやすく解説いたします。
ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望
2022年11月11日(金) 13時00分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。
半導体製造プロセスにおけるエッチング技術の最新動向とプロセス制御
2022年6月16日(木) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、ドライ、ウェット、原子層の各エッチング技術の原理から各種材料への応用、三次元化への対応まで最新事例を交えながら解説いたします。
ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向
2022年6月6日(月) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。
プラズマ処理の基礎・薄膜堆積と半導体ドライエッチング技術 入門
2022年4月22日(金) 13時00分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられる非平衡プラズマの基礎から解説し、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置構造、処理条件の最適化法などについて説明いたします。
半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術
2022年2月25日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。
半導体ドライエッチングの基礎と最新技術
2021年12月20日(月) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。
半導体製造におけるエッチング技術の基礎知識と最新動向
2021年11月30日(火) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。
ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向
2021年8月30日(月) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。
半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術
2020年12月22日(火) 10時00分
～
16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。
ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望
2020年11月16日(月) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場・オンライン 開催
本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。
ドライエッチングの最新技術動向とプラズマダメージ およびアトミックレイヤーエッチング(ALE)
2020年3月19日(木) 10時30分
～
16時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)
2020年3月18日(水) 13時00分
～
17時00分
2020年3月19日(木) 10時30分
～
16時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチングの最新技術動向とプラズマダメージ およびアトミックレイヤーエッチング(ALE)
2019年10月3日(木) 9時30分
～
13時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応の制御
2019年10月2日(水) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)
2019年10月2日(水) 13時00分
～
16時30分
2019年10月3日(木) 9時30分
～
13時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチングの最新技術動向とプラズマダメージ およびアトミックレイヤーエッチング(ALE)
2019年3月15日(金) 9時30分
～
13時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応の制御
2019年3月14日(木) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)
2019年3月14日(木) 13時00分
～
16時30分
2019年3月15日(金) 9時30分
～
13時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチングの最新技術動向とプラズマダメージおよびアトミックレイヤーエッチング (ALE)
2018年7月6日(金) 9時30分
～
13時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応の制御
2018年7月5日(木) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)
2018年7月5日(木) 13時00分
～
16時30分
2018年7月6日(金) 9時30分
～
13時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
薄膜電子デバイスの作製プロセス最適化と設備導入のポイント
2018年5月24日(木) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、各成膜方法から、パターニング手法、転写技術、洗浄乾燥、表面処理、クリーンルーム、安全への配慮まで、薄膜電子デバイスのプロセス構築・設備導入における実用ノウハウを解説いたします。
ドライエッチング技術の基礎と表面反応の制御および最新技術動向とALE
2018年1月31日(水) 10時00分
～
17時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。
