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ドライエッチングのセミナー・研修・出版物

ドライエッチングのメカニズムと先端ロジックデバイスのエッチング技術

2024年3月8日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から解説し、エッチングにおける劣化トラブルと抑制技術、プロセス制御によるCD安定化について解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2024年2月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

最先端ドライエッチング技術

2024年1月26日(金) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングについて基礎から解説し、最先端ドライエッチング技術として、マルチパターニング、FinFETやGAAなどのロジックFEOLエッチング、1.4nm以降のロジック配線エッチング、さらには超低温 (クライオ) エッチングを含む、3D NANDのHARエッチングについて具体的なプロセスフローを用いて詳細に解説いたします。

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

2023年12月15日(金) 12時30分2023年12月19日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2023年12月6日(水) 10時30分2023年12月19日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

2023年12月4日(月) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2023年11月27日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

最先端ドライエッチング技術

2023年10月27日(金) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングについて基礎から解説し、最先端ドライエッチング技術として、マルチパターニング、FinFETやGAAなどのロジックFEOLエッチング、1.4nm以降のロジック配線エッチング、さらには超低温 (クライオ) エッチングを含む、3D NANDのHARエッチングについて具体的なプロセスフローを用いて詳細に解説いたします。

半導体エッチング技術の基礎と最新動向、応用事例

2023年8月9日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチング、ウェットエッチング、および原子層エッチングについて、エッチングの原理から、各種材料への応用、技術動向、そして最先端の開発事例までを、メーカで各種半導体製造のエッチングプロセス開発に携わってきた講師が、実経験を交えて分かり易く解説いたします。

半導体製造におけるエッチング技術の基礎知識と最新動向

2023年6月2日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2023年3月10日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術

2023年1月27日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

原子層エッチングの原理、反応プロセスとその応用技術

2022年12月8日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、原子層エッチングについて取り上げ、原子層エッチングの基礎から、これまでの研究動向、各手法の特徴、各種材料の加工事例まで分かりやすく解説いたします。

ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望

2022年11月11日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

半導体製造プロセスにおけるエッチング技術の最新動向とプロセス制御

2022年6月16日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライ、ウェット、原子層の各エッチング技術の原理から各種材料への応用、三次元化への対応まで最新事例を交えながら解説いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2022年6月6日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

プラズマ処理の基礎・薄膜堆積と半導体ドライエッチング技術 入門

2022年4月22日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられる非平衡プラズマの基礎から解説し、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置構造、処理条件の最適化法などについて説明いたします。

半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術

2022年2月25日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と最新技術

2021年12月20日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

半導体製造におけるエッチング技術の基礎知識と最新動向

2021年11月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向

2021年8月30日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術

2020年12月22日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望

2020年11月16日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ドライエッチングの最新技術動向とプラズマダメージ およびアトミックレイヤーエッチング(ALE)

2020年3月19日(木) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)

2020年3月18日(水) 13時00分17時00分
2020年3月19日(木) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

ドライエッチングの最新技術動向とプラズマダメージ およびアトミックレイヤーエッチング(ALE)

2019年10月3日(木) 9時30分13時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応の制御

2019年10月2日(水) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)

2019年10月2日(水) 13時00分16時30分
2019年10月3日(木) 9時30分13時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

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