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ALD (Atomic Layer Deposition / 原子層堆積法)のセミナー・研修・出版物

半導体製造装置部品への表面処理

2024年3月27日(水) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される表面処理技術、課題とその対応について解説いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2024年2月9日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

ALD/ALEの基礎から最先端LSI応用まで

2024年2月8日(木) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALDプロセス (原子層堆積) の反応機構、薄膜形成とその応用事例

2024年2月6日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD技術について、原理、メカニズムから応用技術までを解説いたします。
また、薄膜形成の原理、堆積メカニズム、原料の特徴から形成された薄膜の特性・物性、適用可能な事例まで幅広く解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2024年2月2日(金) 9時00分2024年2月6日(火) 23時59分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2024年1月29日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2023年11月30日(木) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) 技術の基礎・入門と応用展開

2023年10月30日(月) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) による高品質膜作製・コーティング技術

2023年10月27日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
吸着反応機構、表面酸化、モニタリング技術、プロセス調整について詳解いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2023年10月27日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

CVDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2023年10月13日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2023年8月29日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年8月22日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) 技術の基礎・入門と応用展開

2023年6月28日(水) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年6月16日(金) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
また、最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。

半導体製造におけるエッチング技術の基礎知識と最新動向

2023年6月2日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年5月26日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2023年5月26日(金) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

原子層堆積 (ALD) 技術による薄膜作製と原料の開発、応用

2023年3月29日(水) 10時00分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD技術について、原理、メカニズムから応用技術までを解説いたします。
また、薄膜形成の原理、堆積メカニズム、原料の特徴から形成された薄膜の特性・物性、適用可能な事例まで幅広く解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年3月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2023年2月20日(月) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術

2023年1月27日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2022年12月12日(月) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

原子層エッチングの原理、反応プロセスとその応用技術

2022年12月8日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、原子層エッチングについて取り上げ、原子層エッチングの基礎から、これまでの研究動向、各手法の特徴、各種材料の加工事例まで分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2022年12月6日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望

2022年11月11日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2022年10月27日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2022年10月17日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2022年9月26日(月) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) およびALE (原子層エッチング) の基礎と応用

2022年9月2日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

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