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ALD (Atomic Layer Deposition / 原子層堆積法)のセミナー・研修・出版物

ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望

2022年11月11日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2022年10月27日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

ALD (原子層堆積法) およびALE (原子層エッチング) の基礎と応用

2022年9月2日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2022年8月19日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2022年8月10日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積) 技術による薄膜作製と低温プロセスの開発

2022年7月22日(金) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD技術について、原理、メカニズムから応用技術までを解説いたします。
半導体分野以外への応用を目指した「常温成膜」が可能な新しいALD技術も紹介いたします。

半導体製造プロセスにおけるエッチング技術の最新動向とプロセス制御

2022年6月16日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライ、ウェット、原子層の各エッチング技術の原理から各種材料への応用、三次元化への対応まで最新事例を交えながら解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2022年5月20日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2022年4月25日(月) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
また、最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2022年3月31日(木) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術

2022年2月25日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2021年12月20日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

原子層堆積 (ALD) 法による薄膜作製技術の基礎と応用・技術トレンド

2021年12月10日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、原子層堆積 (ALD) 法の原理・特徴・装置等の基礎から、薄膜の特性評価、用いられる材料群、成膜条件・注意点、エネルギーデバイス作製や各種材料の表面改質への応用、新しい成膜材料やプラズマ技術を用いた成膜等の最近のALD技術までを詳解いたします。

半導体製造におけるエッチング技術の基礎知識と最新動向

2021年11月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積法) ALEt (原子層エッチング) の基礎・応用・最新動向

2021年10月8日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2021年3月29日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD法の基礎と良好な膜特性を得るための最適プロセス設計

2021年2月12日(金) 11時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、原子層制御プロセスの基礎から解説し、原料供給・パージ・反応性ガス供給など多くの制御パラメータの最適化や、ALDプロセスを活用した最新の応用事例を詳解いたします。

ALD (原子層堆積) 技術の基礎と応用

2020年12月24日(木) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD (原子層堆積) 技術について、その基礎と応用について概説いたします。
特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

半導体 (ドライ/ウェット) エッチングの基礎とプロセス制御・最新技術

2020年12月22日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と最新動向、今後の展望

2020年11月16日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と応用 (1日コース)

2020年10月9日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と応用 (1日コース)

2020年9月25日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2020年7月31日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
このセミナーは、2020年3月30日収録セミナーの映像配信です。​講師と直接質疑応答いただけます。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2020年3月30日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と応用 (1日コース)

2020年1月21日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

原子層制御プロセスの原理・最適設計および最新動向

2019年12月20日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、原子層制御プロセスの基礎から解説し、原料供給・パージ・反応性ガス供給など多くの制御パラメータの最適化や、ALDプロセスを活用した最新の応用事例を詳解いたします。

ALD (原子層堆積法) ALEt (原子層エッチング) の基礎・応用・最新動向

2019年11月26日(火) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

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