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ALD (Atomic Layer Deposition / 原子層堆積法)のセミナー・研修・出版物

電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用

2024年11月12日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

2024年9月27日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2024年8月5日(月) 10時30分2024年8月15日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2024年7月25日(木) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
また、最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。

CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2024年7月25日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (後工程)

2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (前工程)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (2日間)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2024年6月24日(月) 10時00分2024年6月26日(水) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2024年6月11日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

真空技術の基本と機器の運用・問題解決のコツ

2024年5月14日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

半導体ドライエッチングの基礎と原子層プロセスの最新動向

2024年4月23日(火) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

2024年3月29日(金) 9時45分16時45分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

半導体製造装置部品への表面処理

2024年3月27日(水) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される表面処理技術、課題とその対応について解説いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2024年2月9日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

ALD/ALEの基礎から最先端LSI応用まで

2024年2月8日(木) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALDプロセス (原子層堆積) の反応機構、薄膜形成とその応用事例

2024年2月6日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD技術について、原理、メカニズムから応用技術までを解説いたします。
また、薄膜形成の原理、堆積メカニズム、原料の特徴から形成された薄膜の特性・物性、適用可能な事例まで幅広く解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2024年2月2日(金) 9時00分2024年2月6日(火) 23時59分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2024年1月29日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2023年11月30日(木) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) 技術の基礎・入門と応用展開

2023年10月30日(月) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) による高品質膜作製・コーティング技術

2023年10月27日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
吸着反応機構、表面酸化、モニタリング技術、プロセス調整について詳解いたします。

ALDの基礎と原料の開発・選択

2023年10月27日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、注目されるALD法 (原子層堆積法) について、基礎から解説いたします。
ALDにまつわる問題と対策方法、低温ALD、今後の発展が期待されるALE ( Atomic Layer Eching ) についても解説いたします。

CVDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2023年10月13日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

ALD (原子層堆積) / ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用

2023年8月29日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年8月22日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) 技術の基礎・入門と応用展開

2023年6月28日(水) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ALD (原子層堆積) 技術、ALE (原子層エッチング) 技術の基礎と応用について、堆積の原理や材料を中心に解説いたします。
また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年6月16日(金) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
また、最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。

半導体製造におけるエッチング技術の基礎知識と最新動向

2023年6月2日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造の動向を紹介した後、従来のドライ/ウェットエッチングの基礎と課題、ALEの基本原理、そして各種材料のALE開発事例までを、メーカの研究開発現場にいる講師が、実経験を交えて分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年5月26日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

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