技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

CVDのセミナー・研修・出版物

大気圧プラズマの基礎と応用展開

2024年3月28日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

半導体製造装置部品への表面処理

2024年3月27日(水) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される表面処理技術、課題とその対応について解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2024年2月29日(木) 10時00分2024年3月13日(水) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

薄膜作製プロセスの基礎と基板への付着・密着性評価、剥離対策

2024年2月22日(木) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの薄膜生成プロセスについて基礎から解説し、実務に役立つ付着・密着性評価、剥離対策について詳解いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2024年2月16日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

薄膜作製の基礎と薄膜評価・トラブル対策

2024年2月9日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2024年2月2日(金) 9時00分2024年2月6日(火) 23時59分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2024年1月29日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

2023年12月15日(金) 12時30分2023年12月19日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

プラズマの基礎と半導体プロセス・エッチング入門

2023年12月4日(月) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2023年11月30日(木) 10時00分2023年12月13日(水) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2023年11月20日(月) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

CVDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2023年10月13日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

次世代パワーデバイスに向けたデバイス化技術と要素技術の展望

2023年9月12日(火) 10時30分16時10分
オンライン 開催

本セミナーでは、次世代パワーデバイスについて取り上げ、現在のパワーデバイスとの比較した際のメリット、開発状況、市場に普及するためのポイント、今後の開発動向について詳解いたします。

薄膜形成におけるスパッタリングの基礎とトラブル対策

2023年9月11日(月) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、スパッタリングの基礎から解説し、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータ、希望の膜を得るための方法、日常の運用においてチェックしておくべき事項、トラブルが生じた際の対処方法を解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年8月22日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

薄膜作製の基礎とトラブル対策

2023年8月8日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

酸化ガリウム (Ga2O3) の結晶成長・薄膜形成とデバイス応用

2023年7月26日(水) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説いたします。
第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明いたします。
第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、及び量産化対応

2023年5月30日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年5月26日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2023年3月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2023年2月24日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

酸化ガリウム (Ga2O3) の結晶成長・薄膜形成とデバイス応用

2023年2月22日(水) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説いたします。
第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明いたします。
第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説いたします。

表面処理技術の基礎と応用

2023年2月2日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、各種分野で使用されている主な表面処理技術について原理、特徴などを説明し、適用する場合の留意点、評価法について説明いたします。
また、自動車などの分野への適用事例と、最近の新技術についても紹介いたします。

大気圧プラズマの必須基礎知識と産業応用技術

2022年11月28日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて基礎から解説いたします。
また、樹脂、ガラス、繊維の表面処理および排ガス処理、殺菌、水浄化、VOC分解、空気清浄機などへの応用について解説いたします。

薄膜作製 入門

2022年11月24日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について基礎から解説し、実務での活用についてわかりやすく詳解いたします。

表面処理技術の基礎と応用

2022年11月24日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、各種分野で使用されている主な表面処理技術について原理、特徴などを説明し、適用する場合の留意点、評価法について説明いたします。
また、自動車などの分野への適用事例と、最近の新技術についても紹介いたします。

プラズマの生成、制御、計測技術とプロセスへの応用

2022年11月8日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマの基礎から解説し、プラズマの各種生成法、現象や反応の理解、モニタリングまで、所望のプラズマプロセスを実現するための要素技術を解説いたします。

コンテンツ配信