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精密洗浄のセミナー・研修・出版物

洗浄バリデーション/洗浄方法の残留限度値設定・根拠

2014年12月16日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、極めて微量でも健康リスクが懸念される物質や毒性データのない物質 (例えば原薬中間体) が洗浄対象物の場合どう対応すべきか、PIC/S、Risk MaPP、遺伝毒性不純物管理ガイドラインなどをふまえ、洗浄バリデーションに関わる悩ましい疑問点解決のヒントを提供いたします。

PIC/S GMPバリデーションコース (2日間)

2014年12月16日(火) 10時30分16時30分
2014年12月17日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、洗浄バリデーション、設備管理バリデーションの2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 92,340円(税込) → 割引受講料 61,560円(税込)

マイクロバブル/ナノバブルの基礎と応用

2014年10月17日(金) 13時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、本講座はマイクロバブル/ナノバブルの基礎、加圧溶解方式による高濃度マイクロバブル発生装置の特徴について解説し、マイクロバブル粒径に与える流体物性変化の影響について、この装置の応用として精密部品の洗浄例および将来の応用についても詳解いたします。

環境モニタリング設定根拠および洗浄・滅菌作業ノウハウ【コース】

2014年8月28日(木) 10時30分16時30分
2014年8月29日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、環境モニタリング設定根拠および洗浄・滅菌作業ノウハウセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 92,340円(税込) → 割引受講料 66,690円(税込)
通常受講料 : 85,500円(税別) → 割引受講料 61,750円(税別)

産業洗浄処理の基礎と洗浄評価手法

2014年4月16日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄の基礎から解説し、洗浄方法・洗浄剤・装置の種類と選定のポイント、、洗浄評価方法まで詳解いたします。

高活性医薬品を扱う設備での封じ込め技術

2014年3月31日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、健康ベース曝露限界値を用いる場合の洗浄基準、FDAによる新しいプロセスバリデーションの考え、EMA、PDAなどの最近の新しい動きなど、具体的な対処法を解説いたします。

洗浄のメカニズムと残留汚れの定量化および簡易評価手法

2014年2月20日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズムから洗浄剤、装置の選定におけるポイントおよび残存汚れの定量的な評価法について解説致します。

半導体歩留まり向上のためのクリーン化と洗浄技術

2014年2月19日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体表面クリーン化技術の基礎から最先端情報までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。

各種汚れに適した洗浄方法、洗浄性評価と洗浄理論

2013年11月27日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズム、洗浄剤の長所・短所、汚れの質に応じた洗浄方法、洗浄結果の評価について分かりやすく解説いたします。

三極に対応した洗浄バリデーションの具体的実施法と洗浄作業手順書の作成

2013年11月26日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションついて基礎から解説するとともに、許容基準設定根拠とその計算例及び洗浄作業手順書作成、目視検査員教育訓練について実例を挙げて詳細致します。

3極GMP・改正無菌操作法・最終滅菌法対応クリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2013年7月12日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、無菌操作法で改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

電解水の基本特性および精密洗浄への応用

2013年4月25日(木) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、電解水の生成および基本特性から精密洗浄,表面処理への応用まで最新情報をふまえて解説いたします。

3極GMP・無菌操作法改正を踏まえたクリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2012年11月28日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、無菌操作法で改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

各種汚れに適した洗浄方法、洗浄性評価と洗浄理論

2012年8月28日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズム、洗浄剤の長所・短所、汚れの質に応じた洗浄方法、洗浄結果の評価について分かりやすく解説いたします。

医薬品製造設備における“洗浄しずらい箇所”への洗浄のコツ

2012年8月23日(木) 10時30分16時45分
東京都 開催 会場 開催

LED照明器具の高安全性に向けた基板の放熱設計と実装技術

2012年6月26日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

LED照明器具、LED搭載商品の熱対策について基礎から解説し、基板の放熱設計、実装技術、信頼性試験について詳解いたします。

液体微粒化技術の基礎と測定・評価

2012年4月24日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、内燃機関の燃料噴射、噴霧塗装、半導体の精密洗浄、医薬品原料・製剤の製造、農薬散布など様々な産業において必要とされている液体微粒化技術の基礎と測定・評価技術を詳解いたします。

3極に対応した洗浄バリデーション実施と標準作業手順書作成・目視検査

2012年4月13日(金) 10時30分16時00分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションについて基礎から解説し、実施の流れ、洗浄作業手順書・バリデーション計画書・報告書などのドキュメント作成、教育訓練までを網羅して解説いたします。

先端半導体製造における洗浄・乾燥技術の基礎と課題および最新動向

2012年3月28日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から世界最先端の最新動向まで、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に徹底解説いたします。

クリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2012年1月31日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、クリーンルーム維持管理の基礎から解説し、改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

封じ込め/アイソレータ事例と洗浄・バリデーションへの対応

2012年1月25日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、高活性物質の取り扱い・封じ込めの基礎から解説し、高活性物質の品質管理、最新の封じ込め・洗浄評価について詳解いたします。

超音波の基礎と最新技術

2012年1月23日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、超音波の基礎から解説し、洗浄・撹拌・表面改質などの応用、超音波導入のポイントについて詳解いたします。

最新通信機器に求められる洗浄技術

2011年12月21日(水) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、最新の通信機器実装基板の製造工程で発生している問題点と、対策として導入した洗浄技術について解説いたします。

3極に対応した洗浄バリデーション実施と標準作業手順書作成・目視検査

2011年11月30日(水) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションについて基礎から解説し、実施の流れ、洗浄作業手順書・バリデーション計画書・報告書などのドキュメント作成、教育訓練までを網羅して解説いたします。

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