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本セミナーでは、材料、加工、組み立てなどの製造工程を俯瞰し、洗浄工程の目的、被洗浄物の材料や汚れ、洗浄および乾燥方法、洗浄後の評価方法やスペックについて詳解いたします。

本セミナーでは、バイオ医薬品におけるバリデーションについて基礎から解説し、設備機器・環境モニタリングの適格性評価、プロセスバリデーション、洗浄バリデーション、分析バリデーションについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、歴史からバリデーションを振り返り、その本質を理解した上で、洗浄に関わる残留限度値設定の考え方、効率的な評価方法、バイオ医薬品製造ラインにおける限度値設定の考え方、ホールドタイムの設定、SOP作成上の留意点など、現場の視点で解説いたします。

本セミナーでは、歴史からバリデーションを振り返り、その本質を理解した上で、洗浄に関わる残留限度値設定の考え方、効率的な評価方法、バイオ医薬品製造ラインにおける限度値設定の考え方、ホールドタイムの設定、SOP作成上の留意点など、現場の視点で解説いたします。

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

本セミナーでは、半導体の性質、構造と種類、バイポーラトランジスタ、MOSFETの構造と動作原理、CMOS IC作製の流れ、半導体デバイス作製に用いられる個別プロセス技術について詳解いたします。

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。

本セミナーでは、低分子・高分子の洗浄について取り上げ、低分子・高分子の洗浄で用いる曝露限界値の設定、曝露限界値に基づく洗浄管理基準の設定、数値シミュレーション事例、目視検査、今後の洗浄実務の流れと管理、洗浄目標の設定、ワーストケースアプローチ、サンプリング時の回収率、CHTについて解説いたします。

本セミナーでは、はじめに洗浄バリデーションの基本を説明した上で、交叉汚染防止としての洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や曝露防止について事例を交えて考察いたします。
また、毒性不明の新規化合物に対するアプローチや、試験室、実験室での封じ込め対策とその方法における封じ込めのための曝露対策の設備面での対応についても事例により解説いたします。

本セミナーでは、はじめに洗浄バリデーションの基本を説明した上で、交叉汚染防止としての洗浄バリデーションと毒性学的評価に基づく残留許容基準値設定の考え方、そして高生理活性製造施設の封じ込め技術や曝露防止について事例を交えて考察いたします。
また、毒性不明の新規化合物に対するアプローチや、試験室、実験室での封じ込め対策とその方法における封じ込めのための曝露対策の設備面での対応についても事例により解説いたします。

本セミナーでは、半導体洗浄の基礎から解説し、水の動きを一つの軸として半導体洗浄が直感でわかるようになるポイント、半導体洗浄にまつわる課題と対策・未然防止策を解説いたします。

本セミナーでは、材料、加工、組み立てなどの製造工程を俯瞰し、洗浄工程の目的、被洗浄物の材料や汚れ、洗浄および乾燥方法、洗浄後の評価方法やスペックについて詳解いたします。