技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、作業環境を汚染する原因・対策、環境モニタリングの弱点・留意点、環境モニタリングの限界と対策、作業者保護 (薬害) 対策事例について、豊富な経験に基づき、具体的事例を交え分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、進化したGMPの理念に基づき、サプリメント製造企業として理解し実践すべき事項ならびに適切な構造設備について具体的に解説いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術の基本と対策技術、維持・運用管理の基本と応用、具体的なクリーン化技術の方法、清掃の基本について詳解いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
本セミナーでは、原料、OEM仕入れ先の工場監査・指導要領、事故・不祥事例、顧客に対する物理的/化学的/生物的危害、最終商品の表示作成、クレーム発生から再発防止対策、ミスを起こさない商品設計、従業員への教育等あらゆる方向から工場運営を考え、想定外のトラブルを無くすためのノウハウについて解説いたします。
本セミナーでは、環境モニタリングについて基礎から解説し、環境モニタリングの限界、留意点等について具体例を交えて解説いたします。
本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術の基本と対策技術、維持・運用管理の基本と応用、具体的なクリーン化技術の方法、清掃の基本について詳解いたします。
本セミナーでは、現場で役立つクリーンルームの維持管理とゴミ・異物対策、および局所クリーン環境構築の基礎から実践ノウハウをわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎とポイントをわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を解説いたします。
さらに、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。
本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎とポイントをわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を解説いたします。
さらに、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。
本セミナーでは、無菌製剤の製造プロセスの特徴、設備設計のポイント、アイソレータ/RABSの特徴、ゾーニング、バリアや更衣の機能などについて解説いたします。
一度の食品事件・事故が会社存続の危機を招きます。
本セミナーでは、長年に渡って様々な食品工場で品質管理業務を経験してきた講師が、安全で安心な食品を届け続けるために必要な管理・基準作り・チェックの勘所を、事例ベースに解説いたします。
本セミナーでは、無菌製剤の製造プロセスの特徴、設備設計のポイント、アイソレータ/RABSの特徴、ゾーニング、バリアや更衣の機能などについて解説いたします。
本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。
本セミナーでは、開発初期段階のハザードアセスメント、ラボにおける一次封じ込め・二次封じ込めの設計、非常時対策、環境モニタリング、ラボの実例について、豊富な経験に基づき、事例を交え分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術について基礎から解説いたします。
また、発塵の原因、作業員管理・教育、清掃、クリーンルームの維持・管理・汚染対策について詳解いたします。
本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。
本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。
本セミナーでは、各種製品・原材料中に混入する異物について発生原因と防止策から、発生した場合の分析、原因解明まで、異物問題について具体的事例を基にわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの基礎、汚れ・維持・メンテナンスチェック項目、クリーンルームの清浄度測定方法、管理、清掃、事例を交えて実践的に解説いたします。
本セミナーでは、各種製品・原材料中に混入する異物について発生原因と防止策から、発生した場合の分析、原因解明まで、異物問題について具体的事例を基にわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、医薬品製造設備におけるクリーンルームについて取り上げ、クリーン化の基礎、クリーンルームの効果的な維持管理方法について解説いたします。
本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。