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本セミナーでは、異物トラブルの最新傾向、異物の材質・起源を特定するための実践ノウハウ、異物の材質・起源の特定、異物リスク分析、組織全体でのリスクマネジメント力について、すぐに職場で活用できるよう実践的に分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説いたします。

本セミナーでは、半導体洗浄について取り上げ、パーティクル付着のメカニズムと除去技術を解説いたします。
また、品質向上に向けた物理、化学、超音波、プラズマ洗浄の技術動向を詳解いたします。

本セミナーでは、異物混入対策、静電気対策、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。

本セミナーでは、クリーン化技術の基本と対策技術、維持・運用管理の基本と応用、具体的なクリーン化技術の方法、清掃の基本について詳解いたします。

本セミナーでは、原料、OEM仕入れ先の工場監査・指導要領、事故・不祥事例、顧客に対する物理的/化学的/生物的危害、最終商品の表示作成、クレーム発生から再発防止対策、ミスを起こさない商品設計、従業員への教育等あらゆる方向から工場運営を考え、想定外のトラブルを無くすためのノウハウについて解説いたします。

本セミナーでは、クリーン化技術の基本と対策技術、維持・運用管理の基本と応用、具体的なクリーン化技術の方法、清掃の基本について詳解いたします。

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎とポイントをわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を解説いたします。
さらに、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

本セミナーでは、無菌製剤の製造プロセスの特徴、設備設計のポイント、アイソレータ/RABSの特徴、ゾーニング、バリアや更衣の機能などについて解説いたします。