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本セミナーでは、医薬品生産の実務で誰もが悩む「残留許容値の設定」「サンプリング方法」「ホールドタイム (DHT/CHT) 」から、オペレーターが品質を守る自主保全の仕組み構築方法など網羅して解説いたします。

本セミナーでは、半導体洗浄について取り上げ、パーティクル付着のメカニズムと除去技術を解説いたします。
高圧スプレー、二流体スプレー、メガソニック・超音波、ブラシ洗浄の特徴と使い分け、洗浄条件を設定するときの考え方について解説いたします。

本セミナーでは、医薬品製造に不可欠なGMP (医薬品の製造管理及び品質管理の基準) の基本理念を再確認するとともに、工場の現場管理において極めて重要となる「衛生・防虫防鼠・異物・クリーンルーム」の4大管理の実務を体系的に学ぶことを目的としています。

本セミナーでは、半導体洗浄について取り上げ、パーティクル付着のメカニズムと除去技術を解説いたします。
高圧スプレー、二流体スプレー、メガソニック・超音波、ブラシ洗浄の特徴と使い分け、洗浄条件を設定するときの考え方について解説いたします。

本セミナーでは、空調システムの設計、施工、運用で失敗しないためにユーザーとして心得ておくべき留意点について事例を踏まえて解説いたします。

本セミナーでは、医薬品製造に不可欠なGMP (医薬品の製造管理及び品質管理の基準) の基本理念を再確認するとともに、工場の現場管理において極めて重要となる「衛生・防虫防鼠・異物・クリーンルーム」の4大管理の実務を体系的に学ぶことを目的としています。

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

半導体製造では、薬液中のパーティクルや金属不純物といった汚染物質の適切な管理が、製品品質や歩留まりの向上に重要です。
本セミナーでは、半導体薬液中の汚染物質の影響と汚染管理の基本的な考え方から、フィルタの種類・基礎原理、濾過膜の特性と評価方法、半導体製造プロセスにおけるフィルタの活用、要求性能、プロセス条件に応じたフィルタ選定のポイント、金属除去フィルタの除去メカニズムと性能評価、先端半導体におけるフィルタ技術動向まで、半導体製造用フィルタメーカーの講師が実務的な観点から解説いたします。

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄の基礎からパーティクルの付着・除去・再付着を界面、流体、機械力、静電気の観点で体系的に解説いたします。

本セミナーでは、複数の食品事業所の品質管理部門に約35年間従事し、現在はISOやHACCPなどのマネジメントシステムの審査員や構築支援を行っている講師により、各社のマネジメントシステムを形骸化することなく、継続的に有効に活用するためには何をするべきかについて解説いたします。

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄の基礎からパーティクルの付着・除去・再付着を界面、流体、機械力、静電気の観点で体系的に解説いたします。

本セミナーでは、化粧品の微生物汚染について基礎から解説いたします。
また、処方を行うにあたっての防腐システムの設計法、化粧品等の微生物汚染の動向とその原因と対策も含めて解説いたします。

本セミナーでは、医薬品製造工場建設における計画、設計、建設、試運転の各過程において、最新GMPを如何に組み込めば良いのか具体的に解説いたします。
豊富な経験を持つ講師が、経験に基づくプロジェクトマネジメント技術を平易にかつ実践的に解説いたします。