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本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

本セミナーでは、第1部では、使う側の立場に立ったクリーンルームのあり方、改造方法、運用方法、ゴミ異物対策について解説いたします。
第2部では、静電気対策資材やイオナイザーの性能評価、選定方法、設置方法まで現場のニーズに合わせて説明いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

本セミナーでは、静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性能評価方法について解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの基礎から解説し、クリーンルームの管理、異物混入対策のノウハウを事例を交えて解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの基礎からクリーンルームの設計、設営、運用方法について事例を交えて解説いたします。

本セミナーでは、静電気の基礎について説明し、半導体・液晶製造等のクリーンルームにおける静電気障害について触れ、イオナイザーの除電原理、種類と特徴、具体的な選定方法と使用上の注意点、除電性能評価方法について解説いたします。

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。