tech-seminar.jp

本セミナーでは、クリーンルームの基礎知識、静電気対策、現場作業の留意点、超音波除塵の技術等に関して解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、汚染原因やクリーンルームの仕組み、やってはいけないこと、効果的な清掃・メンテナンス方法など、クリーンルームの維持管理にあたって理解しておきたい実践的な知識とノウハウを詳しく解説いたします。

本セミナーは、使う側の立場に立ったクリーンルームのあり方、その改造方法、クリーンルームの運用方法、及び一般環境下においてもゴミ・異物不良でお困りの現場の改善も視野に入れて、クリーンルームの基礎から運用までを生産現場の不良削減手法及びその事例をご説明いたします。

本セミナーでは、塗工が専門の講師がRoll To Rollやスロットダイなど塗工における「理論的アプローチ」と「現場ノウハウ」を詳解いたします。

本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。

本セミナーでは、化粧品の微生物汚染について基礎から解説いたします。
また、処方を行うにあたっての防腐システムの設計法、化粧品等の微生物汚染の動向とその原因と対策も含めて解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。