技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

洗浄のセミナー・研修・出版物

HBEL (健康ベース曝露限界値) に基づいた洗浄評価基準とその運用

2026年2月27日(金) 12時30分2026年3月8日(日) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、HBEL (健康ベース曝露限界値) の概略、洗浄閾値の基本とその運用、および洗浄バリデーションの流れについて解説について解説いたします。
また、PIC/S GMP、改正GMP省令などの洗浄に関する規制、海外CDMOの現状についても解説いたします。

技術移転の高効率的/高再現性にむけた工業化検討・提供文書・許容基準設定

2026年2月24日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションの三極規制を解説した上で、洗浄バリデーションのリスク評価・管理、残留許容値の算出、設定での考え方、回収率の測定と残留許容値の設定、サンプリング (スワブ法、リンス法) 、許容値内でのアラート設定の在り方や社内運用のポイント、洗浄の計画、実施と手順書作成、そして封じ込め技術や漏洩防止対策等を事例を交えて解説いたします。

再生医療等製品におけるバリデーション実務

2026年2月20日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、再生医療等製品におけるバリデーションについて取り上げ、ガイドラインと具体事例を基に、設備機器の適格性評価、製造工程、プロセスシミュレーション、洗浄、滅菌、分析法などバリデーションの評価方法を解説いたします。

HBEL (健康ベース曝露限界値) に基づいた洗浄評価基準とその運用

2026年2月17日(火) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、HBEL (健康ベース曝露限界値) の概略、洗浄閾値の基本とその運用、および洗浄バリデーションの流れについて解説について解説いたします。
また、PIC/S GMP、改正GMP省令などの洗浄に関する規制、海外CDMOの現状についても解説いたします。

透明化粧品 (化粧品・クレンジング) の処方設計に伴う安全性確保・成分選択・使用感および効能効果の評価

2026年2月13日(金) 10時30分2026年2月27日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは透明化粧品 (化粧水・クレンジング剤) の処方に必要な化粧品に関関する法規制を守り、成分の安全性を自ら確認をしながら、化学構造、物理的性質を加味した成分の処方設計および評価を進める方法について基礎から解説いたします。

基礎から考える医薬品の品質と開発段階に応じた規格及びその設定法

2026年2月12日(木) 10時30分2026年2月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、医薬品の品質に焦点を当て、品質・規格設定の考え方、開発段階に応じた取り組み、承認申請書への対応、そして上市後の変更管理などに焦点を当て、医薬品開発における品質について演者の経験を中心に解説いたします。

マルチパーパス設備での洗浄評価基準・運用の基礎

2026年2月10日(火) 13時00分2026年2月25日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、治験薬、中間体、洗浄剤、OTC製品、ノンハザード物質、高分子医薬品 (不活化タンパク質断片)、HBELに基づく洗浄管理基準の設定等、製品非接触部と間接製品接触部 (封じ込め機器内部など) における洗浄管理基準、ハザードレベルの違いに応じた運用管理と分子量の違いに応じた運用管理について解説いたします。

基礎から考える医薬品の品質と開発段階に応じた規格及びその設定法

2026年2月10日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、医薬品の品質に焦点を当て、品質・規格設定の考え方、開発段階に応じた取り組み、承認申請書への対応、そして上市後の変更管理などに焦点を当て、医薬品開発における品質について演者の経験を中心に解説いたします。

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

2026年2月10日(火) 10時30分2026年2月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

半導体産業におけるクリーン化技術の基礎とノウハウ

2026年2月6日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

2026年2月3日(火) 10時30分2026年2月26日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

半導体製造プロセス 2セミナー

2026年2月3日(火) 10時30分2026年2月26日(木) 16時30分
オンライン 開催

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

2026年1月30日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

透明化粧品 (化粧品・クレンジング) の処方設計に伴う安全性確保・成分選択・使用感および効能効果の評価

2026年1月29日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは透明化粧品 (化粧水・クレンジング剤) の処方に必要な化粧品に関関する法規制を守り、成分の安全性を自ら確認をしながら、化学構造、物理的性質を加味した成分の処方設計および評価を進める方法について基礎から解説いたします。

マルチパーパス設備での洗浄評価基準・運用の基礎

2026年1月27日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、治験薬、中間体、洗浄剤、OTC製品、ノンハザード物質、高分子医薬品 (不活化タンパク質断片)、HBELに基づく洗浄管理基準の設定等、製品非接触部と間接製品接触部 (封じ込め機器内部など) における洗浄管理基準、ハザードレベルの違いに応じた運用管理と分子量の違いに応じた運用管理について解説いたします。

医薬品製造におけるバリデーション対応とQ&A

2026年1月26日(月) 10時30分2026年2月3日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、品質保証の歴史な経緯から、バリデーションが必要になった経緯、そして2011年FDAが新たなバリデーションガイダンスを出すことが必要になったのか、また、バリデーションと製剤開発の係わり、3Lots製造がバリデーションの必須要件か、などについて解説いたします。

医薬品製造におけるバリデーション対応とQ&A

2026年1月23日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、品質保証の歴史な経緯から、バリデーションが必要になった経緯、そして2011年FDAが新たなバリデーションガイダンスを出すことが必要になったのか、また、バリデーションと製剤開発の係わり、3Lots製造がバリデーションの必須要件か、などについて解説いたします。

バイオフィルムやヌメリの基礎知識および評価・除去のポイント

2026年1月21日(水) 12時30分2026年1月28日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは微生物細胞の活動と微生物制御に関する様々な問題点を示しながら、微生物細胞集団であるバイオフィルム制御の難しさを解説いたします。
また、バイオフィルム内の細菌叢の検出法や細胞の生理状態の確認法についても解説いたします。
これらを通して、バイオフィルムの構造と形成過程の知見や、バイオフィルムの防止・洗浄技術についても解説いたします。

バイオフィルムやヌメリの基礎知識および評価・除去のポイント

2026年1月20日(火) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは微生物細胞の活動と微生物制御に関する様々な問題点を示しながら、微生物細胞集団であるバイオフィルム制御の難しさを解説いたします。
また、バイオフィルム内の細菌叢の検出法や細胞の生理状態の確認法についても解説いたします。
これらを通して、バイオフィルムの構造と形成過程の知見や、バイオフィルムの防止・洗浄技術についても解説いたします。

半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

2026年1月19日(月) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2026年1月15日(木) 13時00分2026年1月28日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

GMPに対応した洗浄バリデーションは具体的に何を計画し、何を行い、何を証明すればよいのか

2026年1月9日(金) 13時00分2026年1月23日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄プロセスの開発からサンプリングと検出の適切性、CHTとDHTの設定、ならびに充分なデータがない場合のPDE設定のほか、混入許容限度、STV及び0.1% / 10ppm基準を用いた場合の残留許容値、バリデーションマスタープロトコル/マスターレポート/計画書/報告書/DI、多目的設備における交叉汚染防止などについて、ISPE Guide : 「Cleaning Validation Lifecycle Applications, Methods, and Controls」執筆タスクチーム日本代表の講師がわかりやすく解説いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2025年12月19日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

化学工場配属者が知っておきたい化学工学必須知識

2025年12月17日(水) 10時30分2025年12月24日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

GMPに対応した洗浄バリデーションは具体的に何を計画し、何を行い、何を証明すればよいのか

2025年12月16日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄プロセスの開発からサンプリングと検出の適切性、CHTとDHTの設定、ならびに充分なデータがない場合のPDE設定のほか、混入許容限度、STV及び0.1% / 10ppm基準を用いた場合の残留許容値、バリデーションマスタープロトコル/マスターレポート/計画書/報告書/DI、多目的設備における交叉汚染防止などについて、ISPE Guide : 「Cleaning Validation Lifecycle Applications, Methods, and Controls」執筆タスクチーム日本代表の講師がわかりやすく解説いたします。

化学工場配属者が知っておきたい化学工学必須知識

2025年12月16日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

産業・工業洗浄の進め方と洗浄剤の使い方・管理、清浄度評価

2025年11月27日(木) 10時30分2025年12月6日(土) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、材料、加工、組み立てなどの製造工程を俯瞰し、洗浄工程の目的、被洗浄物の材料や汚れ、洗浄および乾燥方法、洗浄後の評価方法やスペックについて詳解いたします。

半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

2025年11月26日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

半導体ウェット洗浄・乾燥技術と最先端技術

2025年11月21日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

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