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本セミナーでは、洗浄バリデーションの三極規制を解説した上で、洗浄バリデーションのリスク評価・管理、残留許容値の算出、設定での考え方、回収率の測定と残留許容値の設定、サンプリング (スワブ法、リンス法) 、許容値内でのアラート設定の在り方や社内運用のポイント、洗浄の計画、実施と手順書作成、そして封じ込め技術や漏洩防止対策等を事例を交えて解説いたします。

本セミナーでは、GMPに基づいた衛生管理について取り上げ、構造設備面、職員 (人) の両面から衛生管理事項を整理し、課題と対策について解説いたします。

本セミナーでは、化学工学理論 (熱伝導、濾過、撹拌、抽出、乾燥) 、スケールアップ製造条件・設備の設計、溶媒の選択法、溶媒回収プロセス、プラントの安全性保持技術、トラブル事例・対策について、豊富な経験に基づき、事例を踏まえ分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、低分子・高分子の洗浄について取り上げ、低分子・高分子の洗浄で用いる曝露限界値の設定、曝露限界値に基づく洗浄管理基準の設定、数値シミュレーション事例、目視検査、今後の洗浄実務の流れと管理、洗浄目標の設定、ワーストケースアプローチ、サンプリング時の回収率、CHTについて解説いたします。

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

本セミナーでは、洗浄用化粧品の開発目的・洗浄力、容器に合わせた処方の組み方について、洗浄化粧品に使われる成分のカテゴリーごとに、製剤に及ぼす粘度・使用感・泡立ち・洗浄力等について詳細に解説いたします。
また、評価手法のトピックでは、主観が入り込む余地があり客観的な評価を適切にするための手法を解説いたします。
さらに、安全性確保については、注意すべき成分について実際の事例を上げて説明いたします。

本セミナーでは、洗浄用化粧品の開発目的・洗浄力、容器に合わせた処方の組み方について、洗浄化粧品に使われる成分のカテゴリーごとに、製剤に及ぼす粘度・使用感・泡立ち・洗浄力等について詳細に解説いたします。
また、評価手法のトピックでは、主観が入り込む余地があり客観的な評価を適切にするための手法を解説いたします。
さらに、安全性確保については、注意すべき成分について実際の事例を上げて説明いたします。

本セミナーでは、材料、加工、組み立てなどの製造工程を俯瞰し、洗浄工程の目的、被洗浄物の材料や汚れ、洗浄および乾燥方法、洗浄後の評価方法やスペックについて詳解いたします。

本セミナーでは、半導体洗浄について取り上げ、パーティクル付着のメカニズムと除去技術を解説いたします。
また、品質向上に向けた物理、化学、超音波、プラズマ洗浄の技術動向を詳解いたします。

本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。

本セミナーでは、洗浄・洗浄バリデーションの背景を踏まえ、洗浄バリデーション実施の基本となる残留限度値の考え方やワーストケース、ホールドタイム、残留物の評価法などに加え、リスクマネジメントにおける主観性の最小化やライフサイクルを通した取り組み (特に最近査察でも指摘されるという日常的な工程検証 (Continued Process Verificationについて) 、そこに係る知識管理の問題を含めて解説いたします。

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。