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洗浄のセミナー・研修・出版物

化学プロセスのコスト計算とその削減のポイント

2026年9月17日(木) 10時30分2026年9月27日(日) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パラセタモールをモデルに比例製造費 (変動費) のコスト計算を詳細に解説し、どの費用が最も重いのかについて検討します。
比例製造費 (変動費) は、貴金属触媒と使い捨ての溶媒の占める割合が最も高いことが多いです。そこで貴金属触媒の削減と溶媒の回収利用について詳細に解説いたします。
また、比例製造費 (変動費) の中であまり注目されていない、エネルギーコスト、廃液処理費についても解説いたします。

化学プロセスのコスト計算とその削減のポイント

2026年9月8日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パラセタモールをモデルに比例製造費 (変動費) のコスト計算を詳細に解説し、どの費用が最も重いのかについて検討します。
比例製造費 (変動費) は、貴金属触媒と使い捨ての溶媒の占める割合が最も高いことが多いです。そこで貴金属触媒の削減と溶媒の回収利用について詳細に解説いたします。
また、比例製造費 (変動費) の中であまり注目されていない、エネルギーコスト、廃液処理費についても解説いたします。

産業洗浄の基礎と要素技術および清浄度評価

2026年8月27日(木) 13時00分2026年9月3日(木) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、産業洗浄について取り上げ、電気・電子部品、自動車部品などのあらゆる工業部品を対象として、企業で長年洗浄工程に携わってきた経験豊富な講師が産業洗浄について網羅的に解説いたします。

洗浄バリデーションの実務とDHT・CHT設定/評価法

2026年8月26日(水) 10時30分2026年9月4日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションの基本的な考え方を整理したうえで、品質リスクマネジメント (QRM) に基づくリスク分析の実践的アプローチを軸に、国内外の実地監査で実際に問われる着眼点・GMP指摘事例を交えながら、具体的かつ実務目線で解説いたします。

産業洗浄の基礎と要素技術および清浄度評価

2026年8月25日(火) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、産業洗浄について取り上げ、電気・電子部品、自動車部品などのあらゆる工業部品を対象として、企業で長年洗浄工程に携わってきた経験豊富な講師が産業洗浄について網羅的に解説いたします。

洗浄バリデーションの実務とDHT・CHT設定/評価法

2026年8月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションの基本的な考え方を整理したうえで、品質リスクマネジメント (QRM) に基づくリスク分析の実践的アプローチを軸に、国内外の実地監査で実際に問われる着眼点・GMP指摘事例を交えながら、具体的かつ実務目線で解説いたします。

化学プロセスにおけるスケールアップとトラブル対応

2026年8月18日(火) 10時30分2026年8月25日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

化学プロセスにおけるスケールアップとトラブル対応

2026年8月17日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2026年8月6日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術

2026年7月23日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

バッチ化学合成プロセスのスケールアップによる化学品・医薬原薬の製造のポイントとトラブル対策

2026年7月15日(水) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、化学工学理論 (熱伝導、濾過、撹拌、抽出、乾燥) 、スケールアップ製造条件・設備の設計、溶媒の選択法、溶媒回収プロセス、プラントの安全性保持技術、トラブル事例・対策について、豊富な経験に基づき、事例を踏まえ分かりやすく解説いたします。

ラボにおける高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対策と設備導入〜研究段階 (少量) で取り扱う場合の考え方

2026年7月14日(火) 13時00分2026年7月28日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について解説いたします。

バイオ医薬品製造ラインにおけるTOCを活用した洗浄バリデーション/残留性評価と残留限度値設定事例

2026年7月9日(木) 10時30分2026年7月23日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄・洗浄バリデーションの背景を踏まえ、洗浄バリデーション実施の基本となる残留限度値の考え方やワーストケース、ホールドタイム、残留物の評価法などに加え、リスクマネジメントにおける主観性の最小化やライフサイクルを通した取り組み (特に最近査察でも指摘されるという日常的な工程検証 (Continued Process Verificationについて) 、そこに係る知識管理の問題を含めて解説いたします。

バイオ医薬品製造ラインにおけるTOCを活用した洗浄バリデーション/残留性評価と残留限度値設定事例

2026年7月3日(金) 10時30分2026年7月16日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄・洗浄バリデーションの背景を踏まえ、洗浄バリデーション実施の基本となる残留限度値の考え方やワーストケース、ホールドタイム、残留物の評価法などに加え、リスクマネジメントにおける主観性の最小化やライフサイクルを通した取り組み (特に最近査察でも指摘されるという日常的な工程検証 (Continued Process Verificationについて) 、そこに係る知識管理の問題を含めて解説いたします。

ラボにおける高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対策と設備導入〜研究段階 (少量) で取り扱う場合の考え方

2026年6月30日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について解説いたします。

バイオ医薬品製造ラインにおけるTOCを活用した洗浄バリデーション/残留性評価と残留限度値設定事例

2026年6月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄・洗浄バリデーションの背景を踏まえ、洗浄バリデーション実施の基本となる残留限度値の考え方やワーストケース、ホールドタイム、残留物の評価法などに加え、リスクマネジメントにおける主観性の最小化やライフサイクルを通した取り組み (特に最近査察でも指摘されるという日常的な工程検証 (Continued Process Verificationについて) 、そこに係る知識管理の問題を含めて解説いたします。

GMPに対応した洗浄バリデーションの計画、運用と残留許容値の設定

2026年6月23日(火) 10時30分2026年7月3日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄プロセスの開発からサンプリングと検出の適切性、CHTとDHTの設定、ならびに充分なデータがない場合のPDE設定のほか、混入許容限度、STV及び0.1% / 10ppm基準を用いた場合の残留許容値、バリデーションマスタープロトコル/マスターレポート/計画書/報告書/DI、多目的設備における交叉汚染防止などについて、ISPE Guide : 「Cleaning Validation Lifecycle Applications, Methods, and Controls」執筆タスクチーム日本代表の講師がわかりやすく解説いたします。

バイオ医薬品製造ラインにおけるTOCを活用した洗浄バリデーション/残留性評価と残留限度値設定事例

2026年6月19日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄・洗浄バリデーションの背景を踏まえ、洗浄バリデーション実施の基本となる残留限度値の考え方やワーストケース、ホールドタイム、残留物の評価法などに加え、リスクマネジメントにおける主観性の最小化やライフサイクルを通した取り組み (特に最近査察でも指摘されるという日常的な工程検証 (Continued Process Verificationについて) 、そこに係る知識管理の問題を含めて解説いたします。

湿式洗浄の基礎と高品質洗浄達成の総合知識

2026年6月17日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズムなど洗浄の基礎から、工程設計、管理・評価法、不良対策など、具体例を交えながらわかりやすく解説いたします。

化学工場で働く技術者に伝えたい使える化学工学知識

2026年6月15日(月) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、化学工場の現場で直面する「撹拌・除熱・乾燥・濾過・再結晶・反応速度」などの課題を、化学工学の基礎から実務に直結する形で体系的に解説いたします。
スケールアップ時のトラブル回避や運転条件設定の考え方を、元工場長の実務経験を踏まえて具体的に学べ、初心者でも理解でき、すぐ現場で使える知識を習得いただけます。

GMPに対応した洗浄バリデーションの計画、運用と残留許容値の設定

2026年6月12日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄プロセスの開発からサンプリングと検出の適切性、CHTとDHTの設定、ならびに充分なデータがない場合のPDE設定のほか、混入許容限度、STV及び0.1% / 10ppm基準を用いた場合の残留許容値、バリデーションマスタープロトコル/マスターレポート/計画書/報告書/DI、多目的設備における交叉汚染防止などについて、ISPE Guide : 「Cleaning Validation Lifecycle Applications, Methods, and Controls」執筆タスクチーム日本代表の講師がわかりやすく解説いたします。

GMP工場の設備設計および維持管理のポイント

2026年5月29日(金) 10時30分2026年6月5日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2026年5月28日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

GMP工場の設備設計および維持管理のポイント

2026年5月27日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。

化学プロセスのコスト計算とコスト削減のポイント

2026年5月26日(火) 10時30分2026年6月3日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、連続プロセス・フロー合成プロセスのスケールアップに関する基礎知識から分かりやすく解説いたします。
工場建設コスト、エネルギーコスト、廃液処理コストを含めたコストの計算方法を詳細に解説いたします。

化学プロセスのコスト計算とコスト削減のポイント

2026年5月25日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、連続プロセス・フロー合成プロセスのスケールアップに関する基礎知識から分かりやすく解説いたします。
工場建設コスト、エネルギーコスト、廃液処理コストを含めたコストの計算方法を詳細に解説いたします。

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

2026年5月8日(金) 10時30分2026年5月28日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

洗浄バリデーションで必ず押さえるポイント (DHT, CHT, WCLの設定と評価・残留許容限度値の算出) と国内外の実地監査で重要な着眼点

2026年4月29日(水) 10時30分2026年5月15日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションの基本的な考え方を整理したうえで、品質リスクマネジメント (QRM) に基づくリスク分析の実践的アプローチを軸に、国内外の実地監査で実際に問われる着眼点・GMP指摘事例を交えながら、具体的かつ実務目線で解説いたします。

湿式洗浄の基礎と高品質洗浄達成の総合知識

2026年4月21日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズムなど洗浄の基礎から、工程設計、管理・評価法、不良対策など、具体例を交えながらわかりやすく解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで

2026年4月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

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