技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

パワーエレクトロニクス + 電源 + インバータ + コンバータ + 電子部品 + 半導体のセミナー・研修・出版物

ダイヤモンド半導体の現状・課題・最新動向

2025年12月17日(水) 12時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ダイヤモンドウェハ、半導体デバイス、その他のデバイス応用に関する研究開発の現状、課題、最新動向まで解説いたします。

GAA (Gate-All-Around) 覇権戦争とAIデータセンターの衝撃への羅針盤

2025年12月16日(火) 13時00分 ~ 16時30分
東京都 開催 オンライン 開催

自動車用パワーエレクトロニクスの基礎と技術動向

2025年12月16日(火) 13時00分 ~ 16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、電気自動車において電力変換を担い、電費に直接影響を与えるPCU (パワーコントロールユニット) の役割、構成、小型化・高出力化に向けた技術動向やPCUを構成するインバータ、コンバータ等の自動車用パワーエレクトロニクス技術動向等を解説いたします。

フォノンエンジニアリングの基礎と半導体熱マネジメントへの応用

2025年12月16日(火) 13時00分 ~ 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体ナノ材料とデバイスにおける熱伝導を深く正しく理解するための基礎的な内容についてわかりやすく解説いたします。
また、先端半導体デバイスの熱マネジメントと熱電変換材料・デバイス開発を応用例として紹介いたします。

半導体デバイスの三次元集積化プロセスの基礎と先進パッケージの開発動向

2025年12月15日(月) 13時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、チップレット、Siブリッジ、Fan Outパッケージの基礎を再訪し、3D集積化プロセスと先進パッケージの現状の課題を整理し、今後の開発動向と市場動向を展望いたします。

半導体パッケージ技術の進化とそれを支える要素技術

2025年12月15日(月) 10時30分 ~ 2025年12月26日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体パッケージ技術について取り上げ、半導体パッケージ技術の進化から、製造方法、使用部材などについて詳細に解説いたします。
また、チップレット等の最新のパッケージ技術についても解説し、その目的や課題についても解説いたします。

半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年冬版)

2025年12月15日(月) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。

Si、SiC、GaN、Ga2O3パワーデバイスの技術開発動向と日本の現状

2025年12月15日(月) 10時30分 ~ 2025年12月25日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パワーエレクトロニクス産業を支えるパワーデバイスの最新動向を、SiからSiC、GaN、Ga2O3まで広く取り上げ、各材料の特性・課題・量産性を詳細に解説いたします。

セラミックス合成・成形時に用いられるバインダー (結合剤) および添加剤・薬剤の種類と使い方

2025年12月15日(月) 9時50分 ~ 17時10分
オンライン 開催

本セミナーでは、セラミック材の種類と添加剤成分との相性、用法・用量のポイント、次世代半導体、高精細化・三次元対応などへの展望とその可能性について詳解いたします。

オフライン電源の設計 (3日間)

2025年12月12日(金) 13時00分 ~ 17時00分
2025年12月19日(金) 13時00分 ~ 17時00分
2025年12月25日(木) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

プラズマエッチングにおけるプロセス不良発生の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

2025年12月12日(金) 13時00分 ~ 2025年12月22日(月) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスで利用されるプラズマエッチングの基礎から解説し、各種プラズマ装置の特長、プラズマプロセシングで重要なシース、プラズマパラメータ、ドライエッチング技術、微細加工が可能な反応性イオンエッチング (RIE) について詳解いたします。

オフライン電源の設計 (1)

2025年12月12日(金) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

モータ騒音・振動の基礎と低減対策 (基礎編)

2025年12月12日(金) 10時00分 ~ 16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、モータの振動・騒音の基礎、モータの固有振動数、モータ電磁騒音、モータのファン騒音、機械的要因によるモータ振動騒音について、具体的な事例を交え、実践的に分かりやすく解説いたします。

半導体デバイスの故障メカニズムと信頼性試験・寿命予測

2025年12月11日(木) 13時00分 ~ 2025年12月19日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの信頼性試験について取り上げ、ワイブルプロットによる寿命予測と確認信頼性試験計画について、図やイラストを交えて分かりやすく説明いたします。

SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向

2025年12月11日(木) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiCパワー半導体開発の最前線を紹介すると共に、SiC単結晶ウェハの開発状況・ビジネス展開について解説し、SiC単結晶ウェハ開発において今後取り組むべき技術課題を議論いたします。
SiCパワー半導体に関する基礎知識、開発・ビジネスの概況、SiCパワー半導体の礎となるSiC単結晶ウェハに関する基礎知識、開発・ビジネスの概況について修得いただけます。

半導体デバイスの故障メカニズムと信頼性試験・寿命予測

2025年12月10日(水) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの信頼性試験について取り上げ、ワイブルプロットによる寿命予測と確認信頼性試験計画について、図やイラストを交えて分かりやすく説明いたします。

実務に役立つ現場のモータ技術 … 必須6項目

2025年12月10日(水) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、モータ設計開発の実務に携わった講師の「46年間の経験とノウハウ」について解説と事例を紹介し、実際に業務で使える内容に重きをおいて解説いたします。

SiC半導体ウェハの欠陥制御と検出、評価技術

2025年12月10日(水) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェハの高品質、大口径化への対応、溶液成長、プロトン注入技術について詳解いたします。

電子機器・部品・材料の腐食・劣化の評価技術と対策技術

2025年12月10日(水) 10時00分 ~ 16時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、材料と環境で決まる電子機器・部品の腐食・劣化の基礎を解説いたします。
電子機器・部品の曝される環境を理解した上で、腐食・劣化の加速劣化試験法や評価技術を学ぶことで、電気機器・部品の寿命予測精度の向上を目的としています。
また、電気機器・部品のトラブル事例を分かりやすく紹介し、実践的な腐食・劣化対策に触れていただきます。

PFAS (有機フッ素化合物) 規制の動向と半導体産業への影響

2025年12月8日(月) 13時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの製造に欠かせない有機フッ素化合物 (PFAS) について取り上げ、PFASに関連する規制、現在の対応状況、今後の展開について詳解いたします。
また、半導体の技術、市場のトレンドとPFAS規制の関係、PFAS処理と代替材料の動向についても解説いたします。

先端パッケージングの全体像 (開発動向&ビジネス化戦略) およびRDLインターポーザ最新技術動向

2025年12月8日(月) 13時00分 ~ 2026年1月29日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端パッケージングの全体像・技術動向、先端パッケージ分野における日本の強み・課題と取るべき成長戦略、RDLインターポーザ技術の基礎と応用、ICEP・ECTC国際学会からのRDLインターポーザ最新潮流について詳解いたします。

次世代自動車・データセンタ用サーバ電源高性能化に対応するSiC/GaNパワーデバイスの技術動向と課題

2025年12月8日(月) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パワーデバイス技術の基礎・周辺材料技術と、SiCパワーデバイス, GaNパワーデバイスの実際・最新動向について詳解いたします。

次世代パワーデバイス開発の最前線

2025年12月5日(金) 13時00分 ~ 2025年12月25日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パワーエレクトロニクス産業を支えるパワーデバイスの最新動向を、SiからSiC、GaN、Ga2O3まで広く取り上げ、各材料の特性・課題・量産性を詳細に解説いたします。

半導体製造におけるドライ/ウェットエッチング技術の基礎・応用と最新動向

2025年12月5日(金) 10時30分 ~ 16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

Si、SiC、GaN、Ga2O3パワーデバイスの技術開発動向と日本の現状

2025年12月4日(木) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、パワーエレクトロニクス産業を支えるパワーデバイスの最新動向を、SiからSiC、GaN、Ga2O3まで広く取り上げ、各材料の特性・課題・量産性を詳細に解説いたします。

プラズマエッチングにおけるプロセス不良発生の検出とプラズマ耐性材料の評価技術

2025年12月3日(水) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスで利用されるプラズマエッチングの基礎から解説し、各種プラズマ装置の特長、プラズマプロセシングで重要なシース、プラズマパラメータ、ドライエッチング技術、微細加工が可能な反応性イオンエッチング (RIE) について詳解いたします。

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