技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、健康食品製造現場にGMPの理念を実現するために何を実践すべきかを具体的に解説いたします。
本セミナーでは、外観検査の基礎から解説し、効率的な目視検査の手順、目視検査員の教育、外観検査結果の活用、品質改善の手順とポイントについて詳解いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術について基礎から解説いたします。
また、発塵の原因、作業員管理・教育、清掃、クリーンルームの維持・管理・汚染対策について詳解いたします。
本セミナーでは、健康食品製造現場にGMPの理念を実現するために何を実践すべきかを具体的に解説いたします。
本セミナーでは、規制当局からの指摘事例と海外メガファーマからの監査事例を振り返りながら、特にペストコントロールプログラムの開発と再評価、そして携わる要員の適格性評価に焦点をあて解説いたします。
本セミナーでは、規制当局からの指摘事例と海外メガファーマからの監査事例を振り返りながら、特にペストコントロールプログラムの開発と再評価、そして携わる要員の適格性評価に焦点をあて解説いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、微生物の分離・培養・同定などの取り扱いについて基礎から解説し、実際の試験で起きるトラブルと対策・対処法について事例を交えて詳解いたします。
本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術の基本と対策技術、維持・運用管理の基本と応用、具体的なクリーン化技術の方法、清掃の基本について詳解いたします。
本セミナーでは、異物混入対策について取り上げ、代表的な混入異物の傾向・形態的特徴、分析技術の基礎知識、異物分析結果の解釈、迅速な原因解明のためにすべきことについて、すぐに職場で活用できるよう実践的に分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、外観検査の基礎から解説し、医薬品の外観検査に求められるもの、固形製剤・注射剤外観検査のポイント、検査結果に基づく品質改善、異物対策、製造環境管理、容器/包装材料に由来する異物の管理について、豊富な経験に基づき、事例を交えながら分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、微生物の分離・培養・同定などの取り扱いについて基礎から解説し、実際の試験で起きるトラブルと対策・対処法について事例を交えて詳解いたします。
本セミナーでは、クリーン化技術の基本と対策技術、維持・運用管理の基本と応用、具体的なクリーン化技術の方法、清掃の基本について詳解いたします。
本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、汚染原因やクリーンルームの仕組み、やってはいけないこと、効果的な清掃・メンテナンス方法など、クリーンルームの維持管理にあたって理解しておきたい実践的な知識とノウハウを詳しく解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。
本セミナーでは、塗装のゴミ・ブツ退治に有効な見える化手法を軸に、塗装現場ですぐに役立つノウハウを実践的にわかりやすく解説いたします。
本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。
本セミナーでは、最新のGMP、バリデーションの考え方、ユーザー要求仕様書作成のポイント、設備適格性確認における実施事項、CSVの基礎知識について、豊富な経験に基づき事例を踏まえ分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、カビ毒の特性、種類および検出法、カビ毒の国際的な基準値の決まり方、カビの発生原因の原因解明のための各種測定方法、カビ発生の原因と対策・未然防止策について詳解いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
本セミナーでは、塗工と乾燥の基礎から解説し、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
また、風ムラやベナールセルなど、塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。