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本セミナーでは、最新のGMP、バリデーションの考え方、ユーザー要求仕様書作成のポイント、設備適格性確認における実施事項、CSVの基礎知識について、豊富な経験に基づき事例を踏まえ分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。

本セミナーでは、塗工と乾燥の基礎から解説し、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
また、風ムラやベナールセルなど、塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

本セミナーでは、各種製品・原材料中に混入する異物、その発生原因と防止策から、発生した場合の分析、原因解明まで網羅的に解説いたします。

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

本セミナーでは、リスクに基づいた洗浄バリデーションに焦点を当て、GMP下で行われる洗浄・洗浄バリデーションのための基本的なプロセス、評価のための残留限度値設定上の課題とその対応策、ホールドタイム設定、残留物評価のための分析方法とその検討課題、そして査察と指摘を受けた時の対応などについて、これまで実施してセミナーにおける参加者からの質問を基に解説を行います。
また、残留限度値設定のための考え方と具体的な計算方法についてもわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、クリーン化技術について基礎から解説いたします。
また、発塵の原因、作業員管理・教育、清掃、クリーンルームの維持・管理・汚染対策について詳解いたします。

本セミナーでは、各種製品・原材料中に混入する異物について発生原因と防止策から、発生した場合の分析、原因解明まで、異物問題について具体的事例を基にわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、多品目製造設備における洗浄・洗浄バリデーションにおいて検討すべき、具体的な課題について、演者の経験を基に解説いたします。