技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

プリント基板のセミナー・研修・出版物

FPC (フレキシブル配線板) の市場動向と技術トレンド

2026年11月27日(金) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、FPCの最新市場分析の結果、最新の材料・製造技術動向や課題、最新のモバイル機器の分解調査から今後の技術動向や需要動向について詳解いたします。

5G/6G時代の高周波基板材料に求められる特性と材料設計・低誘電損失化技術

2026年11月20日(金) 10時30分 ~ 2026年12月4日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、5G・ミリ波対応に向けた高周波基板材料について取り上げ、低誘電損失を実現する樹脂設計のポイントと実際の開発事例について詳解いたします。

HBM・チップレット時代の3D積層技術と先進パッケージの最新動向

2026年11月12日(木) 13時00分 ~ 17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

微細Cu配線・Low‐k/Air-Gap材料・Post-Cu材料に見る先端多層配線技術

2026年11月5日(木) 13時00分 ~ 17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 (2日間セミナー)

2026年11月5日(木) 13時00分 ~ 17時30分
2026年11月12日(木) 13時00分 ~ 17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、微細化の限界が迫る中、多層配線・Post-Cu材料・Low-k・TSV・チップレットなど、次世代デバイスを支える核心技術を2日間で整理。最新動向と実例を交えて詳細に解説します。

5G/6G時代の高周波基板材料に求められる特性と材料設計・低誘電損失化技術

2026年10月30日(金) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、5G・ミリ波対応に向けた高周波基板材料について取り上げ、低誘電損失を実現する樹脂設計のポイントと実際の開発事例について詳解いたします。

高周波基板に向けた低誘電率、低誘電正接樹脂材料の開発

2026年10月27日(火) 10時30分 ~ 16時50分
オンライン 開催

本セミナーでは、高速・高周波基板をめぐる技術動向、低誘電樹脂材料に求められる特性と材料設計、および次世代の新しい基板材料に関する技術開発動向及び開発事例について解説いたします。

レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策

2026年10月21日(水) 13時00分 ~ 2026年11月4日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ

2026年10月14日(水) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説いたします。
また、日頃の技術開発やトラブル相談に個別に応じます。

AIサーバー・データセンターの放熱設計のポイントと最新冷却技術

2026年10月14日(水) 10時00分 ~ 16時00分
オンライン 開催

AIの急速な普及に伴い、サーバーやデータセンターでは発熱対策が重要課題となっています。
本セミナーでは、熱設計の基礎となる伝熱の考え方から、AIサーバー向けの空冷・直接液冷 (DLC) ・液浸冷却・Direct to Chipなどの最新冷却技術、放熱材料・放熱デバイスの動向まで体系的に解説いたします。
さらに、データセンターのPUE改善や空調技術、今後の冷却技術の方向性について解説し、高発熱時代に求められる放熱設計の実践知識を幅広く習得いただけます。

レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策

2026年9月30日(水) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明いたします。
また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説いたします。

FPC (フレキシブルプリント配線板) の総合知識

2026年9月16日(水) 13時00分 ~ 2026年10月2日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、FPCの市場動向や業界動向、現状のFPC材料・製造プロセス・製造技術と今後の動向を解説し、今後の新しい市場を見据えた、高機能FPCの技術開発動向についても詳解いたします。

先端プリント基板用エポキシ樹脂・硬化剤・硬化促進剤の種類と特徴

2026年9月14日(月) 10時30分 ~ 2026年9月24日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、エポキシ樹脂について取り上げ、低温での硬化、硬化速度の向上、硬化・密着強度の向上、低配合量での硬化での留意点、新しい硬化剤の開発と反応機構、低誘電に適した硬化剤、硬化剤の使用方法、貯蔵保管やその安全性について詳解いたします。

プリント基板のノイズ設計技術 (応用編)

2026年9月11日(金) 14時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

ノイズ対策は「部品を追加する」よりも、「設計段階で発生させない」ことが重要です。
本セミナーでは、部品配置や配線、層構成、電源・GND設計など、プリント基板設計で実践すべきノイズ対策を、なぜその設計が有効なのかという物理的根拠とともに解説します。
さらに、EMC対策部品の選定、基板設計者との連携方法、効率的な原因解析や再現性のある対策手法まで、現場で役立つ実践ノウハウを習得いただけます。

プリント基板のノイズ設計技術 (基礎編)

2026年9月11日(金) 9時30分 ~ 12時30分
オンライン 開催

「試作してからノイズ対策」では、開発期間やコストは大きく膨らみます。
本セミナーでは、プリント基板で発生するノイズを単なる経験則ではなく、電磁気・高周波現象として理解し、設計段階で対策を織り込むための考え方を基礎から解説いたします。
伝送線路、リターン電流、電源・GND設計、部品選定など、EMCを考慮した回路・基板設計のポイントを体系的に習得いただけます。

はんだ不良の原因と発生メカ二ズム

2026年9月10日(木) 11時00分 ~ 17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、はんだ付け装置の設備条件、扱う電子部品の管理状態、はんだ材料の管理状態、設備の維持管理に焦点をあてて、どのような不良が発生するのか、その発生メカニズムについて、動画を使いながら解説いたします。

HBM・チップレット時代の3D積層技術と先進パッケージの最新動向

2026年9月9日(水) 13時00分 ~ 17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

次世代半導体実装用樹脂・基板材料の開発と技術動向

2026年9月8日(火) 13時00分 ~ 2026年9月18日(金) 16時00分
オンライン 開催

先端プリント基板用エポキシ樹脂・硬化剤・硬化促進剤の種類と特徴

2026年9月3日(木) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、エポキシ樹脂について取り上げ、低温での硬化、硬化速度の向上、硬化・密着強度の向上、低配合量での硬化での留意点、新しい硬化剤の開発と反応機構、低誘電に適した硬化剤、硬化剤の使用方法、貯蔵保管やその安全性について詳解いたします。

先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 (2日間セミナー)

2026年9月2日(水) 13時00分 ~ 17時30分
2026年9月9日(水) 13時00分 ~ 17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、微細化の限界が迫る中、多層配線・Post-Cu材料・Low-k・TSV・チップレットなど、次世代デバイスを支える核心技術を2日間で整理。最新動向と実例を交えて詳細に解説します。

微細Cu配線・Low‐k/Air-Gap材料・Post-Cu材料に見る先端多層配線技術

2026年9月2日(水) 13時00分 ~ 17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

次世代半導体実装用樹脂・基板材料の開発と技術動向

2026年8月28日(金) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

FPC (フレキシブルプリント配線板) の総合知識

2026年8月25日(火) 13時00分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、FPCの市場動向や業界動向、現状のFPC材料・製造プロセス・製造技術と今後の動向を解説し、今後の新しい市場を見据えた、高機能FPCの技術開発動向についても詳解いたします。

高周波対応FPC材料とFPC形成技術開発

2026年8月19日(水) 10時30分 ~ 2026年9月1日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、低誘電特性とFPC基材の基本特性を両立させるための考え方と、それに基づいて開発した破砕型LCP微細繊維を用いたフィルムの実例を紹介いたします。

製造現場から学ぶプリント基板設計の実践ポイント

2026年8月6日(木) 11時00分 ~ 17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、プリント基板設計について取り上げ、ランド・パッド設計、基板の反り対策、設計品質、ネジ締結、Vカット、部品配置、熱対策の7つの視点から、はんだ不良・クラック・反り・熱問題などの未然防止策を実例を交えて解説いたします。

先端メモリ・ロジックデバイスのための2.5D/3Dデバイス集積化技術の基礎から最新動向

2026年7月29日(水) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

高周波対応FPC材料とFPC形成技術開発

2026年7月28日(火) 10時30分 ~ 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、低誘電特性とFPC基材の基本特性を両立させるための考え方と、それに基づいて開発した破砕型LCP微細繊維を用いたフィルムの実例を紹介いたします。

はんだクラック、マイグレーション、ウイスカー、腐食の現象と対策

2026年7月23日(木) 11時00分 ~ 17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、はんだクラック、イオン/エレクトロマイグレーション、ウイスカー、腐食といった代表的な信頼性不良について、発生メカニズムから未然防止策まで体系的に解説いたします。
実装現場・設計・品質保証で直面するトラブルを題材に、なぜ起こるのか、どう防ぐのかを実践的に学べ、電子機器の長期信頼性向上に直結する知識と対策の勘所を習得いただけます。

先端半導体デバイスにおける多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化技術 (2日間)

2026年7月7日(火) 13時00分 ~ 17時00分
2026年7月29日(水) 13時00分 ~ 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

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