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本セミナーでは、はんだ付け装置の設備条件、扱う電子部品の管理状態、はんだ材料の管理状態、設備の維持管理に焦点をあてて、どのような不良が発生するのか、その発生メカニズムについて、動画を使いながら解説いたします。

本セミナーでは、エポキシ樹脂について取り上げ、低温での硬化、硬化速度の向上、硬化・密着強度の向上、低配合量での硬化での留意点、新しい硬化剤の開発と反応機構、低誘電に適した硬化剤、硬化剤の使用方法、貯蔵保管やその安全性について詳解いたします。

本セミナーでは、低誘電特性とFPC基材の基本特性を両立させるための考え方と、それに基づいて開発した破砕型LCP微細繊維を用いたフィルムの実例を紹介いたします。

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

本セミナーでは、はんだクラック、イオン/エレクトロマイグレーション、ウイスカー、腐食といった代表的な信頼性不良について、発生メカニズムから未然防止策まで体系的に解説いたします。
実装現場・設計・品質保証で直面するトラブルを題材に、なぜ起こるのか、どう防ぐのかを実践的に学べ、電子機器の長期信頼性向上に直結する知識と対策の勘所を習得いただけます。

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

本セミナーでは、電子機器の熱設計について取り上げ、伝熱の基礎から、機器の熱設計の基礎、接触熱抵抗の発生原理と低減方法、接触熱抵抗の予測手法と計測方法について詳解いたします。

本セミナーでは、フラックスの分類と働き、はんだ不良要因、ぬれ性・マイグレーション試験などの評価法を体系的に解説いたします。
切替え時の技術ポイント、耐熱ロジンの考え方、さらにIoT・AI拡大を背景に進化するSMTの市場動向と超小型化トレンドを俯瞰し、今後の方向性についても解説いたします。

本セミナーでは、ポリイミドの基礎から解説し、ポリイミドの接着原理、異種材料との接着剤設計例、変性ポリイミドの合成例、変性ポリイミドのフィルム化、今後のポリイミドの展開について詳解いたします。

本セミナーでは、基板放熱を活用した放熱対策と熱設計手法について解説いたします。

本セミナーでは、高速・高周波基板をめぐる技術動向、低誘電樹脂材料に求められる特性と材料設計、および次世代の新しい基板材料に関する技術開発動向及び開発事例について解説いたします。

はんだ付け実装ラインでは、温湿度・異物・静電気・振動といったクリーンルーム環境管理が品質を大きく左右します。
本セミナーでは、実装現場で実際に必要とされる工場環境管理の考え方、印刷機・マウンター・リフロー炉・フロー槽など各設備の具体的な保守・保全ポイントを体系的に解説いたします。

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

本セミナーは、FPCの市場動向や業界動向、現状のFPC材料・製造プロセス・製造技術と今後の動向を解説し、今後の新しい市場を見据えた、高機能FPCの技術開発動向についても詳解いたします。