技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

蒸着のセミナー・研修・出版物

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年12月6日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

フレキシブルデバイス向け ハイバリアフィルムの成膜技術と最新動向

2024年11月13日(水) 13時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、各種手法によるガスバリア膜形成技術・コーティング技術やバリア特性評価法などから、講師らが開発したロール to ロールによるハイガスバリアフィルム作製技術とその特性、そしてPEN・PETフィルム上への成膜について解説いたします。

二酸化ゲルマニウム (GeO2) の特徴および最新動向

2024年11月12日(火) 13時00分2024年11月14日(木) 15時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、新しいパワー半導体として大きな可能性を秘めた二酸化ゲルマニウムを取り上げ、二酸化ゲルマニウムの基礎的な物性、現状の課題、将来性について詳細に解説いたします。

電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用

2024年11月12日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

二酸化ゲルマニウム (GeO2) の特徴および最新動向

2024年11月6日(水) 13時00分15時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、新しいパワー半導体として大きな可能性を秘めた二酸化ゲルマニウムを取り上げ、二酸化ゲルマニウムの基礎的な物性、現状の課題、将来性について詳細に解説いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2024年10月30日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

薄膜作製の基礎とトラブル対策

2024年10月16日(水) 13時00分16時00分
2024年10月16日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

薄膜作製の基礎とトラブル対策

2024年10月9日(水) 13時00分16時00分
2024年10月10日(木) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

2024年9月27日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

2024年9月9日(月) 13時00分2024年9月11日(水) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年9月4日(水) 10時30分2024年9月6日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

プラズマの基礎および半導体ドライエッチング入門

2024年8月28日(水) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年8月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

薄膜応力の発生メカニズムと実践的な膜応力の評価、制御技術

2024年8月23日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、スパッタや真空蒸着法で形成された金属・無機薄膜を中心に取り上げ、膜応力の発生メカニズムについて基材や膜構造、成膜条件の影響について詳解いたします。

スパッタ・真空蒸着による成膜技術と膜質改善技術の徹底解説

2024年8月7日(水) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、スパッタや真空蒸着法で形成された金属・無機薄膜を中心に取り上げ、応力制御や密着性改善のために必要な基本知識から、具体的な測定法や剥離トラブルの対処法について解説いたします。

CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2024年8月5日(月) 10時30分2024年8月15日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

大気圧プラズマを用いた材料の表面改質、ぬれ性の改善

2024年8月5日(月) 10時00分16時20分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマの基礎・原理から、大気圧プラズマの使用方法、運用方法、品質管理方法、応用技術までわかりやすく解説いたします。

表面処理技術の基礎と正しい選び方

2024年7月31日(水) 10時30分2024年8月2日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは表面処理技術の基礎知識から、種類、得られる皮膜の特徴、工法、選定方法、実用事例、トラブル対策を動画も交えて解説いたします。

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

2024年7月30日(火) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2024年7月25日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

ミストCVD法による製膜技術と高品質製膜に向けたプロセスの最適化

2024年7月24日(水) 11時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。

表面処理技術の基礎と正しい選び方

2024年7月22日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは表面処理技術の基礎知識から、種類、得られる皮膜の特徴、工法、選定方法、実用事例、トラブル対策を動画も交えて解説いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (後工程)

2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (2日間)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
2024年6月25日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体産業入門と開発、製造の実務 (前工程)

2024年6月24日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

スパッタリングの基本と考え方、膜の作り方、その応用

2024年6月6日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、スパッタの原理を確認し、さらに最新のカソード技術を紹介しながら、現場の品質向上についても解説いたします。

プラズマCVDによるナノ・微粒子材料の作製技術とプロセスモニタリング

2024年6月5日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマの物理的・化学的基礎から始めて、プラズマ発生装置、プラズマCVD、プロセス解析のための計測方法、プロセスのモニタリング・制御、材料合成への応用、特にナノ・微粒子材料合成の方法について分かりやすく解説いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2024年6月4日(火) 13時00分2024年6月17日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

ガスバリア技術の基礎と活用動向およびウェットプロセスによるウルトラ・ハイバリア技術

2024年5月30日(木) 13時00分16時45分
オンライン 開催

本セミナーでは、ガスバリア技術の原理、ガスバリア材料・加工技術、ガスバリア性の評価技術、近年の活用動向など、ガスバリア技術に関わる技術者が押さえておきたい基礎知識と活用動向をポイントを絞って解説いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2024年5月22日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

コンテンツ配信