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本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

本セミナーでは、プラズマの物理的・化学的基礎から始めて、プラズマ発生装置、プラズマCVD、プロセス解析のための計測方法、プロセスのモニタリング・制御、材料合成への応用、特にナノ・微粒子材料合成の方法について分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、ガスバリア技術の原理、ガスバリア材料・加工技術、ガスバリア性の評価技術、近年の活用動向など、ガスバリア技術に関わる技術者が押さえておきたい基礎知識と活用動向をポイントを絞って解説いたします。

本セミナーでは、真空の基礎から解説し、真空機器を運用することで問題を解決する手法を解説いたします。

本セミナーでは、スマートフォン、車載カメラ、プロジェクタ、太陽電池等、様々な光学機器に応用されている光学薄膜について取り上げ、光学薄膜の基礎からコロナウィルス対応などの最近のトレンドまでを詳解いたします。

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの薄膜生成プロセスについて基礎から解説し、実務に役立つ付着・密着性評価、剥離対策について詳解いたします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

本セミナーでは、バリアフィルムの基礎から解説し、各種バリア性を付与する各種作製方法、バリア性の評価法を詳しく解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。