技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

蒸着のセミナー・研修・出版物

水蒸気バリア技術と水蒸気透過性の測定・評価

2015年12月16日(水) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーではバリア膜の用途・市場、水蒸気透過率の測定法、バリア膜の作製法、バリア膜の特性を紹介し、良質なバリア膜を得るための指針、バリア膜の現状と課題について解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と表面処理、医療、環境、分析応用の進展

2015年12月11日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、プラズマの材料表面処理技術への応用を中心とした大気圧プラズマプロセスの事例、原理について基礎から分かり易く解説致します。

シリコン負極材料の開発と膨張・収縮対策

2015年12月4日(金) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

薄膜の応力発生メカニズムと密着性改善

2015年11月24日(火) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、界面や表面、膜応力や剥離・破壊の基礎から解説し、密着性改善の考え方、密着力の評価方法について詳解いたします。

粉体・微粒子の表面処理と粒子表面への被覆・機能性コーティング技術

2015年10月16日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、粉体の基礎・表面処理の基礎から解説し、機能性ナノコーティングとその応用について詳解いたします。

スパッタリング薄膜における応力発生と付着力

2015年10月16日(金) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、スパッタリングプロセスの基礎から解説し、現場において遭遇する様々なトラブルに対応する力を身に付けることを目標としております。

GaN/Siパワーデバイスの開発と適用動向

2015年10月15日(木) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、MOCVD法を用いて成長した大口径Si基板上のAlGaN/GaN HEMT構造の結晶成長、デバイス特性及び研究開発動向に関して解説いたします。

フィルムのドライコーティング技術 徹底解説

2015年9月11日(金) 13時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、タッチパネルや太陽電池などで広く使われているロール・ツー・ロールスパッタを中心に、生産プロセスで起きている現象について解説いたします。

薄膜の応力発生メカニズムと密着性制御およびその測定・評価

2015年8月31日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、薄膜の物性や挙動、トラブルの防止・解決、上手な密着性評価の方法・工夫、試験条件の設定・破壊モードの再現まで、複雑な「薄膜」の性質を徹底解説いたします。

バリアフィルム技術の入門講座

2015年7月17日(金) 12時30分16時30分
京都府 開催 会場 開催

本セミナーでは、ハイバリア包装材料の基礎から解説し、包装用途からエレクトロニクス用途までを網羅的に詳解いたします。

カーボンナノチューブの大規模産業化に向けたカウントダウン

2015年6月22日(月) 10時30分15時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、CNTの技術的な内容に加え、エレクトロニクス産業のように、大量普及時代で市場撤退に追い込まれることなく、日本に根づく産業にするために何をすべきかについて詳解いたします。

プラズマの生成と各種基材の表面処理技術の基礎と応用

2015年4月24日(金) 13時00分16時30分
愛知県 開催 会場 開催

本セミナーでは、低圧から大気圧までの各種プラズマの生成方法から、それらのプラズマを用いた各種基材の表面処理技術の基礎と応用について、分かりやすく解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と展開

2015年3月6日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
また、ALDプロセスの理想と実際について、原理から詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。

2日間で注目の薄膜堆積法を徹底マスター

2015年3月6日(金) 10時30分16時30分
2015年3月16日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本コースは、ALD (原子層堆積法) とプラズマCVD (化学気相堆積法) のセミナーをセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
2テーマ 通常受講料 : 通常受講料 : 92,340円 → 2コース申込 割引受講料 76,950 円

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大気圧プラズマの基礎と表面処理、医療、環境、分析応用の進展

2014年8月25日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、プラズマの材料表面処理技術への応用を中心とした大気圧プラズマプロセスの事例、原理について基礎から分かり易く解説致します。

プラズマによる表面処理技術の基礎と応用

2014年6月26日(木) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、低圧から大気圧までの各種プラズマの生成方法から、それらのプラズマを用いた各種基材の表面処理技術の基礎と応用について、分かりやすく解説いたします。

大気圧プラズマ複合処理による材料表面の恒久的処理技術

2014年6月25日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、表面処理、親水化、撥水化、材料の基本特性を損なわない接着・接合や、プラスチック、ガラス、ポリマー、金属の大気圧プラズマ表面処理技術を適用事例を挙げて詳細に解説いたします。

CVDプロセスにおけるノンプラズマクリーニング技術とその最適化

2014年4月24日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、CVDプロセスの基礎から解説し、リアクタクリーニングの技術・プロセスについて詳解いたします。

プラズマ化学気相堆積法 (プラズマCVD) による薄膜作成と装置・応用技術

2014年3月27日(木) 10時30分16時30分
2014年3月28日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

ALD (原子層堆積法) の基礎と展開

2014年3月26日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
また、ALDプロセスの理想と実際について、原理から詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。

ALD (原子層堆積法) の基礎と展開 / プラズマCVDによる薄膜作成と装置・応用技術

2014年3月26日(水) 10時30分16時30分
2014年3月27日(木) 10時30分16時30分
2014年3月28日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD のセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。

通常受講料 : 114,600円(税込) → 割引受講料 89,700円(税込)

大気圧プラズマの基礎と応用

2014年3月24日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは大気圧プラズマの発生・計測等に関する基礎を概説した後、大気圧プラズマをカーボンナノチューブ合成、ダイヤモンドライクカーボン合成、微粒子合成、天然ガス改質に応用した例を紹介いたします。

ハイバリア蒸着フィルムの特性、物性と製造&成膜方法と技術動向

2014年2月25日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ハイバリア包装材料の基礎から解説し、真空蒸着、イオンプレーティング、プラズマCVS、2元蒸着、連続真空蒸着機について詳解いたします。

薄膜の応力発生メカニズムと密着性改善

2014年2月7日(金) 10時00分16時00分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、スパッタや真空蒸着法で形成された金属・無機薄膜を中心に取り上げ、応力制御や密着性改善のために必要な基本知識から、具体的な測定法や剥離トラブルの対処法について解説いたします。

新しい大気圧プラズマ源の開発と応用展開

2014年1月23日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、物理をわかりやすく解説するとともに、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

真空の基礎&真空システムの設計・製造・運転最適化とトラブル対策

2013年12月19日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、真空の基礎を学ぶとともに、具体的なトラブルや失敗の原因および対策について解説いたします。

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