技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体のセミナー・研修・出版物

導電性金属ナノ粒子の合成、技術動向と配線・電極形成、塗布プロセスへの応用

2012年9月27日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、各種デバイス製造の塗布プロセスで必須となる溶液導電材料について基礎から解説し、常温での塗布乾燥で、電極・配線を形成する金属ナノ粒子の技術動向について詳解いたします。

シリコンウェーハ450mm大口径化推進活動の欧米最新動向

2012年8月31日(金) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、欧米で進むシリコンウェーハ450mm大口径化戦略的活動の最新動向を詳説いたします。

電力変換器の基礎と高性能化技術

2012年8月28日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、スマートグリッド、太陽光発電、風量発電、電気自動車、鉄道、昇降機に不可欠な電力変換技術について詳解いたします。

スピンの世界へようこそ!

2012年8月20日(月) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

SiC/GaNパワーデバイスの技術開発動向と今後の課題

2012年7月30日(月) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、パワーデバイスについてSiCとGaN個別のターゲット分野とそれぞれのデバイス構造、課題、さらに有用性を引き出すために要求されるパッケージング等の周辺技術について詳解いたします。

プリント配線板や半導体パッケージなど電子部品の応力・反りシミュレーション技術

2012年7月20日(金) 10時30分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、電子部品の応力・反りシミュレーションについて実習を交えて解説いたします。
有限要素法シミュレーションについては、無料で使用できるオープンソースソフトでの実習を行います。

半導体デバイスにおける3次元計測の現状・課題と技術開発の方向

2012年6月18日(月) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体デバイス3次元化を発展させるための3次元計測技術について、現状と課題、今後の開発方向を詳解いたします。

SiC-MOSFETの開発現状と製品化ならびにSi-IGBTの最新動向

2012年5月10日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

先端半導体製造における洗浄・乾燥技術の基礎と課題および最新動向

2012年3月28日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から世界最先端の最新動向まで、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に徹底解説いたします。

SiCパワーデバイスにおけるパッケージング材料・技術の耐熱化

2011年12月22日(木) 10時30分15時55分
東京都 開催 会場 開催

ULSI多層配線技術の基礎と最新動向

2011年12月14日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ULSI多層配線技術について基礎から解説し、関連する材料、装置、周辺技術への期待と要求について、デバイスメーカーの最前線の開発責任者が解説いたします。

スマートフォンと半導体戦略

2011年11月14日(月) 15時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本講演では、スマートフォン向け半導体開発の世界でリーダー的立場に立つ米国クアルコムの取組みを解説する。

SiCデバイスの高性能化へ向けた材料技術とパワーデバイスへの応用

2011年10月31日(月) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、SiCデバイスの高品質化に向けた結晶成長技術、基板加工技術、パワー半導体への応用を各専門の講師が詳解いたします。

半導体封止技術とトラブルシューティング

2011年10月19日(水) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、封止・シールの基礎から解説し、封止不良の原因と対応策、今後の開発動向について解説いたします。

パワー半導体SiCのMOS界面特性評価・界面欠陥低減技術

2011年10月5日(水) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、SiCのMOS界面特性を評価する手法について基礎から解説いたします。また、これまでに開発されてきた界面欠陥低減技術と、SiCの結晶面のMOS界面特性について解説いたします。

3次元積層回路装置、3次元回路実装技術

2011年10月3日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、3次元積層の原理・構造などの基礎から解説し、3次元積層回路装置、回路装置パッケージ技術について詳解いたします。

半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向

2011年6月17日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から解説し、現状の課題と解決策、最先端の最新動向までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。

半導体製造ラインにおける汚染の実態と歩留まり向上のための半導体クリーン化技術

2011年6月16日(木) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体表面クリーン化技術の基礎から最先端情報までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。

半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術と精密洗浄技術

2011年6月16日(木) 12時30分16時30分
2011年6月17日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、半導体の汚染防止、汚染除去セミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 94,500円 → 割引受講料 59,850円

GaNパワーデバイスの開発動向と耐圧制御技術

2011年5月31日(火) 13時00分16時15分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、「GaN 系パワーデバイスの技術・市場動向」、「GaN/Siパワーデバイスの耐圧制御技術」について詳解いたします。

世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート

世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポートのサムネイル画像

本レポートでは、AIデータセンター用途で拡大する材料・デバイスに焦点を合わせ、業界、及び市場動向を分析した結果について詳解しております。

EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書

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本調査報告書は、「EUV (極端紫外線) 露光装置」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版 もご用意しております。

EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)

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本調査報告書は、「EUV (極端紫外線) 露光装置」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書の書籍版 もご用意しております。

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