技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

クリーンルームのセミナー・研修・出版物

クリーンルームにおけるゴミ・異物対策および静電気対策の基礎と実践

2026年5月28日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2026年5月28日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

医薬品工場における空調バリデーションの進め方と維持管理の要点

2026年5月20日(水) 12時30分2026年5月27日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、GMPとバリデーションの基礎から解説し、空調・クリーン化の基本設計とその検証 (DQ, IQ, OQ, PQ) および無菌医薬製造のための実務について詳解いたします。

医薬品工場における空調バリデーションの進め方と維持管理の要点

2026年5月19日(火) 12時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、GMPとバリデーションの基礎から解説し、空調・クリーン化の基本設計とその検証 (DQ, IQ, OQ, PQ) および無菌医薬製造のための実務について詳解いたします。

製造工程における静電気対策の基礎知識と実践方法

2026年5月14日(木) 10時30分2026年5月27日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、静電気の基礎から解説し、静電気対策について原理原則に基づいて解説いたします。

製造工程における静電気対策の基礎知識と実践方法

2026年4月23日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、静電気の基礎から解説し、静電気対策について原理原則に基づいて解説いたします。

実践的クリーンルーム入門 (Q&A形式)

2026年4月21日(火) 10時30分2026年5月1日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。

無菌製剤工場の製造プロセスと設備・施設設計のポイントと注意点

2026年4月20日(月) 13時00分2026年4月27日(月) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、無菌製剤の製造プロセスの特徴、設備設計のポイント、アイソレータ/RABSの特徴、清浄度ゾーニング/工場におけるバリア機能/更衣について実例を用いて解説いたします。

無菌製剤工場の製造プロセスと設備・施設設計のポイントと注意点

2026年4月17日(金) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、無菌製剤の製造プロセスの特徴、設備設計のポイント、アイソレータ/RABSの特徴、清浄度ゾーニング/工場におけるバリア機能/更衣について実例を用いて解説いたします。

クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際

2026年4月17日(金) 10時30分2026年4月24日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで

2026年4月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際

2026年4月15日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

クリーンルーム工場での環境管理と各々設備の保守・保全のポイント

2026年4月14日(火) 11時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

はんだ付け実装ラインでは、温湿度・異物・静電気・振動といったクリーンルーム環境管理が品質を大きく左右します。
本セミナーでは、実装現場で実際に必要とされる工場環境管理の考え方、印刷機・マウンター・リフロー炉・フロー槽など各設備の具体的な保守・保全ポイントを体系的に解説いたします。

食品製造工場の点検と監査のポイント

2026年4月10日(金) 13時00分16時00分
オンライン 開催

一度の食品事件・事故が会社存続の危機を招きます。
本セミナーでは、長年に渡って様々な食品工場で品質管理業務を経験してきた講師が、安全で安心な食品を届け続けるために必要な管理・基準作り・チェックの勘所を、事例ベースに解説いたします。

実践的クリーンルーム入門 (Q&A形式)

2026年4月10日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー

2026年3月27日(金) 10時00分17時00分
2026年4月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

クリーンルームにおける清浄度管理および作業員教育

2026年3月26日(木) 10時00分16時30分
会場・オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで

2026年3月17日(火) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術

2026年3月11日(水) 10時30分2026年3月25日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。

基礎から学ぶ原薬GMPガイドラインと実践

2026年3月11日(水) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、国内・国外の製造所監査で得た生々しい事例を交え、原薬GMPガイドラインの「なぜ」・「どうする」を解説いたします。
GMPの成り立ちから国際規制の理解はもちろん、工場重要12項目、現場巡回方法といった実践力に直結する内容を習得いただけます。

半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術

2026年3月10日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年3月6日(金) 10時30分2026年3月13日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年3月4日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

2026年2月10日(火) 10時30分2026年2月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

半導体産業におけるクリーン化技術の基礎とノウハウ

2026年2月6日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年2月3日(火) 10時30分2026年2月10日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

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