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本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。