技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。
薄膜技術は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス、太陽電池、建材、食品産業と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な成膜装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。しかしながら、適切な薄膜形成のためには、薄膜技術に関する知識が必要なのは今も昔も変わりません。新規の条件で成膜を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種成膜条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/1/8 | 基材への塗布層の形成、コーティング液の塗布技術 | オンライン | |
2025/1/22 | CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 | オンライン | |
2025/1/28 | CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 | オンライン | |
2025/1/29 | 薄膜作製の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2025/2/4 | 薄膜作製の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2025/2/5 | 先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 | オンライン | |
2025/2/13 | プラズマ技術の基礎とドライエッチングへの応用 | オンライン | |
2025/2/19 | スパッタリングによる成膜の基礎と製膜トラブル対策 | オンライン | |
2025/2/21 | プラズマ技術の基礎とドライエッチングへの応用 | オンライン | |
2025/2/21 | ALDの基礎と原料の開発・選択 | オンライン | |
2025/2/28 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
2025/3/12 | Tダイ法による押出成形とトラブル対策 | オンライン | |
2025/3/14 | スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策 | オンライン | |
2025/3/14 | 測定・評価技術から取り組む薄膜の剥離・密着性の改善と制御 | オンライン | |
2025/3/28 | スパッタリング法の総合知識と薄膜の特性制御・改善、品質トラブルへの対策 | オンライン |
発行年月 | |
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2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2015/9/1 | マンガと写真でわかる初歩のシート成形 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2012/1/30 | 水処理膜の製膜技術と材料評価 |
1991/8/1 | 液晶パネル製造プロセス技術 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |
1990/12/25 | 磁性薄膜の測定法 |
1986/4/1 | 最新薄膜作製・加工・評価技術 |