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本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説いたします。
第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明いたします。
第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説いたします。

本セミナーでは、真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について基礎から解説し、実務での活用についてわかりやすく詳解いたします。

本セミナーでは、プラズマの基礎から解説し、プラズマの各種生成法、現象や反応の理解、モニタリングまで、所望のプラズマプロセスを実現するための要素技術を解説いたします。

本セミナーでは、各種分野で使用されている主な表面処理技術について原理、特徴などを説明し、適用する場合の留意点、評価法について説明いたします。
また、自動車などの分野への適用事例と、最近の新技術についても紹介いたします。

本セミナーでは、真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について基礎から解説し、実務での活用についてわかりやすく詳解いたします。

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

本セミナーでは、熱処理を施す金属部品を扱っている技術者を対象に、熱処理の基本知識、種類と特徴、品質評価とトラブルについて解説いたします。

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。