技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。
シリコン半導体集積回路素子、フラットパネルディスプレイ、固体撮像素子や発光ダイオードなどの半導体機能素子によって私たちの生活は飛躍的に豊かになりました。これらの素子はドライプロセスを利用した薄膜形成技術によって製造されています。昨今、リスクマネジメントの観点から、これらの機能素子の製造を国内回帰する動きが強まっていて、改めて薄膜形成技術に関する期待が高まっています。
今回、この需要に応えるため半導体機能素子の製造技術として特に注目されている 「CVD および ALD法による薄膜形成のプロセスおよび装置の設計」に関して解説します。「CVD および ALD 装置」は化学反応を利用した反応容器です。これらのプロセスおよび装置の設計には化学反応速度論を駆使した化学反応設計が必須です。今回は特に成膜過程に必要な化学反応速度論の基礎から、実際の応用例を紹介します。
また、CVD および ALD では種々の化学物質を取り扱います。これらの化学物質を取り扱う上での注意点として危険性と安全設計の基礎を解説します。
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| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2025/4/21 | 光学薄膜技術の総合知識と最新動向 | オンライン | |
| 2025/4/25 | 半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術 | オンライン | |
| 2025/5/14 | Roll To Rollにおけるフィルム乾燥の基礎と実践、設備設計と面状トラブル対策 | オンライン | |
| 2025/5/21 | Roll To Rollにおけるフィルム乾燥の基礎と実践、設備設計と面状トラブル対策 | オンライン | |
| 2025/5/28 | 大気圧プラズマによる表面改質と界面評価 | オンライン | |
| 2025/5/29 | フレキシブルデバイス向け ハイバリアフィルムの成膜技術と最新動向 | オンライン | |
| 2025/5/30 | CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化 | オンライン | |
| 2025/6/10 | CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化 | オンライン |
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
| 2022/10/31 | 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 |
| 2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
| 2021/3/8 | プラズマ技術 |
| 2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
| 2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
| 2015/9/1 | マンガと写真でわかる初歩のシート成形 |
| 2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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| 2012/1/30 | 水処理膜の製膜技術と材料評価 |
| 1991/8/1 | 液晶パネル製造プロセス技術 |
| 1991/3/1 | 光学薄膜技術 |
| 1990/12/25 | 磁性薄膜の測定法 |
| 1986/4/1 | 最新薄膜作製・加工・評価技術 |