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本セミナーでは、無菌操作法で改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

本セミナーでは、内燃機関の燃料噴射、噴霧塗装、半導体の精密洗浄、医薬品原料・製剤の製造、農薬散布など様々な産業において必要とされている液体微粒化技術の基礎と測定・評価技術を詳解いたします。

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から世界最先端の最新動向まで、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に徹底解説いたします。

本セミナーでは、高活性物質の取り扱い・封じ込めの基礎から解説し、高活性物質の品質管理、最新の封じ込め・洗浄評価について詳解いたします。

本セミナーでは、最新の通信機器実装基板の製造工程で発生している問題点と、対策として導入した洗浄技術について解説いたします。

本セミナーでは、洗浄のメカニズム、洗浄剤の長所・短所、汚れの質に応じた洗浄方法、洗浄結果の評価について分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、マイクロバブル・ナノバブルの基礎から解説し、食品・医療・環境・農業・漁業と幅広い分野への応用可能性について詳解いたします。

本セミナーでは、洗浄バリデーションの基礎から解説し、許容基準の設定、サンプリング、分析方法の設定、ドキュメントの作成について詳解いたします。

本セミナーでは、太陽電池シリコンウエハの洗浄技術について解説し、洗浄液の効果的な使用法、超音波洗浄について詳解いたします。

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から解説し、現状の課題と解決策、最先端の最新動向までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。

本セミナーは、半導体の汚染防止、汚染除去セミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 94,500円 → 割引受講料 59,850円

本セミナーでは、洗浄バリデーションを効果的に実施するための方法・留意点を、実際の指摘事例も交えて具体的に詳解いたします。

本セミナーでは、汚れの種類と洗浄剤の種類に応じた汚れの付着・除去のメカニズムと洗浄理論、評価方法について詳解いたします。
また、外観のデジタル画像から有色汚れ付着量を求める手法について、実例を交えて詳解いたします。