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本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

本セミナーでは、撹拌、反応、晶析、濾過操作について、ラボ実験から実機へのスケールアップ方法を示しつつ、スケールアップの基礎とトラブルを防止するための考え方を解説いたします。

本セミナーでは、乾燥技術の基礎から解説し、数式の内容をより深く理解できるように、Microsoft Excel を使った実習を行います。

本セミナーでは、乾燥プロセスの基礎から乾燥速度の向上、省エネルギー化、トラブルを解決するための方法までを分かりやすく解説いたします。

このセミナーでは、化学プロセスシミュレータCOCO/ChemSep を使い、それによるシミュレーションを解説して、分離工学全般を基礎からモデル解析までわかりやすく講義いたします。

本セミナーでは、塗布乾燥の基礎から解説し、乾燥ムラなどの塗布乾燥におけるトラブルの原因と対策、未然防止策について豊富な実例を交えて詳解いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、電極スラリー作製について基礎から解説し、塗布膜乾燥工程における構造形成プロセスを解説いたします。

本セミナーでは、液膜の塗布・乾燥においてやっかいな「膜厚ムラ」の回避・抑制に向けて、液膜の流れや溶媒の蒸発特性等の塗布・乾燥の物理現象から、各種膜厚ムラの形成過程や起きている現象、対策方針、分析方法までを詳しく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、乾燥の基礎知識から解説し、塗布膜乾燥のメカニズム、塗布膜乾燥速度の定量的取り扱い、乾燥時間短縮のポイント、乾燥操作と製品品質の関連について詳解いたします。

本セミナーでは、初級者のための乾燥技術入門と評価実務について詳解いたします。

本セミナーでは、乾燥の基礎知識から解説し、塗布膜乾燥のメカニズム、塗布膜乾燥速度の定量的取り扱い、乾燥時間短縮のポイント、乾燥操作と製品品質の関連について詳解いたします。