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本セミナーでは、乾燥の基礎理論、最適な乾燥条件の設定、乾燥パラメーターの推算、乾燥工程の設計、乾燥設備の違いと特徴、高分子膜の溶剤調湿、実験室から量産にスケールアップする際の留意点、風ムラ・ベナールセル・凹凸ムラ・泡・白化・面状トラブルの原因と対策について詳解いたします。

本セミナーでは、リチウムイオン電極の間欠塗工におけるRoll To Roll製造方法、スロット塗工・コンマ塗工、塗工設備の設計・改善方法について詳解いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、乾燥操作について基礎から解説し、乾燥装置を紹介いたします。
また、特徴的な乾燥方式については詳しく解説いたします。
さらに乾燥操作時の省エネルギー、トラブル対策、簡易設計計算、求める乾燥製品を得るための留意点について解説し、最後に最近の乾燥技術開発動向についてまとめます。

本セミナーでは、マイクロ波を加熱・焼結・化学合成・乾燥に利用する場合の検討事項、事前の留意点など、マイクロ波の基礎から分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、マイクロ波を加熱・焼結・化学合成・乾燥に利用する場合の検討事項、事前の留意点など、マイクロ波の基礎から分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、凍結乾燥の基礎から解説し、試験設備から生産設備へのスケールアップ時の問題点と課題、無菌製剤生産に関する法規改正とそれに対する装置対応について、実例を交えて解説いたします。

本セミナーでは、化学プロセスにおけるスケールアップについて基礎から解説し、豊富なスケールアップトラブルの事例と対策を用いて解説いたします。

本セミナーでは、凍結乾燥の基礎から解説し、試験設備から生産設備へのスケールアップ時の問題点と課題、無菌製剤生産に関する法規改正とそれに対する装置対応について、実例を交えて解説いたします。

本セミナーでは乾燥の基礎から解説し、膜厚の均一化、シミュレーション技術、塗布膜のトラブルと対策について詳解いたします。

本セミナーでは、スラリー中の粒子分散・凝集状態を適切に制御するために必要な考え方の基礎と、粒子分散・凝集状態を的確に評価できる技術を解説し、それらを実プロセスに応用した例を紹介いたします。

このセミナーでは、化学プロセスシミュレータCOCO/ChemSep を使い、それによるシミュレーションを解説して、分離工学全般を基礎からモデル解析までわかりやすく講義いたします。

本セミナーでは、スラリー・ペーストについて取り上げ、スラリーの流動性、凝集特性から塗工性・分散性向上のための添加剤の選び方、タレ・レベリング性評価まで解説いたします。

このセミナーでは、化学プロセスシミュレータCOCO/ChemSep を使い、それによるシミュレーションを解説して、分離工学全般を基礎からモデル解析までわかりやすく講義いたします。