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本セミナーでは、フリーズドライについて基礎から解説し、凍結・乾燥工程で起こる現象、品質を決定する因子、品質変化について詳解いたします。

本セミナーは、マイクロ波の基礎から解説し、マイクロ波エネルギーの安定供給や照射による効果の確認を行うための方法について詳解いたします。

本セミナーでは、粒子の分散安定化の基礎から解説し、再生産可能原料も含め、分散剤を中心に表面調整剤・消泡剤・レオロジーコントロール剤とその技術について解説いたします。

本セミナーでは、スラリー中の粒子分散・凝集状態を適切に制御するために必要な考え方の基礎と、粒子分散・凝集状態を的確に評価できる技術を解説し、それらを実プロセスに応用した例を紹介いたします。

本セミナーでは、乾燥技術の基礎から解説し、数式の内容をより深く理解できるように、Microsoft Excel を使った実習を行います。

本セミナーでは乾燥の基礎から解説し、膜厚の均一化、シミュレーション技術、塗布膜のトラブルと対策について詳解いたします。

本セミナーでは、乾燥について基礎から解説し、乾燥原理、製品品質に及ぼす乾燥操作の影響、トラブルシューティングまで分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、塗布膜の乾燥について取り上げ、乾燥ムラ・組成偏析の防止、表面の平滑性向上、乾燥時間の短縮について詳解いたします。

本セミナーでは、乾燥プロセスの基礎から乾燥速度の向上、省エネルギー化、トラブルを解決するための方法までを分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは乾燥の基礎から解説し、膜厚の均一化、シミュレーション技術、塗布膜のトラブルと対策について詳解いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、噴霧乾燥の基本から対象物に応じた最適な装置・方法を解説いたします。

このセミナーでは、化学プロセスシミュレータCOCO/ChemSep を使い、それによるシミュレーションを解説して、分離工学全般を基礎からモデル解析までわかりやすく講義いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。