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LSI (Large Scale Integration / 集積回路)のセミナー・研修・出版物

シリコンフォトニクスによる光デバイスの開発と光回路集積化

2023年4月27日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、経済性・超小型・高速伝送・低環境負荷などの利点から注目されているシリコンフォトニクスについて取り上げ、シリコンフォトニクスの基礎と動向、光トランシーバ・コパッケージ技術、ヘテロジニアス集積による進化など、シリコンフォトニクス技術の現状と今後の進展について解説いたします。
また、高速光集積回路の実現に向けたシリコンフォトニクスの最新動向、チップとファイバ間の光結合、光電コパッケージなど具体的な開発事例を挙げて詳解いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2023年3月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障メカニズムの理解と信頼性評価・故障解析のポイント

2023年2月22日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、事例を多く用いて、初級者にも理解しやすいように説明いたします。

次世代光インターコネクションを支える光電コパッケージ技術とポリマー光回路技術の現状・課題・展開

2022年11月29日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

シリコンフォトニクスの基礎と現状、最新動向、今後の展望

2022年9月21日(水) 10時00分12時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、経済性・超小型・高速伝送・低環境負荷などの利点から注目されているシリコンフォトニクスについて取り上げ、シリコンフォトニクスの基礎と動向、光トランシーバ・コパッケージ技術、ヘテロジニアス集積による進化など、シリコンフォトニクス技術の現状と今後の進展について解説いたします。

次世代光インターコネクションを支える光電コパッケージ技術とポリマー光回路技術の現状・課題・展開

2022年5月30日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、従来の半導体パッケージに光部品を実装する光電コパッケージの最新動向を紹介いたします。
また、ポリマー光回路の材料や作成法、ポリマー光回路を用いた光電コパッケージの最新状況や、NEDOプロジェクトについてなど、講師らの最新の取り組みを中心に解説いたします。

CMP技術の基礎と応用

2022年5月16日(月) 10時30分12時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、LSIの製造工程で用いられるCMP技術の基礎と応用について解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術

2022年4月28日(木) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障未然防止・故障解析入門講座

2022年3月29日(火) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2022年3月25日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

電子機器の故障未然防止と故障解析入門

2022年2月15日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

車載用電子機器における故障の未然防止と信頼性評価解析

2021年12月23日(木) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、車載用電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

シリコンフォトニクスの最新動向と今後の進展

2021年10月19日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、経済性・超小型・高速伝送・低環境負荷などの利点から注目されているシリコンフォトニクスについて取り上げ、シリコンフォトニクスの基礎と動向、光トランシーバ・コパッケージ技術、ヘテロジニアス集積による進化など、シリコンフォトニクス技術の現状と今後の進展について解説いたします。

電子機器の故障未然防止・故障解析入門講座

2021年6月28日(月) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

車載半導体の品質保証 5時間集中講座

2021年4月26日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、車載専用化に向けた半導体の信頼性について解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2021年2月25日(木) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

実践 電子機器の故障未然防止と故障解析

2021年2月17日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、故障に関する基礎知識と実際に行われている未然防止法と故障解析を、多くの事例を交えて解説いたします。

薄膜トランジスタの基礎と高性能化・高信頼性化技術、最新動向

2021年1月15日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、薄膜シリコントランジスタ、酸化物薄膜トランジスタの基礎知識から高性能化・高信頼性に向けた技術を解説いたします。

電子機器の故障未然防止と故障解析入門

2020年12月23日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

車載用電子部品における故障の未然防止と信頼性評価、解析

2020年8月31日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、車載用電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2020年2月17日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

車載半導体・電子部品の品質保証 5時間集中講座

2019年9月24日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、車載専用化に向けた半導体の信頼性について解説いたします。

車載電子部品の信頼性要求と市場故障低減のための信頼性作り込み

2019年1月25日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、車載用電子部品・電子機器の信頼性について基礎から解説し、電子部品の故障メカニズム・評価・解析手法を詳説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2019年1月23日(水) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、歩留まり向上のためのクリーン化技術および洗浄・乾燥技術について、基礎から“最先端技術”まで分かりやすく解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術

2017年11月20日(月) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、歩留まり向上のためのクリーン化技術および洗浄・乾燥技術について、基礎から“最先端技術”まで分かりやすく解説いたします。

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