技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

半導体のセミナー・研修・出版物

半導体パッケージの反り対策に向けた材料開発と測定技術

2026年6月29日(月) 13時00分17時10分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体パッケージング技術について取り上げ、反り、吸湿、不純物、ボイドなどのトラブルの原因と対策、基板の大型化に伴う高密度化・高集積化へ向けた課題と対応について詳解いたします。

パワーデバイス半導体SiC結晶と欠陥評価技術

2026年6月29日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、SiC結晶やその欠陥の種類、デバイス特性への影響についてレビューした後、結晶欠陥の評価手法に関して解説いたします。

光容量分光法によるワイドギャップ半導体の欠陥準位評価

2026年6月26日(金) 13時00分2026年7月10日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、バンドギャップが大きくなるほど評価困難になる欠陥準位評価法の1つである光容量分光法の特徴や測定方法について、従来の評価技術と比較しながら測定原理から応用例までわかりやすく解説いたします。

光容量分光法によるワイドギャップ半導体の欠陥準位評価

2026年6月25日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、バンドギャップが大きくなるほど評価困難になる欠陥準位評価法の1つである光容量分光法の特徴や測定方法について、従来の評価技術と比較しながら測定原理から応用例までわかりやすく解説いたします。

半導体封止材の基礎と最新開発動向

2026年6月25日(木) 13時00分15時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体封止材の役割を起点とし、固形封止材 (EMC) における原材料構成や役割、液状封止材 (CUF) の要求特性やEMCとの比較について解説いたします。
また、パワー半導体向け封止材を対象として、設計方針、材料技術、評価技術だけでなく、成型方式の進化や、AIサーバー等に使用される先端PKG向け封止材の設計・改良指針についても解説いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (前編)

2026年6月25日(木) 10時30分2026年7月8日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (2日間)

2026年6月25日(木) 10時30分2026年7月8日(水) 16時30分
2026年6月25日(木) 10時30分2026年7月8日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (後編)

2026年6月25日(木) 10時30分2026年7月8日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体パッケージの基礎から各製造工程の技術ポイントおよび今後の技術動向

2026年6月24日(水) 13時00分2026年7月1日(水) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

フォトレジスト材料の基礎と評価プロセスおよび市場展開アプリケーション

2026年6月24日(水) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、フォトレジストに求められる要求特性とそれを達成するための材料設計をメインに、フォトレジストの基礎から評価、適用されるアプリケーション、トラブルの原因と対策について具体的に解説いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (後編)

2026年6月24日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

CMPの基礎と最適なプロセスを実現する実践的総合知識

2026年6月24日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイス製造における様々なCMP工程の特徴を紹介し、それに用いられる装置、スラリー、パッドの詳細を解説いたします。
さらに、CMPによる材料除去のメカニズムについて様々なモデルを紹介し、そこからパッドやスラリーのあるべき姿を考察いたします。

酸化ガリウムパワーデバイスの開発動向と今後の展望

2026年6月23日(火) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、Ga2O3パワーデバイスの位置づけ・魅力、現在までのバルク・基板、エピタキシャル薄膜成長、デバイス (トランジスタ、ショットキーバリアダイオード) の研究開発状況、今後に向けた課題および展望などについて解説いたします。

半導体パッケージの基礎から各製造工程の技術ポイントおよび今後の技術動向

2026年6月23日(火) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

先端冷却・放熱技術の研究開発動向

2026年6月23日(火) 11時00分15時45分
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本セミナーでは、AIチップや高性能半導体デバイスの高発熱化に対応する、従来の空冷を超える先端冷却・放熱技術について取り上げ、「液体金属を用いた放熱フィルム技術」「三次元マイクロ流路による省エネ水冷技術」「ハニカム多孔構造による超高熱流束沸騰冷却技術」をテーマに、AIチップにおける熱課題や空冷・液冷技術の現状と課題を踏まえながら、各講師が技術概要や最新の研究開発動向について解説いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (2日間)

2026年6月23日(火) 10時30分16時30分
2026年6月24日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

半導体デバイス・プロセス開発の実際 (前編)

2026年6月23日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体産業全体を俯瞰し、半導体デバイス、プロセス、実装工程の実務、半導体プロセスの特徴・開発・製造方法、最先端半導体デバイスについて詳解いたします。

AI半導体デバイス・サーバーにおける熱対策と冷却技術の最新動向

2026年6月22日(月) 13時00分16時30分
オンライン 開催

AIチップの高性能化・高集積化に伴い、半導体デバイスやサーバーでは発熱密度の増大が大きな課題となっており、熱マネジメントや冷却技術の重要性が高まっています。
本セミナーでは、AIチップにおける熱問題と冷却の目的から、冷却システムの構成と熱設計、半導体冷却に求められる冷却能力、TIMの最新動向、空冷・液冷技術、オンチップ冷却の最前線まで、AI半導体デバイス・サーバーの冷却技術の全体像と最新動向を解説いたします。

AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況

2026年6月17日(水) 11時00分2026年6月25日(木) 14時00分
オンライン 開催

半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術

2026年6月12日(金) 10時30分2026年6月22日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体後工程の基礎・各プロセスの技術から注目の2.5D/3Dパッケージングとチップレット技術について、開発当時の失敗や苦労、得られた代表的な知見などを講師の経験も踏まえて解説いたします。

世界半導体産業への羅針盤

2026年6月11日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

半導体 (IC) の製造工程と半導体用素部材の基本情報

2026年6月11日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

次世代半導体パッケージおよび実装技術動向と市場展望

2026年6月8日(月) 13時00分2026年9月25日(金) 15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、チップレット等の新技術による中工程概念の出現や、異種チップの集積/ヘテロジニアスパッケージ等、重要性を増し進化していく半導体パッケージングの技術動向・市場動向について解説いたします。
また、急成長する生成AIの影響、半導体パッケージにおける日本の強み等について、インテルでパッケージ基板・後工程材料・装置等のサプライ・チェーンのマネジメントを行い、現在も市場動向調査やパッケージ材料開発を支援している講師が解説いたします。

AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況

2026年6月8日(月) 11時00分14時00分
オンライン 開催

半導体デバイスにおける低温・常温接合のポイントと今後の展望

2026年6月8日(月) 10時30分2026年6月22日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおいて重要性が高まっている低温・常温接合技術について、基礎原理、最新の研究開発動向、実際のデバイス応用事例まで解説いたします。

半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策

2026年6月5日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおける金属・分子汚染の影響とそのメカニズム、分析解析手法とモニタリングについて解説し、従来の洗浄技術から最新の洗浄手法、洗浄以外の汚染、そして次世代の汚染制御技術まで幅広く解説いたします。
RCA洗浄や薬液系/純水系洗浄のメカニズム、最新の乾燥技術、工場設計やウェーハ保管・移送方法などについても詳しく紹介いたします。

半導体デバイスにおける低温・常温接合のポイントと今後の展望

2026年6月5日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおいて重要性が高まっている低温・常温接合技術について、基礎原理、最新の研究開発動向、実際のデバイス応用事例まで解説いたします。

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