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スパッタリング薄膜の基礎とプロセス改善、トラブル対策

スパッタリング薄膜の基礎とプロセス改善、トラブル対策

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、スパッタリング薄膜形成とトラブル対処のための基礎知識やノウハウを網羅的に分かりやすく解説いたします。

開催日

  • 2018年8月23日(木) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • スパッタリング・成膜に関連する技術者
    • エネルギー分野
      • 反射防止膜保護膜
      • 透過膜太陽電池
    • 光学分野
      • 増透膜
      • 反射防止膜
      • 偏光膜
      • 保護膜
      • 赤外透過膜
      • 赤外線フィルター
      • 紫外線フィルター
    • ディスプレイ
      • 絶縁膜
      • 透明電極
      • 発光膜
    • 表面処理
      • 表面硬化膜
      • 固体潤滑膜 など
  • スパッタリング・成膜で課題を抱えている方

修得知識

  • スパッタ薄膜の基礎から応用まで
  • スパッタ膜の物性をコントロールする方法
  • 薄膜の分析評価技術
  • 膜の密着性を改善するポイント
  • スパッタ装置の生産性を高める方法
  • スパッタ実務の関するトラブル解決のヒント

プログラム

 スパッタリングは、エレクトロニクスをはじめとした様々なシーンで用いられる重要な成膜技術です。しかし、量産技術をどのように確立し、改善するのか?についてのノウハウはあまり知られていません。
 本講座では、スパッタリング薄膜の品質の安定化、密着性改善、生産性向上、トラブル対応など、実務上の重要ポイントを網羅的・具体的に解説します。スパッタリングの基礎を学びたい方から実務エキスパートを目指す方まで、大変お勧めです。

  1. スパッタリング法の基礎
    1. 薄膜の基本を押さえよう
    2. スパッタリング法と他の成膜技術との違いとは
    3. スパッタリング薄膜の用途と今後の展開について
    4. スパッタリング装置の構成を把握しよう
    5. スパッタリング工程の運用と管理について
  2. スパッタリング法の物理現象
    1. 物理現象を把握することの重要性
    2. スパッタリングの物理現象1 (プラズマ放電)
    3. スパッタリングの物理現象2 (スパッタリング)
    4. スパッタリングの物理現象3 (組織形成)
    5. スパッタリングのパラメータを整理しよう
  3. スパッタリング薄膜の評価・分析技術
    1. スパッタリング薄膜に求められる性能とは
    2. 膜厚・形状の評価方法とポイント
    3. 各種特性評価の方法とポイント
    4. 元素・状態分析の方法とポイント
    5. 結晶構造評価の方法とポイント
    6. 機械的性質・密着性評価の方法とポイント
  4. スパッタリング薄膜の特性安定化
    1. 特性実現と特性安定化という2つの課題
    2. 特性とパラメータの間にあるものを理解しよう
    3. プロセスのばらつき・変動要因について
    4. プロセスのリアルタイム分析の方法とポイント
    5. スパッタリング薄膜の特性安定化のポイント
    6. 特性悪化トラブルシューティング 事例と対策
  5. スパッタリング薄膜の密着性・信頼性確保
    1. 薄膜の密着と剥離のメカニズム
    2. 剥離解析からの原因追究のポイント
    3. 信頼性評価・・密着性、機械的強度、各種試験
    4. スパッタリング薄膜の密着性確保のポイント
    5. 密着性トラブルシューティング 事例と対策
  6. スパッタリング薄膜の微小欠陥・外観異常対策
    1. スパッタリング薄膜の欠陥モード
    2. スパッタリング薄膜の外観検査とモニタリング
    3. ピンホール・付着異物の原因究明と対策
    4. 変色・しわ・しみの原因究明と対策
    5. 外観トラブルシューティング 事例と対策
  7. スパッタリング工程の生産性改善
    1. スパッタリング工程の原価を把握しよう
    2. スパッタリング工程のコスト改善手法
    3. スパッタリング工程の運用体制と稼働率
    4. スパッタリング工程の稼働率改善法
    5. メンテナンスを安全化しよう
    6. 生産性改善アプローチの事例

会場

江東区産業会館

第1会議室

東京都 江東区 東陽4丁目5-18
江東区産業会館の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

案内割引・複数名同時申込割引について

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  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 43,750円(税別) / 47,250円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 46,278円(税別) / 49,980円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 69,417円(税別) / 74,970円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 46,278円(税別) / 49,980円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 92,556円(税別) / 99,960円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 138,833円(税別) / 149,940円(税込)
本セミナーは終了いたしました。

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