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プラズマスパッタ法による薄膜作製の基礎と実際の膜作製例

プラズマスパッタ法による薄膜作製の基礎と実際の膜作製例

～薄膜作製に関する基礎から応用まで～
東京都 開催 会場 開催
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開催日

  • 2019年4月19日(金) 12時30分 ～ 16時30分

受講対象者

  • スパッタ法による薄膜作製に携わる方
  • これからスパッタ法により薄膜作製を行う方

修得知識

  • プラズマスパッタ法により作製される薄膜の構造
  • プラズマスパッタ法により作製される薄膜の特性
  • プラズマスパッタ法により作製される薄膜の基本的な制御法

プログラム

　現在の薄型テレビやスマートフォン、ハードディスクなどの様々な電子機器には、高機能を有する材料を薄膜化した電子部品が多く用いられている。これらの電子部品に用いられている薄膜を作製する方法の一つとして「プラズマスパッタ法」が使用されている。
　そこで、本講演では、一般的なプラズマスパッタ法におけるプラズマ生成から基板上への薄膜堆積に至る基礎的事項や、プラズマスパッタ法による薄膜作製の現状と問題点、プラズマスパッタ法の種類とその動作原理について解説した後、様々なスパッタ法により薄膜を作製した場合の実例について解説する。

  1. プラズマスパッタ法による成膜の基礎
    1. ターゲットを衝撃するためのイオンの生成
    2. プラズマ中のイオンによるターゲット表面の衝撃とスパッタ放出
    3. ターゲットからスパッタ放出された粒子の基板への輸送過程
    4. 基板に入射した粒子の付着・堆積過程
    5. 様々なスパッタ成膜技術
  2. スパッタ法による薄膜作製の具体例
    1. スパッタ法により作製された薄膜の機械的特性
    2. 低基板温度上に作製した薄膜の特性
    3. スパッタ法による調光ミラー用薄膜
    4. 対向ターゲット式スパッタ法による蛍光体薄膜
    5. 原子層積層法によるBaフェライト薄膜
    6. 低電圧スパッタ法によるITO薄膜の低温成膜
    7. スパッタビーム堆積法によるZnO薄膜
    • 質疑応答
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会場

江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)
東京都 江東区 亀戸2-19-1
江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)の地図
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主催

株式会社 R&D支援センター
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
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受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 138,833円(税別) / 149,940円(税込)
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