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ミストCVD技術の開発と今後の可能性

ミストCVD技術の開発と今後の可能性

～大気圧下における高品質機能膜形成のために～
東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。

開催日

  • 2017年9月26日(火) 12時30分 ～ 16時30分

プログラム

　大気圧下で大面積に亘り高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。

  1. 機能膜作製技術について
  2. 大気圧下で機能膜を形成する為のポイント
  3. 液滴を発生させる方法
  4. 超音波噴霧を利用した機能膜形成技術の歴史
  5. ミストを利用した機能膜形成技術「ミストCVD」の特徴
  6. ミストCVDの種類
  7. ミストCVDで作製出来る機能膜
  8. ミストCVDで作製したデバイス
  9. ミストCVDの物理
  10. ミストCVDの可能性
    • 質疑応答
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会場

江東区文化センター

3F 第1研修室

東京都 江東区 東陽四丁目11-3
江東区文化センターの地図
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主催

株式会社 R&D支援センター
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

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