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薄膜のセミナー・研修・出版物

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2020年7月31日(金) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
このセミナーは、2020年3月30日収録セミナーの映像配信です。​講師と直接質疑応答いただけます。

スパッタ・真空蒸着と膜質改善技術の徹底解説

2020年7月14日(火) 10時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、スパッタや真空蒸着法で形成された金属・無機薄膜を中心に取り上げ、応力制御や密着性改善のために必要な基本知識から、具体的な測定法や剥離トラブルの対処法について解説いたします。

高分子延伸の分子配向メカニズムと物性評価

2020年7月8日(水) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、フィルム延伸について基礎から解説し、高強度・透明性・バリア性・耐熱性等、目的の物性を得るための最適な延伸条件について解説いたします。

ミストCVD技術の開発と今後の可能性

2020年6月25日(木) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。

酸化物半導体薄膜技術の全て

2020年6月24日(水) 13時30分16時30分
オンライン 開催

ウェブの物性の理解とウェブの搬送および巻取りにおけるトラブルの原因と対策

2020年6月18日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ウェブ搬送の基礎的な力学的性質から、搬送や巻取のトラブル対策まで総括的に解説いたします。

スパッタリング法による薄膜形成と内部応力抑制の勘どころ

2020年6月10日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、スパッタリングプロセスの基礎から解説し、現場において遭遇する様々なトラブルに対応する力を身に付けることを目標としております。

Tダイ成形機の基礎とフィルム成形トラブル対策

2020年5月15日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、押出機内の可視化、成形現象のシミュレーション、混練の予測・解析手法について詳解いたします。
Tダイ成形機メーカ「アクスモールディング 株式会社 」フィルムのテスト成形見学付き。

ギラツキ防止・反射防止フィルムの材料設計と定量評価

2020年4月3日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、車載ディスプレイへ向けた映り込み防止とギラツキ低減の両立、耐指紋性への対応、UV硬化によるギラツキの制御について詳解いたします。

薄膜分析・評価の基礎知識とナノテクノロジーへの応用

2020年3月31日(火) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、電子物性・光物性の基礎物理など、薄膜分析・評価の基礎から様々な表面・界面評価技術について取り上げ、例示を交えて解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と高品質膜化および最新動向

2020年3月30日(月) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

ミストCVD技術の開発と今後の可能性

2020年2月28日(金) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。

スパッタリングの基礎と薄膜における内部応力抑制および付着力 (2日間)

2020年2月27日(木) 12時30分16時30分
2020年2月28日(金) 10時00分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、スパッタリングプロセスの基礎から解説し、現場において遭遇する様々なトラブルに対応する力を身に付けることを目標としております。

酸化物半導体薄膜技術の全て

2020年2月20日(木) 13時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

エアロゾルデポジション法の実用化と今後の展望

2020年2月17日(月) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、エアロゾルデポジション法の基礎から、製膜体の特性、用途展開、実用化の課題・事例、今後の展望などに関して、同技術を世界で初めて実用化・量産化された講師が、商品化の着眼点から実用化で苦労した点を含めて解説いたします。

バリアフィルムの基礎と作製・評価法およびハイバリア技術

2020年2月7日(金) 12時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、バリアフィルムについて基礎から解説し、バリアフィルムの作成と評価、トラブルの原因と対策について解説いたします。
また、有機ELディスプレイ用の最新動向についても解説いたします。

薄膜の剥離メカニズムと密着性改善

2020年1月29日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、界面や表面、膜応力や剥離・破壊の基礎から解説し、密着性改善の考え方、密着力の評価方法について詳解いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎と応用 (1日コース)

2020年1月21日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

原子層制御プロセスの原理・最適設計および最新動向

2019年12月20日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、原子層制御プロセスの基礎から解説し、原料供給・パージ・反応性ガス供給など多くの制御パラメータの最適化や、ALDプロセスを活用した最新の応用事例を詳解いたします。

ポリマーブラシの基礎と応用に向けた技術的課題

2019年12月18日(水) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ポリマーブラシについて基礎から解説し、具体的な調製法と表面特性、国内外の最新の研究動向や実用化への技術的問題、将来展望などについて解説いたします。

スパッタリングの基礎とトラブル対策

2019年11月29日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、スパッタリングの基礎知識から、膜特性の改善策・評価法、装置構成上の工夫について解説いたします。
また、熟練者の技能をデジタル化する手法や工程管理に活用できる新しい管理手法についても紹介いたします。

ALD (原子層堆積法) ALEt (原子層エッチング) の基礎・応用・最新動向

2019年11月26日(火) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

酸化物半導体薄膜技術の全て

2019年10月29日(火) 13時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

低温大気圧プラズマの基礎と応用

2019年10月9日(水) 12時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、物体の表面処理に利用されることの多い低温大気圧プラズマの代表的な応用例である表面処理を取り上げ、その処理プロセスのうち既知となっているメカニズムを説明するとともに、そのプロセス能力を最大化するためには、どの操作ノブをどのように操作したらよいのかを説明いたします。

フィルム延伸の基礎と解析法を用いたトラブル対策

2019年10月7日(月) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、フィルムの押出・キャスティング工程から延伸工程、巻取り工程まで、フィルムを製造する時に遭遇する課題を解決するための基礎から最近の研究成果を分かりやすく解説いたします。

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