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本セミナーでは、表面、界面の基礎から、分析評価を中心にして、その姿を明らかにして利用するためのアプローチについて、技術的テクニック、コツやノウハウから、考え方、アプローチに方法まで応用アプリケーションの事例を交えて解説いたします。

本セミナーでは、シランカップリング剤の種類や機能、作用機構、使用法、処理効果、分析・解析法、様々な応用など、実務で使いこなすための知識・技術を、基礎から応用まで幅広く解説いたします。

本セミナーでは、ダイヤモンドライクカーボン層を金属表面へ被覆し、摩擦係数の低減、耐摩耗性の改善、長期耐久性・疲労強度、フレッティング疲労強度を改善する方法とポイントについて詳解いたします。

本セミナーでは、液膜の塗布・乾燥においてやっかいな「膜厚ムラ」の回避・抑制に向けて、液膜の流れや溶媒の蒸発特性等の塗布・乾燥の物理現象から、各種膜厚ムラの形成過程や起きている現象、対策方針、分析方法までを詳しく解説いたします。

本セミナーでは、ラミネート技術の基本理論を押さえた上で、実用的なラミネート技術とトラブル対策を分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、汚れの種類と汚れ付着の原因、防汚コーティングによる防汚のしくみ、代表的な防汚コーティング、防汚性の評価など、防汚コーティングに関する一通りを平易に解説いたします。

本セミナーでは、乾燥の基礎知識から解説し、塗布膜乾燥のメカニズム、塗布膜乾燥速度の定量的取り扱い、乾燥時間短縮のポイント、乾燥操作と製品品質の関連について詳解いたします。

本セミナーでは、用途に適した機能化が求められるハードコート剤開発のための基本的な考え方と材料設計および評価技術を解説いたします。

本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説いたします。
第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明いたします。
第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説いたします。

本セミナーでは、乾燥の基礎知識から解説し、塗布膜乾燥のメカニズム、塗布膜乾燥速度の定量的取り扱い、乾燥時間短縮のポイント、乾燥操作と製品品質の関連について詳解いたします。

本セミナーでは、最新の技術を入れた各種材料の特性および各種表面処理方法について説明し、ものづくりの観点から、表面処理の選定・活用のポイントと注意点について解説いたします。