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ナノインプリントのセミナー・研修・出版物
レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向
2021年2月3日(水) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
ナノインプリントのメカニズムと材料、プロセスの最適化
2020年12月11日(金) 10時00分
～
17時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。
レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向
2020年11月9日(月) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
リソグラフィの基礎、半導体製造におけるレジスト材料技術と今後の展望
2020年10月9日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
ナノインプリントのメカニズムと微細構造の作製技術
2020年4月9日(木) 10時00分
～
17時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。
リソグラフィの基礎、半導体製造におけるレジスト材料技術と今後の展望
2020年2月27日(木) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
リソグラフィの基礎、半導体製造におけるレジスト材料技術と今後の展望
2019年8月26日(月) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
レジスト・微細加工用材料の基礎と最新技術動向
2019年1月25日(金) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向
2018年5月21日(月) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。
ナノインプリントリソグラフィの微細パターン形成技術と欠陥対策
2017年3月13日(月) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。
ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の作製・応用技術
2016年2月15日(月) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたいします。
ナノインプリントの離型性向上技術
2015年12月22日(火) 10時30分
～
16時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。
ナノインプリントリソグラフィによる微細パターン形成技術と欠陥対策
2015年7月8日(水) 10時30分
～
16時00分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ナノインプリントリソグラフィによる微細パターン形成技術と欠陥対策について詳解いたします。
反射防止フィルム高機能化へのモスアイ構造・その効果
2015年3月23日(月) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、スマートフォンを始め各種ディスプレイデバイスに求められる反射防止フィルムに求められる要求特性やその構造、また反射防止フィルムへの防汚・撥水・撥油などの機能付与および、モスアイ構造の応用による高機能化事例まで解説いたします。
高分子材料の精密成形加工における高次構造形成・物性解析
2013年11月28日(木) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、高分子材料の各種精密成形について、その高分子材料の基礎物性、加工性をはじめ、その加工時における分子配向や結晶形成について解説し、また、その解析法についても詳解致します。
ポリイミドの特性と高機能化のための分子・材料設計
2013年10月22日(火) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ポリイミドの構造や合成法、性質などの基礎から、ポリイミドの高機能化、応用までを詳解いたします。
有機ELの技術動向と光取り出し向上技術
2013年6月12日(水) 10時30分
～
16時00分
大阪府 開催
会場 開催
本セミナーでは、有機ELの低消費電力化、長寿命化、大型化、低コスト化に向けた技術トレンドと光取り出し効率の向上化技術、評価法など詳解いたします。
プリンテッドエレクトロニクス徹底解剖
2013年5月20日(月) 13時00分
～
16時30分
2013年6月7日(金) 11時00分
～
16時30分
2013年6月11日(火) 10時30分
～
16時10分
2013年6月26日(水) 10時30分
～
15時10分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーは、プリンテッドエレクトロニクスに関連するセミナーをセットにした特別コースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
- 2コース受講: 通常受講料 89,600円 → 同時受講割引 79,600円 (税込)
- 3コース受講: 通常受講料 134,400円 → 同時受講割引 89,600円 (税込)
- 4コース受講: 通常受講料 179,200円 → 同時受講割引 99,600円 (税込)
反射防止フィルムの設計・要求特性と高機能化技術
2013年1月25日(金) 11時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、スマートフォンを始め各種ディスプレイデバイスに求められる反射防止フィルムに求められる要求特性やその構造、また反射防止フィルムへの防汚・撥水・撥油などの機能付与および、モスアイ構造の応用による高機能化事例まで解説いたします。
ポリイミドの特性と高機能化のための分子・材料設計
2012年10月26日(金) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、ポリイミドの構造や合成法、性質などの基礎から、ポリイミドの高機能化、応用までを詳解いたします。
