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ナノインプリントのセミナー・研修・出版物

リソグラフィの基礎、半導体製造におけるレジスト材料技術と今後の展望

2019年8月26日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

レジスト・微細加工用材料の基礎と最新技術動向

2019年1月25日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2018年5月21日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

ナノインプリントリソグラフィの微細パターン形成技術と欠陥対策

2017年3月13日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。

ナノインプリントの基礎とナノデバイス・3次元構造の作製・応用技術

2016年2月15日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたいします。

ナノインプリントの離型性向上技術

2015年12月22日(火) 10時30分16時00分
東京都 開催

本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。

ナノインプリントリソグラフィによる微細パターン形成技術と欠陥対策

2015年7月8日(水) 10時30分16時00分
東京都 開催

本セミナーでは、ナノインプリントリソグラフィによる微細パターン形成技術と欠陥対策について詳解いたします。

反射防止フィルム高機能化へのモスアイ構造・その効果

2015年3月23日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、スマートフォンを始め各種ディスプレイデバイスに求められる反射防止フィルムに求められる要求特性やその構造、また反射防止フィルムへの防汚・撥水・撥油などの機能付与および、モスアイ構造の応用による高機能化事例まで解説いたします。

高分子材料の精密成形加工における高次構造形成・物性解析

2013年11月28日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、高分子材料の各種精密成形について、その高分子材料の基礎物性、加工性をはじめ、その加工時における分子配向や結晶形成について解説し、また、その解析法についても詳解致します。

ポリイミドの特性と高機能化のための分子・材料設計

2013年10月22日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、ポリイミドの構造や合成法、性質などの基礎から、ポリイミドの高機能化、応用までを詳解いたします。

有機ELの技術動向と光取り出し向上技術

2013年6月12日(水) 10時30分16時00分
大阪府 開催

本セミナーでは、有機ELの低消費電力化、長寿命化、大型化、低コスト化に向けた技術トレンドと光取り出し効率の向上化技術、評価法など詳解いたします。

プリンテッドエレクトロニクス徹底解剖

2013年5月20日(月) 13時00分16時30分
2013年6月7日(金) 11時00分16時30分
2013年6月11日(火) 10時30分16時10分
2013年6月26日(水) 10時30分15時10分
東京都 開催

本セミナーは、プリンテッドエレクトロニクスに関連するセミナーをセットにした特別コースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。

  • 2コース受講: 通常受講料 89,600円 → 同時受講割引 79,600円 (税込)
  • 3コース受講: 通常受講料 134,400円 → 同時受講割引 89,600円 (税込)
  • 4コース受講: 通常受講料 179,200円 → 同時受講割引 99,600円 (税込)

ナノインプリント技術の最前線

2013年4月23日(火) 10時30分16時00分
東京都 開催

反射防止フィルムの設計・要求特性と高機能化技術

2013年1月25日(金) 11時00分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、スマートフォンを始め各種ディスプレイデバイスに求められる反射防止フィルムに求められる要求特性やその構造、また反射防止フィルムへの防汚・撥水・撥油などの機能付与および、モスアイ構造の応用による高機能化事例まで解説いたします。

ポリイミドの特性と高機能化のための分子・材料設計

2012年10月26日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、ポリイミドの構造や合成法、性質などの基礎から、ポリイミドの高機能化、応用までを詳解いたします。

UVナノインプリントの基礎と低欠陥・高スループット化へ向けた基盤技術

2012年9月4日(火) 10時30分16時30分
大阪府 開催

本セミナーでは、光ナノインプリントの原理とその背景となる物理化学について解説し、さらに低欠陥、高スループット化・高機能化に向けた要素技術、材料と、最近の応用事例、動向について詳解いたします。

光ナノインプリント量産技術・樹脂性能の向上とアレンジメント

2012年6月21日(木) 13時00分16時15分
東京都 開催

本セミナーでは、量産期を迎えるナノインプリント技術について、樹脂材料との相性、基板密着性、剥離性など、光ナノインプリント用樹脂の開発現状から課題解決について解説いたします。

アモルファス合金 (金属ガラス) の特性、技術動向とナノ・マイクロデバイス、ナノインプリントへの応用

2011年12月22日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、金属ガラス (アモルファス合金) の基礎から解説し、金属ガラスの二次加工、金属ガラスの応用例と実用化のポイントについて詳解いたします。

フッ素系撥水撥油剤の特性と新規撥水撥油剤の開発

2011年12月19日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、フッ素化合物、撥水・撥油の基礎から解説し、従来の撥水撥油剤、代替品の問題点と、課題解決のための分子設計・性能について解説いたします。

UVナノインプリントの基礎と高スループット化へ向けた要素技術

2011年10月7日(金) 10時30分16時30分
大阪府 開催

本セミナーでは、ナノインプリント技術の基礎から解説し、光ナノインプリントの原理から高スループット化・高機能化に向けた要素プロセス・材料・最近の応用事例について詳解いたします。

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